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1. 发明专利

JPWO2017090210A1 顕微鏡、観察方法、及び画像処理プログラム审中-公开
公开(公告)号：JPWO2017090210A1
公开(公告)日：2018-09-13
申请号：JP2015083510
申请日：2015-11-27
申请人：株式会社ニコン
发明人：佐瀬一郎 , 金子泰俊 , 福井達雄
IPC分类号： G01N21/64 , H04N5/225 , H04N5/232 , G02B21/00
CPC分类号： G02B21/367 , G01N21/64 , G01N21/6458 , G02B21/00 , G02B21/02 , G02B21/16 , G02B21/26 , G02B21/368 , G06T7/50 , G06T7/70 , G06T15/08 , G06T2207/10056 , G06T2207/10064 , H04N5/232
摘要：【課題】試料の情報を複数の層に分けて3次元的に取得する際に、複数の層で情報を整合させる。【解決手段】顕微鏡は、蛍光物質を含む試料に照明光を照射する照明光学系と、対物レンズを含む観察光学系と、観察光学系が形成した像を撮像する撮像部と、撮像の結果を用いて画像処理を行う画像処理部と、ステージおよび対物レンズの少なくとも一方を対物レンズの光軸方向に移動させる制御部と、を含み、画像処理部は、対物レンズの焦点位置が第1の位置にあるときの撮像結果により得られた第1の領域における蛍光物質の位置情報と、対物レンズの焦点位置が第2の位置にあるときの撮像結果により得られた第2の領域における蛍光物質の位置情報とのうち、第1の領域と第2の領域との重複領域の少なくとも一部における蛍光物質の位置情報を用いて、第2の領域における蛍光物質の位置情報を補正する。

2. 发明专利

JP6617774B2 顕微鏡装置有权
公开(公告)号：JP6617774B2
公开(公告)日：2019-12-11
申请号：JP2017552258
申请日：2015-11-27
申请人：株式会社ニコン
发明人：佐瀬一郎 , 金子泰俊 , 福井達雄
IPC分类号： G02B21/36 , G01N21/64 , G02B21/00

3. 发明专利

JP2019035973A 露光方法及び露光装置审中-公开
公开(公告)号：JP2019035973A
公开(公告)日：2019-03-07
申请号：JP2018206884
申请日：2018-11-01
申请人：株式会社ニコン
发明人：福井達雄
IPC分类号： G03F7/20
摘要：【課題】レンズアレイを用いつつ、プレートのより適切な位置にマスクのパターンを露光すること。【解決手段】照明光学系を介してマスクに照明光を照射し、マスクに形成されたパターンをレンズアレイを介してプレートに転写する露光方法であって、複数のマスクを、走査方向に交差する非走査方向に沿って配置し、照明光学系及びレンズアレイをマスク及びプレートに対して、走査方向に相対的に移動させ、照明光学系からパターンに照明光を照射し、マスクに形成されたパターンの像をレンズアレイを介してプレートに投影することと、プレートに投影される複数のマスクを互いに走査方向へ相対的に移動させることと、を含む。【選択図】図1

4. 发明专利

JPWO2017090211A1 顕微鏡装置审中-公开
公开(公告)号：JPWO2017090211A1
公开(公告)日：2018-09-06
申请号：JP2015083511
申请日：2015-11-27
申请人：株式会社ニコン
发明人：佐瀬一郎 , 金子泰俊 , 福井達雄
IPC分类号： G02B21/36 , G01N21/64 , H04N5/225 , H04N5/232 , G02B21/00
CPC分类号： G01N21/6458 , G01N21/64 , G01N2201/06113 , G02B21/00 , G02B21/0076 , H04N5/225
摘要：試料に含まれる蛍光物質の一部を活性化する活性化光と、活性化された蛍光物質の少なくとも一部を励起する励起光を照射する照明光学系と、対物レンズと、蛍光物質からの蛍光の少なくとも一部に対して非点収差を発生させる非点収差光学系を有し、蛍光の像を形成する結像光学系と、結像光学系が形成した像を撮像する撮像部と、試料における撮像位置を対物レンズの光軸方向に沿って移動する駆動部と、制御部とを有する顕微鏡であって、制御部は、撮像部に、第1の撮像位置および第1の撮像位置とは異なる第2の撮像位置において、それぞれ複数のフレーム数で撮像させる。

5. 发明专利

JP2017045067A マスク装着装置及び露光装置有权
标题翻译：掩模固定装置和曝光装置
公开(公告)号：JP2017045067A
公开(公告)日：2017-03-02
申请号：JP2016225888
申请日：2016-11-21
申请人：株式会社ニコン
发明人：福井達雄
IPC分类号： H01L21/683 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70733 , G03F7/24 , G03F7/70791
摘要：【課題】基板を効率よく処理可能にするマスク装着装置を提供する。【解決手段】パターンが形成された可撓性のマスク基板を、回転可能な回転ドラムの外周面に巻き付けて装着する。回転ドラムの外周面の接平面と、マスク基板の巻き初めの先端側とがほぼ平行になるようにマスク基板を支持する部材と、回転ドラムと前記支持する部材とを回転ドラムの周方向に関して相対的に移動させる移動装置と、回転ドラムの外周面の周方向に沿って設けられ、マスク基板の表面を保持する吸着力を発生する吸着部材と、マスク基板を前記支持する部材から回転ドラムの外周面に受け渡す際に、回転ドラムを回転させつつ、マスク基板と回転ドラムの外周面との周方向に関する相対的な移動位置の変化に応じて、吸着部材によるマスク基板の吸着力を周方向に変化させる制御装置と、を備える。【選択図】図6
摘要翻译：为了提供用于有效地加工基底的掩模安装设备。在其上形成的图案的柔性掩模基板，安装成围绕所述旋转鼓的外周面卷绕。旋转磁鼓，一个构件和所述掩模基底的用于支撑掩模基板远侧匝的开头的外周面的相对的和切向平面成大致平行，以及用于支撑一个构件并相对于所述旋转磁鼓的旋转滚筒的圆周方向到所述用于移动的移动装置，沿所述旋转滚筒，用于产生抽吸力用于保持掩模基板的表面上，所述掩模基底的从构件的旋转滚筒的外周向支撑的抽吸构件的外周面的周方向上设置通过当在表面上，同时旋转该旋转滚筒中，响应于在相对运动位置的变化在掩模基板的外周面与旋转鼓中，掩模基底的在圆周方向上的抽吸力由抽吸构件之间的周向方向和用于改变所述的控制装置。点域6

6. 发明专利

JP5708501B2 検出方法および検出装置有权
公开(公告)号：JP5708501B2
公开(公告)日：2015-04-30
申请号：JP2011552714
申请日：2011-02-08
申请人：株式会社ニコン
发明人：鬼頭義昭 , 荒井正範 , 福井達雄
IPC分类号： H01L21/02
CPC分类号： G01B11/14 , G01B11/028 , H01L21/67092 , H01L21/681 , H01L22/12

7. 发明专利

JP6286813B2 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法有权
公开(公告)号：JP6286813B2
公开(公告)日：2018-03-07
申请号：JP2012069990
申请日：2012-03-26
申请人：株式会社ニコン
发明人：福井達雄
IPC分类号： G03F7/20 , G01B11/00 , G02B3/00 , G03F7/207

8. 发明专利

JP2017139493A 基板の装着及び取外し装置有权
公开(公告)号：JP2017139493A
公开(公告)日：2017-08-10
申请号：JP2017082087
申请日：2017-04-18
申请人：株式会社ニコン
发明人：福井達雄
IPC分类号： H01L21/683 , B65G49/06 , B65H5/10 , B65H5/14 , B65H5/12 , B65H7/14 , G03F7/20 , H01L21/677
CPC分类号： G03F7/70733 , G03F7/24 , G03F7/70791
摘要：【課題】基板を効率よく処理可能にする基板の装着及び取外し装置を提供する。【解決手段】可撓性を有するシート状の基板を、円筒状のドラムの外周面に沿って湾曲させて装着したり、ドラムの外周面からシート状の基板を取り外したりする為の基板の装着及び取外し装置であって、シート状の基板を予め定められた許容範囲内のたわみで吸着支持する吸着装置と、ドラムと吸着装置とドラムの外周面の周方向に関して相対的に移動させる移動装置と、移動装置による相対的な移動によって、シート状の基板を吸着装置からドラムの外周面に受け渡す際、又はドラムの外周面に装着されたシート状の基板を吸着装置に受け渡す際、ドラムの周方向に関する相対的な移動の位置に応じて吸着装置によるシート状の基板の吸着状態を変化させる制御装置と、を備える。【選択図】図6

9. 发明专利

JP2017126091A 露光方法、露光装置、デバイス製造方法及びマスク审中-公开
公开(公告)号：JP2017126091A
公开(公告)日：2017-07-20
申请号：JP2017083932
申请日：2017-04-20
申请人：株式会社ニコン
发明人：福井達雄
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/22
摘要：【課題】レンズアレイを用いつつ、プレートのより適切な位置にマスクのパターンを露光すること。【解決手段】短冊形状の複数のマスクを走査方向が長手となる向きで、非走査方向に沿って配置し、照明光学系及びレンズアレイとマスク及びプレートとを、マスク及びプレートに沿った走査方向に相対的に移動させ、照明光学系からパターンに照明光を照射し、マスクに形成されたパターンの像をレンズアレイを介してプレートに投影することと、照明光学系及びレンズアレイとマスク及びプレートとの走査方向への相対的な移動中に、走査方向に直交する方向である非走査方向における複数のマスクの間隔を変化させることと、を含む。【選択図】図1

10. 发明专利

JP6132060B2 露光装置有权
公开(公告)号：JP6132060B2
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：JP2016134101
申请日：2016-07-06
申请人：株式会社ニコン
发明人：福井達雄
IPC分类号： H01L21/677 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70733 , G03F7/24 , G03F7/70791

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