基本信息:
- 专利标题： 酸化亜鉛系焼結体、該焼結体からなる酸化亜鉛系スパッタリングターゲット及び該ターゲットをスパッタリングして得られた酸化亜鉛系薄膜
- 专利标题（英）：Zinc-based sintered body oxide, zinc oxide-based thin film obtained by sputtering a zinc oxide based sputtering target and the target consisting of a sintered body
- 专利标题（中）：氧化锌烧结氧化钛，氧化锌基于通过溅射的基于氧化锌的溅射靶和由烧结体的靶得到的薄膜
- 申请号：JP2014519327 申请日：2013-09-02
- 公开(公告)号：JPWO2014054361A1 公开(公告)日：2016-08-25
- 发明人： 英生 高見 , 英生 高見 , 淳史 奈良 , 淳史 奈良
- 申请人： Jx金属株式会社
- 申请人地址： 東京都千代田区大手町一丁目1番2号
- 专利权人： Jx金属株式会社
- 当前专利权人： Ｊｘ金属株式会社
- 当前专利权人地址： 東京都千代田区大手町一丁目1番2号
- 代理人： 小越 勇; 小越 一輝
- 优先权： JP2012220320 2012-10-02
- 主分类号： C04B35/453
- IPC分类号： C04B35/453 ; C23C14/08 ; C23C14/34
Zinc oxide (ZnO) as a main component, while containing gallium to be an n-type dopant for the zinc oxide (Ga) or aluminum (Al) or boron (Bs), carbon containing 10～300Wtppm, and cobalt selected from (Co), nickel (Ni), iron (Fe), copper (Cu), molybdenum (Mo), ruthenium (Ru), rhodium (Rh), tungsten (W), iridium (Ir), gold (Au) metal to be contained at least one metal element M, the metal M is at least a part or all of remaining in the sintered body as a metal, zinc making up the zinc oxide-based sintered compact and the n-type dopant and the total metal elements concentration of 0.05 to 25.0 atomic percent in adjusted zinc oxide-based sintered body of M, to provide a thin film obtained by sputtering a sputtering target and the target consisting of a sintered body.
.BACKGROUND