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1. 发明专利

JP2019003041A 発光装置审中-公开
公开(公告)号：JP2019003041A
公开(公告)日：2019-01-10
申请号：JP2017117736
申请日：2017-06-15
申请人： HAMAMATSU PHOTONICS KK
发明人： TAKIGUCHI MASARU , HIROSE KAZUYOSHI , KUROSAKA YOSHITAKA , SUGIYAMA TAKAHIRO , NOMOTO YOSHIAKI , UENOYAMA SO
IPC分类号： G02F1/29 , G02F1/015 , H01S5/18
摘要：【課題】空間光変調素子から出射される変調後の光に対する半導体発光素子による減衰や回折作用を低減することができる発光装置を提供する。【解決手段】発光装置1Aは、光出射面10aに垂直な方向に対して傾斜した方向に光Lを出射する半導体発光素子10Aと、光出射面10aと平行に対向する光入出射面20aを有し、光入出射面20aから入射した光Lを反射しつつ変調する空間光変調素子20とを備える。半導体発光素子10Aは、活性層13、位相変調層16A、及び電極18,19を有する。位相変調層16Aの複数の異屈折率領域16bの重心は、仮想的な正方格子の格子点から離れて配置され、格子点周りに各異屈折率領域16b毎に設定された回転角度を有する。半導体発光素子10Aは領域8a,8bを含む。電極18,19は領域8aに設けられ、光Lは領域8aの光出射面10aから出射する。変調後の光Lは領域8bを透過する。【選択図】図1

2. 发明专利

JP2010039206A Optical filter 有权
标题翻译：光学过滤器
公开(公告)号：JP2010039206A
公开(公告)日：2010-02-18
申请号：JP2008202170
申请日：2008-08-05
申请人： Hamamatsu Photonics Kk , 浜松ホトニクス株式会社
发明人： NOMOTO YOSHIAKI , OBAYASHI YASUSHI
IPC分类号： G02B5/28 , G02B5/26
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical filter of deterring a prescribed wavelength band of light from being transmitted, capable of restraining a ripple, and manufactured easily.
SOLUTION: This optical filter is provided with a translucent substrate 12, a filter part 16 provided on a main face 12a of the substrate 12, having a refractive index varied continuously or stepwisely and periodically along a direction substantially orthogonal to the main face 2a, and having a fusiform shape of refractive index distribution, and a matching layer 18 layered on the filter part, the matching layer 18 is constituted by layering low refractive index layers having the first refractive index alternately with high refractive index layers having the second refractive index higher than the first refractive index, the outermost layer is the low refractive index layer, an optical film thickness is about 1/4 of the center wavelength of the prescribed wavelength band, and the optical film thickness adjacent to the outermost layer is about 1/2 of the center wavelength.
COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种防止传输的规定波长带的光滤波器，能够抑制纹波，并且容易制造。解决方案：该滤光器设置有透光性基板12，设置在基板12的主面12a上的过滤部16，折射率连续或逐步且沿着与主面大致正交的方向周期性地变化 2a，具有折射率分布的梭形形状，以及层叠在过滤器部分上的匹配层18，匹配层18通过将具有第一折射率的低折射率层与具有第二折射率的高折射率层交替地层叠而构成指数高于第一折射率，最外层是低折射率层，光学膜厚度是规定波长带的中心波长的约1/4，并且与最外层相邻的光学膜厚度为约1 / 2的中心波长。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

3. 发明专利

JP2014216330A 半導体レーザ装置有权
标题翻译：半导体激光器件
公开(公告)号：JP2014216330A
公开(公告)日：2014-11-17
申请号：JP2013089375
申请日：2013-04-22
申请人：浜松ホトニクス株式会社 , Hamamatsu Photonics Kk
发明人： TAKIGUCHI MASARU , NOMOTO YOSHIAKI
IPC分类号： H01S5/40 , H01S5/06
CPC分类号： H01S5/06 , H01S5/40
摘要：【課題】ビームパターンを変化させることが可能な半導体レーザ装置を提供する。【解決手段】この半導体レーザ装置は、それぞれがレーザ光を出力し、互いに光学的に結合可能な距離で離間して配列した複数の半導体発光部LGと、隣接する半導体発光部LG間の光路長を制御する光路長制御素子Cとを備えている。光路長制御素子Cは、誘電部材C1と、誘電部材C1を移動させる移動素子C2とを備えている。【選択図】図12
摘要翻译：要解决的问题：提供能够改变光束图案的半导体激光器件。解决方案：半导体激光器件包括：多个半导体发光部分LG，每个半导体发光部分LG输出激光束，并且被设置成一定距离光学耦合; 以及用于控制相邻的半导体发光部LG之间的光路长度的光路长度控制元件C. 光路长度控制元件C包括电介质元件C1，用于移动电介质元件C1的移动元件C2。

4. 发明专利

JP2006291328A Electron beam auxiliary irradiation laser ablation film deposition apparatus 有权
标题翻译：电子束辅助辐射激光吸收膜沉积装置
公开(公告)号：JP2006291328A
公开(公告)日：2006-10-26
申请号：JP2005116814
申请日：2005-04-14
申请人： Hamamatsu Photonics Kk , 浜松ホトニクス株式会社
发明人： KITAHARA TADASHI , ICHIKAWA NORIO , NOMOTO YOSHIAKI
IPC分类号： C23C14/22 , C23C14/28
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laser ablation film deposition apparatus capable of forming a thin film with a good film quality, by suppressing evaporation of a liquefied material when using an arbitrary solid material and suppressing production of particulates in solid target ablation.
SOLUTION: The electron beam auxiliary irradiation laser ablation film deposition apparatus is equipped with a target holder 10 which holds the target 11, a substrate holder 20 which holds a substrate 21 for film deposition, an electron beam generator 30 which generates an electron beam, an electron beam-converging device 40 and a laser irradiation device 50. The electron beam-converging device 40 forms an electron lens to converge the electron beam generated by the electron beam generator 30 on a part of the surface of the target 11 and locally liquefies the part of the surface. The laser irradiation device 50 irradiates a laser beam onto the part of the surface of the target 11 liquefied by the electron beam-converging device 40 to perform ablation.
COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够形成具有良好膜质量的薄膜的激光烧蚀膜沉积设备，通过在使用任意的固体材料时抑制液化材料的蒸发并抑制固体靶烧蚀中的微粒的产生。解决方案：电子束辅助照射激光烧蚀膜沉积设备装备有保持靶11的靶保持器10，保持用于膜沉积的衬底21的衬底保持器20，产生电子的电子束发生器30 电子束会聚装置40和激光照射装置50.电子束会聚装置40形成电子透镜以将由电子束发生器30产生的电子束会聚在目标11的表面的一部分上，局部液化表面的一部分。激光照射装置50将激光束照射到由电子束会聚装置40液化的目标物11的表面的一部分上，进行烧蚀。版权所有（C）2007，JPO＆INPIT

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