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1. 发明专利

JP2020119834A ヒータの温度制御方法、ヒータ及び載置台审中-公开
公开(公告)号：JP2020119834A
公开(公告)日：2020-08-06
申请号：JP2019011538
申请日：2019-01-25
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：河西繁
IPC分类号： H05B3/03 , H05B3/74 , H01L21/02 , H05B3/00
摘要：【課題】低コストで作製可能なヒータにおいて、所望の面内温度分布が容易に得られる技術を提供する。【解決手段】ヒータの温度調整方法であって、前記ヒータは、半導体基板から成る1枚の板状部材と、前記1枚の板状部材の側面に、周方向に間隔をおいて3以上形成された電極と、を有し、当該温度調整方法は、前記電極と他の前記電極との間に通電すると共に、通電する前記電極の組を順次切り替えて、前記板状部材を加熱する加熱工程を有し、前記加熱工程における電極間の通電時間は前記電極の組毎に設定されている。【選択図】図5

2. 发明专利

JP2020068329A 検査装置及び検査方法审中-公开
公开(公告)号：JP2020068329A
公开(公告)日：2020-04-30
申请号：JP2018201035
申请日：2018-10-25
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：秋山直樹 , 斉藤進 , 中山博之 , 河西繁
IPC分类号： G01R31/28 , H01L27/146 , H01L21/66
摘要：【課題】裏面照射型の撮像デバイスの検査において、短時間で検査を行うことができ、また、撮像デバイスが形成された被検査体に対して、面内で均一な光強度分布を有する光の照射を行うことができるようにする。【解決手段】被検査デバイスを検査する検査装置であって、被検査体に形成された被検査デバイスは、配線層が設けられた側とは反対側の面である裏面から光が入射される裏面照射型の撮像デバイスであり、当該検査装置は、前記撮像デバイスの裏面と対向する形態で前記被検査体が載置される載置台を有し、前記載置台は、光透過材料からなる平板状の平板部材を含み、前記被検査体が載置される透過部と、前記透過部を間に挟み前記被検査体と対向する位置に配置され、前記透過部に向けて光を出射する光出射部と、を有し、前記透過部は、前記光出射部からの光を拡散させながら透過する。【選択図】図5

3. 发明专利

JP2017123346A マイクロ波放射アンテナ、マイクロ波プラズマ源およびプラズマ処理装置有权
公开(公告)号：JP2017123346A
公开(公告)日：2017-07-13
申请号：JP2017062270
申请日：2017-03-28
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：池田太郎 , 小松智仁 , 河西繁 , 宮下大幸 , 長田勇輝 , 谷原聡 , 藤野豊
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/31 , H05H1/46
摘要：【課題】マイクロ波のパワー損失や異常放電を抑制しつつ均一なプラズマを形成することができるマイクロ波放射アンテナ、マイクロ波プラズマ源およびプラズマ処理装置を提供すること。【解決手段】アンテナ本体121は、平板状をなし、ガス拡散空間123を挟んで、上部壁121aとマイクロ波放射面を有する下部壁121bとを有し、スロット122に対応する部分に下部壁121bから上部壁121aに至る突出部127が形成されてスロット122は突出部127内に形成され、下部壁121bは、その下面のマイクロ波放射面の環状誘電体部材126に対応する位置に凹部128を有し、環状誘電体部材126は凹部128に嵌め込まれている。【選択図】図4

4. 发明专利

JP5982758B2 マイクロ波照射装置有权
标题翻译：微波照射装置
公开(公告)号：JP5982758B2
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：JP2011192069
申请日：2011-09-02
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：河西繁 , 山▲崎▼ 良二 , 芦田光利 , 小畑雄治 , 田中澄
IPC分类号： H05B6/74 , H05B6/80 , H01L21/31 , H01L21/265 , H01L21/324 , H01L21/268
CPC分类号： H01L21/67017 , H01L21/67109 , H01L21/67115 , H01L21/67248 , H05B6/806

5. 发明专利

JP2016009796A 基板加熱装置、基板支持装置、基板処理装置及び基板処理方法审中-公开
标题翻译：基板加热装置，基板支撑装置，基板加工装置和基板处理方法
公开(公告)号：JP2016009796A
公开(公告)日：2016-01-18
申请号：JP2014130472
申请日：2014-06-25
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：野村正道 , 河西繁 , 木下秀俊 , 森田靖 , 飯塚洋二 , 三浦仁嗣
IPC分类号： H05B6/70 , H05B6/72 , H05B6/74 , H01L21/683 , C23C16/46 , C30B35/00 , H01L21/324 , H01L21/265 , H01L21/205
摘要：【課題】マイクロ波を利用し、基板サイズに関わらず、基板面内で均一な加熱処理を可能とする基板加熱装置を提供する。【解決手段】支持装置5は、載置板21の下方において、載置面21aと平行な方向に等間隔に配置された複数のマイクロ波照射ユニット25を有している。各マイクロ波照射ユニット25は、マイクロ波を発生させるマイクロ波発生装置41と、載置板21に向けてマイクロ波を放射するマイクロ波放射ポート43と、マイクロ波放射ポート43を支持するユニット容器45と、マイクロ波発生装置41からマイクロ波放射ポート43へマイクロ波を伝送するマイクロ波伝送路47と、を備えている。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种基板加热装置，其通过使用微波，能够在基板平面中均匀加热而不管基板尺寸。解决方案：支撑装置5具有多个微波照射单元25，其以规则每个微波照射单元25包括产生微波的微波发生器41，向安装板21辐射微波的微波辐射端口43，用于支撑安装板21的单元容器45。微波辐射端口43和用于将微波从微波发生器41传送到微波辐射端口43的微波传输路径47。

6. 发明专利

JP2015079735A プラズマ処理装置有权
标题翻译：等离子体加工装置
公开(公告)号：JP2015079735A
公开(公告)日：2015-04-23
申请号：JP2014118531
申请日：2014-06-09
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：池田太郎 , 河西繁 , 原恵美子 , 藤野豊 , 長田勇輝 , 中込淳 , 小松智仁
IPC分类号： H01L21/31 , C23C16/511 , H01L21/205 , H05H1/46
CPC分类号： C23C16/511 , C23C16/45565 , C23C16/45574 , H01J37/32192 , H01J37/3222 , H01J37/3244 , H01J2237/332 , H01L21/0217 , H01L21/02211 , H01L21/02274 , H01L21/02532 , H01L21/0262
摘要：【課題】処理容器内にガスを導入するシャワープレートを有し、マイクロ波により表面波プラズマを発生させるプラズマ処理装置において、シャワープレートのガス孔に成膜することを抑制し且つ効率的にプラズマを発生させる。【解決手段】プラズマ処理が行われる処理容器10と、処理容器10内へガスを供給するシャワープレート100を備えたプラズマ処理装置は、シャワープレート100の下端面から下方に突出する垂下部材101を有している。垂下部材101の外側面は、上端部から下端部に向かって外側に広がり、シャワープレート100は、処理容器10内に第1のガスを供給する複数の第1の供給口133と第2のガスを供給する複数の第2の供給口151とを備え、第1のガス供給口133は、垂下部材101の外側面よりも内側に配置され、第2のガス供給口151は、垂下部材の外側面よりも外側に配置されている。【選択図】図4
摘要翻译：要解决的问题：提供一种等离子体处理装置，其具有用于将气体引入处理容器并且通过微波产生表面波等离子体的喷淋板，该等离子体处理装置被设计成防止在气孔中的成膜淋浴板和有效地产生等离子体。解决方案：包括执行等离子体处理的处理容器10和向处理容器10供应气体的喷淋板100的等离子体处理装置具有向下突出的悬挂构件101 从淋浴板100的下端面。悬挂构件101的外表面从其上端部扩展到其下端部。淋浴板100包括向处理容器10供给第一气体的多个第一供给口133和供给第二气体的多个第二支承口151。第一供气口133布置在悬挂构件101的外表面内。第二气体供给口151布置在悬挂构件的外表面的外侧。

7. 发明专利

JP2018151369A 載置台及び電子デバイス検査装置审中-公开
公开(公告)号：JP2018151369A
公开(公告)日：2018-09-27
申请号：JP2017135401
申请日：2017-07-11
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：河西繁 , 藤澤良徳
IPC分类号： H01L21/66 , G01R31/26
摘要：【課題】コスト高を抑制することができる電子デバイス検査装置を提供する。【解決手段】プローバ10はキャリアCやウエハWを載置するステージ11を備え、該ステージ11は、キャリアCが載置されるステージ蓋27と、該ステージ蓋27と当接する冷却ユニット29と、ステージ蓋27及び冷却ユニット29を介してキャリアCに対向するように配置されるLED照射ユニット30とを備え、ステージ蓋27及び冷却ユニット29は光透過部材からなり、冷却ユニット29の冷媒流路28を光が透過可能な冷媒が流れ、LED照射ユニット30はキャリアCを指向する多数のLED32を有し、キャリアCは略円板状のガラス基板24からなり、複数の電子デバイス25が互いに所定の間隔をおいて表面に配置されている。【選択図】図4

8. 发明专利

JP6283438B2 マイクロ波放射アンテナ、マイクロ波プラズマ源およびプラズマ処理装置有权
公开(公告)号：JP6283438B2
公开(公告)日：2018-02-21
申请号：JP2017062270
申请日：2017-03-28
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：池田太郎 , 小松智仁 , 河西繁 , 宮下大幸 , 長田勇輝 , 谷原聡 , 藤野豊
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/31 , H05H1/46

9. 发明专利

JP2017168186A プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017168186A
公开(公告)日：2017-09-21
申请号：JP2016049067
申请日：2016-03-14
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：池田太郎 , 河西繁
IPC分类号： C23C16/511 , H01L21/3065 , H01L21/31 , H05H1/46
CPC分类号： H01J37/32266 , H01J37/3222 , H01J37/32467 , H01J37/32715 , H01J2237/332 , H01J2237/334
摘要：【課題】複数のマイクロ波を共通する一つのマイクロ波透過部材を介して処理容器内に導入するプラズマ処理装置において、マイクロ波透過部材の内部におけるマイクロ波の干渉を効果的に抑制する。【解決手段】マイクロ波透過部材73Bは、板状であり、全体として平面視円環状をなしている。壁部77は、マイクロ波透過部材73Bの上面から上方に突出する突起として3箇所に均等に配設されている。壁部77は、円環状のマイクロ波透過部材73Bの上面において、その円環部を横断するように径方向に長く延設されている。壁部77は、マイクロ波透過部材73Bの内部を周方向に伝播するマイクロ波を反射波によって打消し、マイクロ波透過部材73Bの内部でのマイクロ波の干渉を抑制する。【選択図】図7

10. 发明专利

JP5916467B2 マイクロ波放射アンテナ、マイクロ波プラズマ源およびプラズマ処理装置有权
标题翻译：微波辐射天线，微波等离子体源和等离子体处理装置
公开(公告)号：JP5916467B2
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：JP2012072595
申请日：2012-03-27
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：池田太郎 , 小松智仁 , 河西繁 , 中込淳
IPC分类号： H01L21/3065 , H01P5/103 , H05H1/46
CPC分类号： H01Q1/26 , H01J37/32192 , H01J37/3222 , H05H1/46 , H05H2001/463

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