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    • 1. 发明专利
    • 表示装置及び電子機器
    • 显示设备和电子设备
    • JP2015043064A
    • 2015-03-05
    • JP2014032622
    • 2014-02-24
    • 株式会社半導体エネルギー研究所Semiconductor Energy Lab Co Ltd
    • SHISHIDO HIDEAKIMIYAKE HIROYUKIINOUE KIYOKOTOYOTAKA KOHEIKUSUNOKI KOJI
    • G09F9/30G02F1/1345G02F1/1368H01L29/786
    • G02F1/136286G02F1/136204H01L27/1225H01L27/124H01L29/66
    • 【課題】新規な表示装置を提供する。【解決手段】画素部と、画素部の外側に配置された駆動回路部と、を有し、画素部は、マトリクス状に配置された画素電極と、画素電極に電気的に接続されたトランジスタと、を有し、トランジスタは、ゲート電極と、ゲート電極上のゲート絶縁層と、ゲート絶縁層上の酸化物半導体層と、酸化物半導体層上のソース電極及びドレイン電極と、を有し、駆動回路部は、ゲート電極と同一工程で形成される第1の配線乃至第3の配線と、ソース電極及びドレイン電極と同一工程で形成される第4の配線乃至第6の配線と、画素電極と同一工程で形成される第7の配線と、第2の配線と第5の配線が交差する第1の領域と、第3の配線と第6の配線が交差する第2の領域と、を有し、第1の配線と第4の配線は、第7の配線を介して接続され、第2の領域は、第1の領域よりも配線間の距離が長い。【選択図】図3
    • 要解决的问题:提供一种新颖的显示装置。解决方案:显示装置包括:像素部分; 以及配置在像素部的外侧的驱动电路部。 像素部分包括:以矩阵形式布置的像素电极; 以及与像素电极电连接的晶体管。 晶体管包括:栅电极; 栅电极上的栅极绝缘层; 栅极绝缘层上的氧化物半导体层; 氧化物半导体层上的源电极和漏电极。 驱动电路部分包括:以与栅极电极相同的工艺形成的第一至第三布线; 在与源电极和漏电极相同的工艺中形成第四至第六布线; 以与像素电极相同的工序形成第七布线; 第二布线和第五布线彼此交叉的第一区域; 以及第三布线和第六布线彼此交叉的第二区域。 第一布线和第四布线经由第七布线连接,并且第二区域在布线之间的距离比第一区域中布线的距离更长。
    • 6. 发明专利
    • Semiconductor device and manufacturing method of the same
    • 半导体器件及其制造方法
    • JP2013191648A
    • 2013-09-26
    • JP2012055292
    • 2012-03-13
    • Semiconductor Energy Lab Co Ltd株式会社半導体エネルギー研究所
    • YAMAZAKI SHUNPEISHISHIDO HIDEAKIKUWABARA HIDEAKI
    • H01L29/786G02F1/1368H01L21/28H01L29/41H01L29/417H01L51/50H05B33/14
    • PROBLEM TO BE SOLVED: To correct the tendency that electric characteristics vary depending on a top surface shape of an oxide semiconductor layer, a top surface shape of a source electrode layer, a top surface shape of a drain electrode layer and positional relationship among the top surface shapes.SOLUTION: A semiconductor device comprises an oxide insulation film provided on a source electrode layer and a drain electrode layer. A circumference of the source electrode layer is arranged on an inner side of a circumference of an oxide semiconductor layer, and a circumference of the drain electrode layer is arranged on an inner side of the circumference of the oxide semiconductor layer, and end faces of the oxide semiconductor layer are covered with the oxide insulation film. The semiconductor device has a layout where a distance between the circumference of the source electrode layer and the circumference of the oxide semiconductor layer is equal to or more than a channel length L, and a layout where a distance between the circumference of the drain electrode layer and the circumference of the oxide semiconductor layer is equal to or more than the channel length L.
    • 要解决的问题:为了校正电特性根据氧化物半导体层的顶表面形状,源极电极层的顶表面形状,漏电极层的顶表面形状和顶部之间的位置关系而变化的趋势 表面形状。解决方案:半导体器件包括设置在源电极层和漏电极层上的氧化物绝缘膜。 源极电极层的周围配置在氧化物半导体层的周围的内侧,漏极电极层的周围配置在氧化物半导体层的周围的内侧, 氧化物半导体层被氧化物绝缘膜覆盖。 半导体器件具有其中源极电极层的周长与氧化物半导体层的周长之间的距离等于或大于沟道长度L的布局,以及布置在漏极电极层的周长之间的距离 并且氧化物半导体层的周长等于或大于沟道长度L.