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1. 发明专利

JP2015131300A 光水分解反応用光触媒および光水分解反応用光触媒の製造方法审中-公开
标题翻译：光致水分解反应的光催化剂，以及生产光催化剂的方法
公开(公告)号：JP2015131300A
公开(公告)日：2015-07-23
申请号：JP2015058528
申请日：2015-03-20
申请人：三菱化学株式会社 , 国立大学法人東京大学 , 国立大学法人筑波大学
发明人：堂免一成 , 前田和彦 , 熊諳珂 , 寺西利治 , 吉永泰三 , 瀬戸山亨 , 仮屋伸子
IPC分类号： B01J27/24 , B01J37/02 , B01J37/16 , B01J37/34 , C01B3/04 , B01J35/02
CPC分类号： Y02E60/364
摘要：【課題】光水分解反応用の触媒であって、同一粒子上に酸化反応用および還元反応用双方の助触媒を併せ持ち、光照射下における光水分解反応速度を飛躍的に増大させることができる、効率的で工業的に有利な水分解反応用光触媒を提供する。【解決手段】光半導体、酸化反応助触媒および還元反応助触媒を備え、光半導体に酸化反応助触媒および還元反応助触媒が担持されてなる光水分解反応用光触媒であって、光半導体が、420nm以上の光を利用する所定のものであり、酸化反応助触媒および還元反応助触媒として2種類以上の助触媒が担持されたものであり、かつ還元反応助触媒が光半導体に還元された状態で担持されたものであり、かつ光水分解反応用光触媒が水を分解して水素および酸素を生成するものであることを特徴とする光水分解反応用光触媒。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：为了提供光解水分解反应的光催化剂，其具有氧化反应的促进剂和用于同一颗粒的还原反应的另一种促进剂，可以在光照射下显着提高光解水分解反应速率，并且是有效和工业上有利。解决方案：用于光解水分解反应的光催化剂具有光学半导体，用于氧化反应的促进剂和还原反应的促进剂，并且通过沉积用于氧化反应的促进剂和用于还原反应的促进剂在光学半导体。光学半导体是使用具有420nm或更长波长的光的预定光学半导体。作为氧化反应的促进剂和还原反应的促进剂，沉积2种以上的助催化剂。用于还原反应的促进剂以降低的状态沉积。当水分解产生氢和氧时，使用光解水分解反应的光催化剂。

2. 发明专利

JP5765678B2 光水分解反応用光触媒および光水分解反応用光触媒の製造方法有权
标题翻译：一种制造光学水分解反应的光催化剂和光水分解反应的光催化的方法
公开(公告)号：JP5765678B2
公开(公告)日：2015-08-19
申请号：JP2010041040
申请日：2010-02-25
申请人：三菱化学株式会社 , 国立大学法人東京大学 , 国立大学法人筑波大学
发明人：堂免一成 , 前田和彦 , 熊諳珂 , 寺西利治 , 吉永泰三 , 瀬戸山亨 , 仮屋伸子
IPC分类号： B01J35/02 , C01B3/04 , B01J27/24
CPC分类号： Y02E60/364

3. 发明专利

JP2016144804A 光触媒を用いた光水分解反応用電極有权
标题翻译：使用光催化剂的光电水分解反应电极
公开(公告)号：JP2016144804A
公开(公告)日：2016-08-12
申请号：JP2016035141
申请日：2016-02-26
申请人：三菱化学株式会社 , 国立大学法人東京大学
发明人：堂免一成 , 久保田純 , 嶺岸耕 , 瀬戸山亨 , 仮屋伸子
IPC分类号： H01G9/20 , B01J37/08 , B01J37/02 , B01J27/24 , C25B11/06 , C25B11/08 , C25B11/04 , C25B1/04 , B01J35/02
CPC分类号： Y02E60/366
摘要：【課題】光照射下における光水分解反応速度を飛躍的に増大させることができる、効率的で工業的に有利な水素製造用の光水分解反応用電極を提供する。【解決手段】光触媒粒子(10)を構成する光触媒として、オキシナイトライド、ナイトライド、オキシサルファイド、および、サルファイドからなる群から選ばれる1種以上が支持体(20)上に堆積されてなる電極であって、光触媒粒子(10)間ならびに光触媒粒子(10)および支持体(20)間に半導体または良導体(30)を有し、前記半導体または良導体の前駆体で光触媒粒子および支持体表面をコーティングした後に熱処理を行うことにより、前記光触媒粒子間ならびに前記光触媒粒子および前記支持体間に半導体または良導体が付与されており、且つ、半導体または良導体(30)が、所定の材料であることを特徴とする、光水分解反応用電極とする。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于有效地和工业上有效地生产氢的光解水分解反应的电极，其可以在光照射下显着增加光解水分解反应速率。解决方案：提供了一种用于光解水分解反应的电极其通过将构成光催化剂颗粒（10）的光催化剂中的一种或多种从氮氧化物，氧硫化物和硫化物中选出而获得，并且在光催化剂（20）之间具有半导体或良导体（30）颗粒（10）和光催化剂颗粒（10）和载体（20）之间，其中通过涂覆在光催化剂颗粒之间和光催化剂颗粒与载体之间提供半导体或良导体，然后热处理光催化剂颗粒，该支撑表面具有半导体的前体或良好的导管导体和半导体或良导体（30）是预定材料。选择图：图1

4. 发明专利

JP2016059920A 光触媒積層体及びその製造方法、光触媒モジュール並びに水素製造方法审中-公开
标题翻译：光催化层压板及其制造方法，光催化剂模块及其生产方法
公开(公告)号：JP2016059920A
公开(公告)日：2016-04-25
申请号：JP2015155946
申请日：2015-08-06
申请人：国立大学法人東京大学 , 三菱化学株式会社 , 人工光合成化学プロセス技術研究組合
发明人：堂免一成 , 久富隆史 , 王謙 , ジアチンシン , 仮屋伸子
IPC分类号： C01B3/04 , B01J37/04 , B01J27/138 , B01J23/68 , B01J35/02
CPC分类号： B01J23/22 , B01J23/63 , B01J35/02 , B01J37/00 , B01J37/02 , B01J37/04 , C01B3/04 , Y02E60/364
摘要：【課題】従来よりも優れた水分解活性を有する光触媒積層体及びその製造方法を提供する。【解決手段】シート状のコンタクト層と、前記コンタクト層の表面に固定された光触媒粒子層とを備え、光触媒粒子層において、複数の水素発生用光触媒粒子と複数の酸素発生用光触媒粒子とが互いに分散されており、コンタクト層の同一表面側において、複数の水素発生用光触媒粒子の少なくとも一部と複数の酸素発生用光触媒粒子の少なくとも一部とが、コンタクト層と接触している、光触媒積層体とする。【選択図】図3
摘要翻译：要解决的问题：提供具有比现有技术更加改进的水分解活性的光学催化剂层压体和光学催化剂的制造方法。解决方案：光学催化剂层压体包括片状接触层和光学催化剂颗粒层，其固定在接触层的表面上。在光学催化剂颗粒层中，多个用于产生氢的光学催化剂颗粒和多个用于产生氧气的光学催化剂颗粒彼此分散。在接触层的相同表面侧，用于产生氢的多个光学催化剂粒子的至少一部分和用于产生氧的多个光学催化剂粒子的至少一部分与接触层接触。选择的图：图3

5. 发明专利

JP2016005998A 新規オキシサルファイド、オキシサルファイドの製造方法、それを用いた光触媒、光水分解反応用電極、及び、水素の製造方法有权
标题翻译：新型聚合物，生产聚合物的方法和光催化剂，用于水溶性反应的电极以及使用它们的氢生产方法
公开(公告)号：JP2016005998A
公开(公告)日：2016-01-14
申请号：JP2014181210
申请日：2014-09-05
申请人：国立大学法人東京大学 , 三菱化学株式会社 , 人工光合成化学プロセス技術研究組合
发明人：堂免一成 , 久富隆史 , 劉 ▲青▼媛 , 馬貴軍 , 仮屋伸子
IPC分类号： B01J35/02 , B01J37/34 , B01J37/04 , B01J37/08 , B01J27/045 , C25B1/04 , C25B9/00 , C25B11/06 , C25B11/08 , C01G23/00
CPC分类号： Y02E60/366
摘要：【課題】従来よりも光触媒活性が高く、光水分解用の触媒として適用可能な新規オキシサルファイドを提供する。【解決手段】La、Ti及びCuを含むオキシサルファイドであって、アルカリ金属、アルカリ土類金属、周期表第3族、第4族、第6族、第11族、第12族、第13族及び第14族から選ばれる1つ以上のドープ元素(X)が、La、Ti及びドープ元素(X)の合計を基準(100原子%)として0.01原子%以上含まれている、オキシサルファイドとする。【選択図】図6
摘要翻译：要解决的问题：提供具有改善的光催化活性并可用作水解光催化剂的新型硫氧化物。溶液：硫氧化物包括La，Ti和Cu，其中至少一种选自碱金属的掺杂元素（X），碱土金属，第3族，第4族，第6族，第11族，第12族，第13族和第14族的含量以0.01原子％以上，La，Ti和涂料的总量元素（X）作为参考（100原子％）。

6. 发明专利

JP6270884B2 光水分解反応用電極の製造方法有权
公开(公告)号：JP6270884B2
公开(公告)日：2018-01-31
申请号：JP2016035141
申请日：2016-02-26
申请人：三菱ケミカル株式会社 , 国立大学法人東京大学
发明人：堂免一成 , 久保田純 , 嶺岸耕 , 瀬戸山亨 , 仮屋伸子
IPC分类号： H01G9/20 , B01J37/08 , B01J37/02 , B01J27/24 , C25B11/06 , C25B11/08 , C25B11/04 , C25B1/04 , B01J35/02
CPC分类号： Y02E60/366

7. 发明专利

JP2021154260A アノード電極用触媒及び光アノード電極用助触媒审中-公开
公开(公告)号：JP2021154260A
公开(公告)日：2021-10-07
申请号：JP2020060205
申请日：2020-03-30
申请人：国立研究開発法人産業技術総合研究所 , 国立大学法人東京大学 , 三菱ケミカル株式会社 , 人工光合成化学プロセス技術研究組合
发明人：佐山和弘 , 三石雄悟 , 草間仁 , 堂免一成 , 山田太郎 , 佐々木豊 , 仮屋伸子
IPC分类号： B01J37/02 , B01J27/24 , B01J23/889 , B01J23/78 , C25B11/04 , B01J35/02
摘要：【課題】アノード電極に適用し得る、光触媒用の新たな酸素生成用助触媒を提供することを課題とする。【解決手段】Fe、Ni、Co、M及び酸素、を含む光アノード電極用助触媒により課題を解決する。但し前記MはK及びMnから選択される。【選択図】なし

9. 发明专利

JP5906913B2 低級オレフィンの製造方法有权
标题翻译：用于生产低级烯烃的方法
公开(公告)号：JP5906913B2
公开(公告)日：2016-04-20
申请号：JP2012092152
申请日：2012-04-13
申请人：三菱化学株式会社
发明人：仮屋伸子 , 坂本尚之 , 瀬戸山亨 , 中嶋巌 , 久次米正博
IPC分类号： C07C7/144 , C07C1/04 , C07C11/06 , C07C11/08 , B01J23/88 , C07C7/12
CPC分类号： Y02P20/52

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