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1. 发明专利

JP2017019063A 研磨具审中-公开
标题翻译：抛光工具
公开(公告)号：JP2017019063A
公开(公告)日：2017-01-26
申请号：JP2015139802
申请日：2015-07-13
申请人：株式会社リコー
发明人：田中竜也 , 張軍 , 沢田清孝 , 増尾英和 , 菊田航 , 橋谷田剛 , 星野祐太朗 , 平川利和 , 寒河江英利 , 甲斐聡 , 徳脇泰輔
IPC分类号： B24D11/04 , B24D3/00 , B24D11/00
摘要：【課題】研磨具であって、加工面に対して化学的作用をもたらしたのちに機械的に水垢を除去することを目的とする。【解決手段】吸水性を持つ発泡弾性体領域及び砥粒を固定した研磨シート領域を含む研磨具であって、発泡弾性体領域は、研磨シート領域によって構成される研磨面から突出して配置され、研磨対象物を溶解あるいは軟化させる機能を持つ機能性物質を含むことを特徴とする。【選択図】図3
摘要翻译：本发明提供一种抛光工具，其目的是在加工表面上带来后化学机械作用除去水垢。本发明涉及一种抛光工具，包括在弹性泡沫区和磨料具有水吸收和固定，弹性泡沫区域被布置成从由研磨片区域构成的抛光表面突出的磨料片区域，其特征在于它包含具有溶解或软化抛光对象的功能的功能材料。点域

2. 发明专利

JP2015175728A マイクロデバイス及びそれを備えた画像形成装置审中-公开
标题翻译： MICRODEVICE和图像形成装置，包括它们
公开(公告)号：JP2015175728A
公开(公告)日：2015-10-05
申请号：JP2014052377
申请日：2014-03-14
申请人：株式会社リコー
发明人：野口英剛 , 増尾英和 , 星野祐太朗 , 加藤英記 , 安藤友一 , 長久武
IPC分类号： G01J1/02
摘要：【課題】メンブレン部を支持する梁部が破断することを防止できるマイクロデバイスを提供する。【解決手段】マイクロデバイス10は、基板5と、基板5上に梁部3によって中空状態に支持されて設けられたメンブレン部2とを備える。梁部3は、複数のストリップ部31〜36を縦続して連結して構成されたメアンダ形状を有し、メンブレン部2の縁端部を基板5に連結する。梁部3は更に、メンブレン部2の縁端部と、複数のストリップ部31〜36のうちメンブレン部2に最も近い第1のストリップ部31とを連結する第1の補強部11を備える。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：提供一种微型装置，其构造成防止支撑膜部件的梁部分破裂。微型装置10包括：基板5; 以及设置在基板5上并以中空状态的梁部3支撑的膜部2。梁部3具有通过垂直连接多个带状部31-36而形成的曲折形状。膜部分2的边缘连接到基板5.梁部分3还包括用于将膜部分2的边缘连接到最靠近膜部分2的第一条带部分31的第一加强部分11，带状部件31-36。

3. 发明专利

JP2018155733A 化学発光分析装置、血液浄化装置、及び血液浄化システム审中-公开
公开(公告)号：JP2018155733A
公开(公告)日：2018-10-04
申请号：JP2017249296
申请日：2017-12-26
申请人：株式会社リコー
发明人：梁田敏雄 , 橋口雅史 , 福島安秀 , 星野祐太朗 , 鷹尾幹彦
IPC分类号： A61M1/14 , G01N21/76
摘要：【課題】従来に比べて設置が容易な化学発光分析装置を提供する。【解決手段】血液浄化装置の排液と試薬を反応させる反応器111と、反応器111で生じた化学発光の発光強度を計測する光検出器112と、を備えた化学発光分析装置100において、次のような構成を備える。血液浄化装置の排液流路から反応器111に排液を輸送する排液送液手段113と、反応器111に試薬を輸送する試薬送液手段114を備える。加えて、反応器111に輸送されて反応した後の排液と試薬の混合液の流路を、血液浄化装置の排液流路に連結する連結部123と、電気的インターフェース部165も備える。【選択図】図4

4. 发明专利

JP2017013197A 研磨具及びその製造方法审中-公开
标题翻译：抛光工具及其制造方法
公开(公告)号：JP2017013197A
公开(公告)日：2017-01-19
申请号：JP2015133870
申请日：2015-07-02
申请人：株式会社リコー
发明人：星野祐太朗 , 張軍 , 沢田清孝 , 増尾英和 , 田中竜也 , 菊田航 , 橋谷田剛 , ▲高▼橋富廣
IPC分类号： B24D3/28 , B24D3/00
摘要：【課題】自生発刃する研磨具であって、研磨の際に研磨面以外に積層している研磨材や固定材の分解や剥離を防ぐ。【解決手段】基材と、基材上に複数配置され、複数の砥粒がアルカリ性の液体に溶解する固定材によって固定された混合物及びアルカリ性の液体に非溶解である被覆材によって構成される研磨剤集合体とを含み、混合物と被覆材とが、基材上において研磨剤集合体が配置された面に対して垂直な方向に交互に積層されて構成され、積層された混合物のうち表面に露出した層以外の層が、被覆材によって覆われていることを特徴とする。【選択図】図6
摘要翻译：公开了一种用于自锐性的研磨工具，防止分解和磨料和固定材料的分离除了抛光表面在抛光期间被层叠。和基板，设置在基板上的多个，抛光由多个磨粒固定在混合物和碱性液体通过固定构件可溶于碱性液体涂料的不溶性的剂和收集，该混合物和涂层材料，在一个方向上交替地堆叠垂直于所述磨料聚集体的平面被设置在基板上，层叠混合物的表面比暴露的层以外层，其特征在于它是由覆盖材料覆盖。点域6

5. 发明专利

JP6476924B2 研磨シート、研磨具、及び、研磨方法有权
公开(公告)号：JP6476924B2
公开(公告)日：2019-03-06
申请号：JP2015017162
申请日：2015-01-30
申请人：株式会社リコー
发明人：沢田清孝 , 張軍 , 増尾英和 , 菊田航 , 田中竜也 , ▲高▼橋富廣 , 橋谷田剛 , 星野祐太朗 , 肥塚恭太
IPC分类号： B24D3/00 , B24D11/02 , B24D11/00

6. 发明专利

JP2017020018A 砥粒、研磨具、及び、砥粒の製造方法审中-公开
标题翻译：研磨剂，研磨工具，和制造方法的磨粒
公开(公告)号：JP2017020018A
公开(公告)日：2017-01-26
申请号：JP2016137985
申请日：2016-07-12
申请人：株式会社リコー
发明人：菊田航 , 張軍 , 沢田清孝 , 橋谷田剛 , 増尾英和 , 星野祐太朗 , 田中竜也 , ▲高▼橋富廣
IPC分类号： B24B37/00 , H01L21/304 , C09K3/14
摘要：【課題】加工能率を向上させることが可能な砥粒、研磨具、及び、砥粒の製造方法を提供する。【解決手段】三次粒子4としての砥粒は、微細な一次粒子1が結合材を介さずに結合して形成された二次粒子2が結合材3により更に結合して形成されるものである。この砥粒においては、一次粒子1同士の結合力が、二次粒子2と結合材3の結合力よりも弱いため、研磨時に砥粒が二次粒子2単位で研磨具7から脱落することがなく、砥粒の平坦摩耗状態を維持できる。【選択図】図1
摘要翻译：的处理效率提高到能够磨粒，抛光工具的，并且提供这些磨料颗粒的制造方法。一种磨料如叔粒子4是那些微细的一次粒子，而无需使用粘合剂二次粒子2 1通过键合形成的被形成通过接合材料3进一步键合。在该磨料颗粒，一次粒子1之间的结合力，比二次粒子2和粘合剂3，磨料颗粒的结合力弱从在二次粒子2个单位脱落磨削工具7在抛光期间无，所以能够保持磨粒的磨损的平坦状态。点域1

7. 发明专利

JP2016017794A 光学センサとその製造方法审中-公开
标题翻译：光传感器和制造传感器的方法
公开(公告)号：JP2016017794A
公开(公告)日：2016-02-01
申请号：JP2014139508
申请日：2014-07-07
申请人：株式会社リコー
发明人：安藤友一 , 野口英剛 , 加藤英記 , 長久武 , 増尾英和 , 星野祐太朗
IPC分类号： G01J1/02
摘要：【課題】光学センサにおいて、バラツキが少なく、所望のセンサ視野角を得ることができる。【解決手段】光学面を有する第1の層(13)と、センサ部(10)とを有する第2の層(1)と、第2の層(1)と接合され第2の層(1)に対し第1の層(13)と逆側に位置する第3の層(16)とを備える光学センサの製造方法において、第2の層(1)と第3の層(16)とを接合する接合工程と、接合工程の後、第2の層(1)の一面を研磨する研磨工程と、研磨工程の後、第2の層(1)に光を通過させる貫通孔(12)を設ける工程とを備える。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供具有小的未对准的光学传感器，其可以获得期望的角度视场。解决方案：制造具有光学表面的第一层（13）的光学传感器的方法，第二层（1）具有传感器部分（10）和连接到第二层（1）并且位于第二层（1）的与第一层（13）相对的一侧的第三层（16）包括以下步骤：将第二层层（1）和第三层（16）在一起; 抛光第二层（1）的表面; 以及在所述第二层（1）中形成通孔（12），以使光线依次通过。选择的图：图1

8. 发明专利

JP2016014627A 半導体装置、半導体装置の製造方法及び赤外線センサ审中-公开
标题翻译：半导体器件，半导体器件制造方法和红外传感器
公开(公告)号：JP2016014627A
公开(公告)日：2016-01-28
申请号：JP2014137692
申请日：2014-07-03
申请人：株式会社リコー
发明人：長久武 , 安藤友一 , 加藤英記 , 野口英剛 , 増尾英和 , 星野祐太朗
IPC分类号： G01J1/02
摘要：【課題】S/N比の悪化を抑制する半導体装置を提供すること。【解決手段】支持基板と絶縁膜とが積層された積層基板を有する半導体装置であって、積層基板上に形成された集積回路と、絶縁膜上に形成された配線層と、配線層に形成され、支持基板に接地電位を供給する電極開口部と、電極開口部の近傍に形成され、配線層における電極開口部が形成された面から支持基板まで延在する接続孔と、電極開口部と接続孔の表面とを含む領域に製膜された導電性材料とを有し、導電性材料は、支持基板と電極開口部とを電気的に接続する、半導体装置が提供される。【選択図】図3
摘要翻译：要解决的问题：提供一种抑制S / N比的劣化的半导体器件。解决方案：本发明提供一种半导体器件，其具有层叠基板和绝缘膜的多层基板，其中半导体器件具有：形成在所述多层基板上的集成电路; 形成在绝缘膜上的布线层; 形成在所述布线层上的用于向所述支撑基板提供地电势的电极开口; 连接孔，形成在电极开口附近并且从形成有电极开口的布线层的表面延伸到支撑基板; 以及在包括电极开口和连接孔的表面的区域中形成为膜形状的导电材料，导电材料电连接支撑基板和电极开口。

9. 发明专利

JP6500331B2 赤外線センサー、赤外線センサーの製造方法。有权
公开(公告)号：JP6500331B2
公开(公告)日：2019-04-17
申请号：JP2014046772
申请日：2014-03-10
申请人：株式会社リコー
发明人：野口英剛 , 安藤友一 , 増尾英和 , 加藤英記 , 長久武 , 星野祐太朗
IPC分类号： G01J1/06 , G01J1/02

10. 发明专利

JP2016140930A 研磨シート、研磨具、及び、研磨方法有权
标题翻译：抛光片，抛光工具和抛光方法
公开(公告)号：JP2016140930A
公开(公告)日：2016-08-08
申请号：JP2015017162
申请日：2015-01-30
申请人：株式会社リコー
发明人：沢田清孝 , 張軍 , 増尾英和 , 菊田航 , 田中竜也 , ▲高▼橋富廣 , 橋谷田剛 , 星野祐太朗 , 肥塚恭太
IPC分类号： B24D3/00 , B24D11/02 , B24D11/00
CPC分类号： B24B37/24
摘要：【課題】従来の研磨シートや研磨具で極めて除去困難な、鏡やガラスに付着した水垢、特にウロコ状態となった水垢をも、鏡やガラスに傷を付けることなく、小さな力で容易に除去可能な研磨シートおよび研磨具を提供する。【解決手段】研磨シートは、一方の面側に表面10bから突出して前記表面10bに平行な上面10a1を有する凸部10aが複数設けられたシート10の、前記凸部10aの上面10a1に第一の砥粒1が、そして、前記表面10bに前記第一の砥粒よりも硬度の高い第二の砥粒3が、それぞれ複数配置された構成を有する。【選択図】図3
摘要翻译：要解决的问题：提供一种抛光片和抛光工具，其可以用常规的抛光片和抛光工具去除非常难以去除的水垢，并且粘附到镜子或玻璃，特别是甚至已经成为可以通过弱的力量容易地通过弱力而不损坏反射镜或玻璃。抛光片10具有其中第一磨粒1布置在凸面10a的上表面10a1上的构造，多个细孔10a具有上表面10a1从表面10b突出并平行于所述表面10b，而具有高于所述第一磨粒的硬度的第二磨粒3布置在所述表面10b上。图3

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