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1. 发明专利

JP5783527B2 アルミノシリケートの製造方法有权
标题翻译：制造该硅铝酸盐的方法
公开(公告)号：JP5783527B2
公开(公告)日：2015-09-24
申请号：JP2011138099
申请日：2011-06-22
申请人：三菱化学株式会社 , 国立大学法人東京工業大学
发明人：辰巳敬 , 今井裕之 , 横井俊之 , 瀬戸山亨 , 林幹夫
IPC分类号： C01B39/46

2. 发明专利

JP5895705B2 プロピレンの製造方法有权
公开(公告)号：JP5895705B2
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：JP2012117662
申请日：2012-05-23
申请人：国立大学法人東京工業大学 , 三菱化学株式会社
发明人：吉岡真人 , 横井俊之 , 辰巳敬 , 瀬戸山亨
IPC分类号： C07C11/06 , C07C1/20
CPC分类号： Y02P20/52

3. 发明专利

JP2016144804A 光触媒を用いた光水分解反応用電極有权
标题翻译：使用光催化剂的光电水分解反应电极
公开(公告)号：JP2016144804A
公开(公告)日：2016-08-12
申请号：JP2016035141
申请日：2016-02-26
申请人：三菱化学株式会社 , 国立大学法人東京大学
发明人：堂免一成 , 久保田純 , 嶺岸耕 , 瀬戸山亨 , 仮屋伸子
IPC分类号： H01G9/20 , B01J37/08 , B01J37/02 , B01J27/24 , C25B11/06 , C25B11/08 , C25B11/04 , C25B1/04 , B01J35/02
CPC分类号： Y02E60/366
摘要：【課題】光照射下における光水分解反応速度を飛躍的に増大させることができる、効率的で工業的に有利な水素製造用の光水分解反応用電極を提供する。【解決手段】光触媒粒子(10)を構成する光触媒として、オキシナイトライド、ナイトライド、オキシサルファイド、および、サルファイドからなる群から選ばれる1種以上が支持体(20)上に堆積されてなる電極であって、光触媒粒子(10)間ならびに光触媒粒子(10)および支持体(20)間に半導体または良導体(30)を有し、前記半導体または良導体の前駆体で光触媒粒子および支持体表面をコーティングした後に熱処理を行うことにより、前記光触媒粒子間ならびに前記光触媒粒子および前記支持体間に半導体または良導体が付与されており、且つ、半導体または良導体(30)が、所定の材料であることを特徴とする、光水分解反応用電極とする。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于有效地和工业上有效地生产氢的光解水分解反应的电极，其可以在光照射下显着增加光解水分解反应速率。解决方案：提供了一种用于光解水分解反应的电极其通过将构成光催化剂颗粒（10）的光催化剂中的一种或多种从氮氧化物，氧硫化物和硫化物中选出而获得，并且在光催化剂（20）之间具有半导体或良导体（30）颗粒（10）和光催化剂颗粒（10）和载体（20）之间，其中通过涂覆在光催化剂颗粒之间和光催化剂颗粒与载体之间提供半导体或良导体，然后热处理光催化剂颗粒，该支撑表面具有半导体的前体或良好的导管导体和半导体或良导体（30）是预定材料。选择图：图1

4. 发明专利

JP2015131300A 光水分解反応用光触媒および光水分解反応用光触媒の製造方法审中-公开
标题翻译：光致水分解反应的光催化剂，以及生产光催化剂的方法
公开(公告)号：JP2015131300A
公开(公告)日：2015-07-23
申请号：JP2015058528
申请日：2015-03-20
申请人：三菱化学株式会社 , 国立大学法人東京大学 , 国立大学法人筑波大学
发明人：堂免一成 , 前田和彦 , 熊諳珂 , 寺西利治 , 吉永泰三 , 瀬戸山亨 , 仮屋伸子
IPC分类号： B01J27/24 , B01J37/02 , B01J37/16 , B01J37/34 , C01B3/04 , B01J35/02
CPC分类号： Y02E60/364
摘要：【課題】光水分解反応用の触媒であって、同一粒子上に酸化反応用および還元反応用双方の助触媒を併せ持ち、光照射下における光水分解反応速度を飛躍的に増大させることができる、効率的で工業的に有利な水分解反応用光触媒を提供する。【解決手段】光半導体、酸化反応助触媒および還元反応助触媒を備え、光半導体に酸化反応助触媒および還元反応助触媒が担持されてなる光水分解反応用光触媒であって、光半導体が、420nm以上の光を利用する所定のものであり、酸化反応助触媒および還元反応助触媒として2種類以上の助触媒が担持されたものであり、かつ還元反応助触媒が光半導体に還元された状態で担持されたものであり、かつ光水分解反応用光触媒が水を分解して水素および酸素を生成するものであることを特徴とする光水分解反応用光触媒。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：为了提供光解水分解反应的光催化剂，其具有氧化反应的促进剂和用于同一颗粒的还原反应的另一种促进剂，可以在光照射下显着提高光解水分解反应速率，并且是有效和工业上有利。解决方案：用于光解水分解反应的光催化剂具有光学半导体，用于氧化反应的促进剂和还原反应的促进剂，并且通过沉积用于氧化反应的促进剂和用于还原反应的促进剂在光学半导体。光学半导体是使用具有420nm或更长波长的光的预定光学半导体。作为氧化反应的促进剂和还原反应的促进剂，沉积2种以上的助催化剂。用于还原反应的促进剂以降低的状态沉积。当水分解产生氢和氧时，使用光解水分解反应的光催化剂。

5. 发明专利

JP6059455B2 酸素製造装置有权
标题翻译：氧气生产装置
公开(公告)号：JP6059455B2
公开(公告)日：2017-01-11
申请号：JP2012150557
申请日：2012-07-04
申请人：三菱化学株式会社 , 国立大学法人北海道大学
发明人：藤本泰弘 , 大島一典 , 瀬戸山亨 , 本橋輝樹
IPC分类号： B01J20/34 , B01D53/14 , B01D53/18 , B01J20/06 , B01J20/08 , C01B13/02

6. 发明专利

JP5765678B2 光水分解反応用光触媒および光水分解反応用光触媒の製造方法有权
标题翻译：一种制造光学水分解反应的光催化剂和光水分解反应的光催化的方法
公开(公告)号：JP5765678B2
公开(公告)日：2015-08-19
申请号：JP2010041040
申请日：2010-02-25
申请人：三菱化学株式会社 , 国立大学法人東京大学 , 国立大学法人筑波大学
发明人：堂免一成 , 前田和彦 , 熊諳珂 , 寺西利治 , 吉永泰三 , 瀬戸山亨 , 仮屋伸子
IPC分类号： B01J35/02 , C01B3/04 , B01J27/24
CPC分类号： Y02E60/364

7. 发明专利

JP5744730B2 低級オレフィン製造用触媒およびそれを用いた低級オレフィンの製造方法有权
标题翻译：用于与催化剂生产低级烯烃的方法，它为低级烯烃的生产
公开(公告)号：JP5744730B2
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：JP2011519771
申请日：2010-06-14
申请人：日揮株式会社 , 三菱化学株式会社
发明人：沖田充司 , 本田一規 , 稲木千津 , 高橋純平 , 山口正志 , 吉川由美子 , 岩出慎二 , 瀬戸山亨
IPC分类号： C07C1/20 , C07C11/06 , B01J29/40
CPC分类号： C07C1/20 , B01J29/40 , B01J35/0026 , B01J35/023 , B01J37/0009 , B01J2229/186 , B01J2229/42 , B01J35/026 , B01J35/04 , B01J37/0246 , C07C2521/04 , C07C2521/08 , C07C2521/16 , C07C2529/40 , C07C2529/70 , Y02P20/52 , Y02P30/42

8. 发明专利

JP6102473B2 合成ガス製造用触媒、該触媒の再生方法、及び合成ガスの製造方法有权
公开(公告)号：JP6102473B2
公开(公告)日：2017-03-29
申请号：JP2013096341
申请日：2013-05-01
申请人：三菱化学株式会社
发明人：藤本泰弘 , 大島一典 , 池宮桂 , 瀬戸山亨
IPC分类号： B01J38/04 , C01B3/38 , C01B32/40 , B01J23/889
CPC分类号： Y02P20/52 , Y02P20/584

9. 发明专利

JP6089894B2 合成ガス製造用触媒及び合成ガスの製造方法有权
标题翻译：制造的合成气制造用催化剂和合成气的方法
公开(公告)号：JP6089894B2
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：JP2013076347
申请日：2013-04-01
申请人：三菱化学株式会社
发明人：藤本泰弘 , 大島一典 , 池宮桂 , 瀬戸山亨
IPC分类号： C01B3/40 , B01J23/889
CPC分类号： Y02P20/52

10. 发明专利

JP5906913B2 低級オレフィンの製造方法有权
标题翻译：用于生产低级烯烃的方法
公开(公告)号：JP5906913B2
公开(公告)日：2016-04-20
申请号：JP2012092152
申请日：2012-04-13
申请人：三菱化学株式会社
发明人：仮屋伸子 , 坂本尚之 , 瀬戸山亨 , 中嶋巌 , 久次米正博
IPC分类号： C07C7/144 , C07C1/04 , C07C11/06 , C07C11/08 , B01J23/88 , C07C7/12
CPC分类号： Y02P20/52

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