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1. 发明专利

JP6805187B2 振動装置及び振動装置の制御方法有权
公开(公告)号：JP6805187B2
公开(公告)日：2020-12-23
申请号：JP2018000252
申请日：2018-01-04
申请人：株式会社東芝
发明人：丸藤竜之介 , 池橋民雄 , 小川悦治 , 板倉哲朗 , 畠山庸平 , 冨澤泰
IPC分类号： B81B3/00 , G01C19/5726

2. 发明专利

JP6562878B2 角速度取得装置有权
公开(公告)号：JP6562878B2
公开(公告)日：2019-08-21
申请号：JP2016130106
申请日：2016-06-30
申请人：株式会社東芝 , 東芝デバイス&ストレージ株式会社
发明人：冨澤泰 , 山本悠 , 池橋民雄
IPC分类号： B81B3/00 , H01L29/84 , G01C19/5762

3. 发明专利

JP2019052929A センサ装置审中-公开
公开(公告)号：JP2019052929A
公开(公告)日：2019-04-04
申请号：JP2017177060
申请日：2017-09-14
申请人：株式会社東芝
发明人：丸藤竜之介 , 池橋民雄 , 冨澤泰 , 小川悦治 , 前田舜太
IPC分类号： G01C19/5762
摘要：【課題】捕捉及び解放機構を有するセンサ装置において、異物の発生や可動体或いは捕捉及び解放機構の変形を抑制することが可能な構造を提供する。【解決手段】実施形態に係るセンサ装置は、振動可能な可動体11と、振動している可動体11を捕捉し、捕捉された可動体11を解放することが可能な捕捉及び解放機構14とを備え、捕捉及び解放機構14は、可動体11が接触することで可動体の振動を停止させることが可能なストッパー部14bと、可動体11とストッパー部14bとの間に働く力を抑制する弾性部材14cとを含む。【選択図】図2

4. 发明专利

JP6430355B2 センサ装置审中-公开
公开(公告)号：JP6430355B2
公开(公告)日：2018-11-28
申请号：JP2015204777
申请日：2015-10-16
申请人：株式会社東芝 , 東芝デバイス&ストレージ株式会社
发明人：池橋民雄 , 齋藤友博 , 丸藤竜之介 , 小川悦治
IPC分类号： B81B3/00 , H01L29/84 , G01L9/00
CPC分类号： G01L9/0072 , G01L9/0042 , G01L9/12

5. 发明专利

JP2017164839A 電子装置及び電子装置の製造方法有权
公开(公告)号：JP2017164839A
公开(公告)日：2017-09-21
申请号：JP2016051228
申请日：2016-03-15
申请人：株式会社東芝
发明人：藤本明 , 中村直文 , 池橋民雄
IPC分类号： B81C1/00 , H01L23/02 , H01G5/16 , H01G7/00 , B81B7/02
CPC分类号： B81B3/0075 , B81C1/00293 , B81C1/00674 , B81B2201/0221 , B81B2201/0235 , B81B2203/0307 , B81B2203/0315 , B81B2207/015 , B81C2201/0123 , B81C2201/0132 , B81C2201/053 , B81C2203/0136 , B81C2203/0145
摘要：【課題】適切な保護膜を有する電子装置を提供する。【解決手段】実施形態に係る電子装置は、下地領域10と、下地領域上に設けられ、可動部分を有する素子部20と、素子部を覆い、その内側にキャビティ40を形成する保護膜30とを備え、保護膜は、下地領域の主面に対して平行な方向に延伸した穴h1が設けられた第1の保護層31と、第1の保護層上に設けられ且つ穴を塞ぐ第2の保護層32とを含む。【選択図】図1

6. 发明专利

JP2016200512A ジャイロセンサの角速度の取得方法及び取得装置有权
标题翻译：陀螺仪传感器的采集方法和采集装置的角速度
公开(公告)号：JP2016200512A
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：JP2015081227
申请日：2015-04-10
申请人：株式会社東芝
发明人：池橋民雄
IPC分类号： G01C19/5755 , H01L29/84 , G01C19/5726
CPC分类号： G01C19/5726 , G01C19/5762
摘要：【課題】可動体に強制振動を継続的に与えることなく的確な検出動作を行うことが可能なジャイロセンサの角速度の取得方法を提供する。【解決手段】実施形態に係るジャイロセンサの角速度の取得方法は、第1の方向に振動している可動体に働くコリオリ力に基づく第2の方向の振動の振幅に依存する所定物理量を検出することと(S13)、検出された所定物理量に基づいて可動体の角速度を算出することと(S15)、を備え、所定物理量は、コリオリ力に基づく第2の方向の振動が非定常状態であるときに検出される。【選択図】図4
摘要翻译：本发明提供了获得可在不使强制振动所述可移动体连续角速度执行精确的检测操作的陀螺传感器的方法。获得根据本实施例的陀螺传感器的角速度的方法，检测依赖于在基于作用在可移动体的科里奥利力在第二方向上的振动的振幅的规定的物理量在第一方向上振动它和（S13），它和（S15），用于计算基于所述检测到的预定物理量的可移动体的角速度，其包括一预定物理量，基于科里奥利力的第二方向的振动处于非稳定状态这是当检测到。点域4

7. 发明专利

JP6917962B2 ICチップ有权
公开(公告)号：JP6917962B2
公开(公告)日：2021-08-11
申请号：JP2018159528
申请日：2018-08-28
申请人：株式会社東芝
发明人：池橋民雄 , 山崎宏明
IPC分类号： H01H37/76 , H01H85/02 , H01L21/82

8. 发明专利

JP6759255B2 ジャイロセンサシステム有权
公开(公告)号：JP6759255B2
公开(公告)日：2020-09-23
申请号：JP2018000269
申请日：2018-01-04
申请人：株式会社東芝
发明人：池橋民雄
IPC分类号： G01C19/5726 , H01L29/84 , B81B3/00 , G01C19/5762

9. 发明专利

JP6461030B2 電子装置及び電子装置の製造方法有权
公开(公告)号：JP6461030B2
公开(公告)日：2019-01-30
申请号：JP2016051228
申请日：2016-03-15
申请人：株式会社東芝 , 東芝デバイス&ストレージ株式会社
发明人：藤本明 , 中村直文 , 池橋民雄
IPC分类号： B81C1/00 , H01L23/02 , H01G5/16 , H01G7/00 , B81B7/02

10. 发明专利

JP2016197659A シリコンゲルマニウムを含むデバイスおよびその製造方法审中-公开
标题翻译：含有硅锗的装置及其制造方法
公开(公告)号：JP2016197659A
公开(公告)日：2016-11-24
申请号：JP2015077048
申请日：2015-04-03
申请人：株式会社東芝
发明人：藤本明 , 中村直文 , 池橋民雄
IPC分类号： H01L21/20
CPC分类号： B81B3/0072 , B81C1/00365 , B81C2201/0167 , B81C2201/0169
摘要：【課題】応力の低減化が図れたシリコンゲルマニウムを含むデバイスの製造方法を提供すること。【解決手段】製造方法は、非晶質層1上に非晶質金属層2を形成する工程と、非晶質金属層2上に、金属を含み、結晶面が所定の面に配向する金属層2を形成する工程と、金属層2上、にシリコンを含む半導体および前記金属層に含まれる前記金属と同一の金属を含む第1の層を形成する工程とを含む。前記製造方法は、さらに、前記第1の層を、結晶面が前記所定の面に配向する前記半導体と前記金属との化合物を含む第2の層4aに変える工程と、第2の層4a上に、結晶面が前記所定の面に配向する多結晶シリコンゲルマニウムを含む第3の層5を形成する工程とを含む。【選択図】図5
摘要翻译：要解决的问题：提供一种包含应力降低的硅锗的器件的制造方法。解决方案：一种制造方法包括在非晶层1上形成非晶态金属层2的步骤，形成金属层的步骤 2，在非晶质金属层2上含有金属并具有定向到预定平面的晶面的步骤，以及形成包含含有与金属层中所含的硅和与金属相同的金属的半导体的第一层的步骤金属层2.制造方法还包括将第一层改变为含有金属化合物的第二层4a和具有定向到预定平面的晶面的半导体的步骤，以及形成第三层5的步骤，含有在第二层4上具有定向到预定平面的晶面的多晶硅锗。选择的图示：图5

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