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    • 4. 发明专利
    • III族窒化物単結晶の製造方法
    • 制造III类氮化物单晶的方法
    • JP2015229613A
    • 2015-12-21
    • JP2014116396
    • 2014-06-05
    • 株式会社フジクラ国立研究開発法人産業技術総合研究所
    • 齋藤 学加藤 智久三浦 知則
    • C30B23/06C30B33/00H01L21/304B24B37/04C30B29/38
    • 【課題】結晶性及び純度が高いIII族窒化物単結晶の製造方法を提供する。 【解決手段】III族窒化物単結晶の製造方法は、昇華再結晶法により種結晶5に窒化アルミニウム単結晶6を成長させる単結晶成長工程S1と、単結晶成長工程S1で得られた窒化アルミニウム単結晶6をC面に沿ってスライスしてウェハ61を得るスライス工程S2と、ウェハ61の主面611にCMP処理を施すCMP処理工程S4と、主面611の凹凸の高低差が所定値A未満であるか否かを判定する高低差測定工程S5と、ウェハ61を複数の個片612する個片化工程S7と、高低差が所定値A満である複数の個片612を支持基板80上に並べて配置する再配置工程S8と、を備え、高低差測定工程S4において主面611全体の高低差が所定値A未満であると判定されるまで、支持基板80上に配置された複数の個片612を種結晶5として、工程S1〜S8を繰り返す。 【選択図】 図1
    • 要解决的问题:提供一种制造具有高结晶度和纯度的III族氮化物单晶的方法。解决方案:一种制造III族氮化物单晶的方法包括:生长氮化铝单晶的单晶生长工艺S1 6在晶种5上通过升华重结晶法; 将在单晶生长工序S1中得到的氮化铝单晶6沿着C面切片的切片工序S2,得到晶片61; 对晶片61的主面611进行CMP处理的CMP处理工序S4; 确定主面611的高/低差的差是否小于预定值A的高/低差测量处理S5; 获得多个单件612的形式的晶片61的单件成形工序S7; 以及重新布置处理S8,其在支撑基板80上有序地布置高/低差异小于预定值A的多个单独片612,重复处理S1-S8,而布置在支撑件上的多个单独片612 将基板80用作晶种5,直到在高/低差测量处理S4中确定总体主面611的高/低差小于预定值A.
    • 8. 发明专利
    • 単結晶製造装置及び単結晶製造方法
    • 单晶生产装置和单晶生产方法
    • JP2015096457A
    • 2015-05-21
    • JP2013237071
    • 2013-11-15
    • 株式会社フジクラ国立研究開発法人産業技術総合研究所
    • 畠田 真至加藤 智久三浦 知則
    • C30B23/06
    • 【課題】最適化された成長条件の下で結晶への不純物の混入を防止して高品質の単結晶を製造することができる単結晶製造装置を提供する。 【解決手段】単結晶製造装置1は、内部に原料40を収容する成長坩堝21と、成長坩堝21の外側に配置された外側坩堝22とを備えている。外側坩堝22には、成長坩堝21と外側坩堝22との間に希釈換気用の窒素ガスを流通させるガス流路66が形成されている。単結晶製造装置1は、ガスを外側坩堝22に形成されたガス導入口60からガス流路66に供給して外側坩堝22に形成されたガス排出口67からガス流路60内のガスを外部に排出するガス供給源63と、成長坩堝21に収容された原料40を加熱して昇華させるコイル30とを備えている。 【選択図】図1
    • 要解决的问题:提供能够通过在优化的生长条件下防止杂质污染而制造高质量单晶的单晶生产装置。解决方案:单晶生产装置1包括:用于容纳 材质40内 以及布置在生长坩埚21外部的外部坩埚22.在外部坩埚22中形成有用于在生长坩埚21和外部坩埚22之间通过用于稀释和通风的氮气的气体流路66.单晶生成装置1 包括:从形成在外坩埚22的气体导入口60向气体流路66供给气体的气体供给源63,从形成于外坩埚的气体排出口67排出气体流路66内的气体 22到外面 以及用于加热和升华容纳在生长坩埚21中的材料40的线圈30。