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1. 发明专利

JP6191954B2 基板処理方法および基板処理装置有权
公开(公告)号：JP6191954B2
公开(公告)日：2017-09-06
申请号：JP2013181510
申请日：2013-09-02
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：根来世 , 村元僚 , 永井泰彦 , 大須賀勤 , 岩田敬次
IPC分类号： H01L21/304

2. 发明专利

JP6191953B2 基板処理方法および基板処理装置有权
公开(公告)号：JP6191953B2
公开(公告)日：2017-09-06
申请号：JP2013181509
申请日：2013-09-02
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：根来世 , 村元僚 , 永井泰彦 , 大須賀勤 , 岩田敬次
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： B05D3/105 , B05D1/36 , H01L21/67028 , H01L21/67051

3. 发明专利

JP6188139B2 基板処理方法および基板処理装置有权
公开(公告)号：JP6188139B2
公开(公告)日：2017-08-30
申请号：JP2013181508
申请日：2013-09-02
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：根来世 , 村元僚 , 永井泰彦 , 大須賀勤 , 岩田敬次
IPC分类号： B08B3/08 , B08B3/04 , H01L21/306 , G02F1/13 , H01L21/304

4. 发明专利

JP6222818B2 基板処理方法および基板処理装置有权
公开(公告)号：JP6222818B2
公开(公告)日：2017-11-01
申请号：JP2013187627
申请日：2013-09-10
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：根来世 , 永井泰彦 , 岩田敬次
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/027
CPC分类号： B08B3/10 , H01L21/67028 , H01L21/67103 , H01L21/6715 , B08B7/00 , B08B7/0035 , B08B7/0064 , B08B7/0071

5. 发明专利

JP5852927B2 基板処理方法有权
公开(公告)号：JP5852927B2
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：JP2012144295
申请日：2012-06-27
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：根来世 , 永井泰彦
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/027

6. 发明专利

JP6229939B2 基板処理装置有权
公开(公告)号：JP6229939B2
公开(公告)日：2017-11-15
申请号：JP2013249548
申请日：2013-12-02
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：根来世 , 永井泰彦 , 岩田敬次 , 阿野誠士
IPC分类号： B08B3/08 , H01L21/306 , G02F1/13 , H01L21/304

7. 发明专利

JP6222817B2 基板処理方法および基板処理装置有权
公开(公告)号：JP6222817B2
公开(公告)日：2017-11-01
申请号：JP2013187626
申请日：2013-09-10
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：根来世 , 永井泰彦 , 岩田敬次 , 大須賀勤 , 村元僚
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/67028 , G03F7/422 , H01L21/67103 , H01L21/6715 , H01L21/31133

8. 发明专利

JP2015106699A 基板処理装置有权
标题翻译：基板加工设备
公开(公告)号：JP2015106699A
公开(公告)日：2015-06-08
申请号：JP2013249548
申请日：2013-12-02
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：根来世 , 永井泰彦 , 岩田敬次 , 阿野誠士
IPC分类号： B08B3/08 , H01L21/306 , G02F1/13 , H01L21/304
摘要：【課題】第1液と第2液とが混ざり合うことにより発生する気体による影響を取り除くことができ、これにより、基板への混合液の供給を安定的に行うことができる、基板処理装置を提供すること。【解決手段】基板処理装置1は、基板Wを保持するスピンチャック5と、硫酸と、過酸化水素水とを混合して、SPMを生成するためのSPMノズル12と、SPMノズル12に接続され、硫酸と過酸化水素水とが混ざり合うことによりSPMノズル12の内部に発生する気体(水蒸気)を、SPMノズル12外に導出する気体導出配管17とを含む。SPMノズル12の内部で生成されたSPMが、スピンチャック5に保持されている基板Wに供給される。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够消除第一液体与第二液体混合时产生的气体的冲击的基板处理装置，从而稳定地将液体供给到基板。解决方案：基板处理装置1包括：用于保持基板W的旋转卡盘5; 用于通过混合硫酸和过氧化氢溶液产生SPM的硫酸 - 过氧化氢混合物（SPM）喷嘴12; 以及气体导出管17，其与SPM喷嘴12连接以便在SPM喷嘴12的外部引出当硫酸与所述SPM喷嘴12混合时在SPM喷嘴12内产生的气体（水蒸汽）过氧化氢溶液。在SPM喷嘴12内产生的SPM被供给到由旋转卡盘5保持的基板W。

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