会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 1. 发明专利
    • 基板処理装置及び処理基板の製造方法
    • 基板加工装置及制造加工基板的方法
    • JP2014216391A
    • 2014-11-17
    • JP2013090693
    • 2013-04-23
    • 株式会社荏原製作所Ebara Corp
    • YOKOYAMA TOSHIOKUNISAWA JUNJIMIYAZAKI MITSURUHONBO MITSUAKITOYOMURA NAOKI
    • H01L21/683
    • H01L21/68
    • 【課題】基板の跳ね上がりを回避することができる基板処理装置及び処理基板の製造方法を提供する。【解決手段】基板処理装置は、第1及び第2のローラ11A、11Bが基板Wを保持する第1の保持位置と、基板Wから離れた第1の解除位置と、の間を移動可能な第1の基板保持装置10と、第3のローラ23Aが第1及び第2のローラ11A、11Bと協働して基板Wを保持する第2の保持位置と、基板Wから離れた第2の解除位置と、の間を移動可能な第2の基板保持装置20と、基板Wの平面位置を所定の位置に維持する基板平面位置維持部31と、制御部61とを備える。第2の基板保持装置20は、第2の保持位置にあるときに基板Wに向けて第3のローラ23Aを押し付ける押し付け装置26を有する。制御部61は、基板Wの保持を解除する際に、第2の基板保持装置20の移動を開始させた後に、第1の基板保持装置10の移動を開始させる。【選択図】図2
    • 要解决的问题:提供一种基板处理装置和能够避免基板跳起的处理基板的制造方法。解决方案:基板处理装置包括第一基板保持装置10,其能够在第一保持位置 第一和第二辊子11A,11B将衬底W和第一释放位置保持离开衬底W,第二衬底保持装置20可在第三辊23A与第一和第二辊11A,11B配合的第二保持位置之间移动 将基板W和第二释放位置保持在远离基板W的位置,用于将基板W的顶视位置保持在预定位置的基板俯视位置保持部31和控制部61.第二基板 保持装置20包含用于在位于第二保持位置时将第三辊23A朝向基板W按压的按压装置26。 控制部61在剥离基板W的保持时开始第二基板保持装置20的移动,然后开始第一基板保持装置10的移动。