会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 1. 发明专利
    • 光モジュール
    • JP2019175986A
    • 2019-10-10
    • JP2018062073
    • 2018-03-28
    • 住友電気工業株式会社
    • 古谷 章児山 浩一
    • H01S5/022
    • 【課題】光反射を用いることなく、所望の光結合角を可能にする構造を有する光モジュールを提供する。 【解決手段】光モジュールは、第1軸の方向に配列された天井壁部及び底開口、第1軸に交差する第2軸の方向に配列された第1側壁部及び側開口、並びに第1軸及び第2軸に交差する第3軸の方向に第1側壁部上において配列された第2側壁部及び第3側壁部を有するセラミック製ベース、並びに電極を含むパッケージと、パッケージ内に設けられた半導体光デバイスと、側開口を塞ぐ側蓋と、底開口を塞ぐ光学窓部品を備え、第1側壁部は、第2軸に交差する方向に延在する第1基準面に沿って延在する外側面と、第1基準面に鋭角を成して交差する第2基準面に沿って延在する傾斜部分を有する内側面とを有し、半導体光デバイスは、第1側壁部の傾斜部分上に設けられる。 【選択図】図1
    • 6. 发明专利
    • 半導体光素子、半導体光素子を作製する方法
    • 半导体光学元件和半导体光学元件制作方法
    • JP2016004817A
    • 2016-01-12
    • JP2014122525
    • 2014-06-13
    • 住友電気工業株式会社
    • 古谷 章
    • H01S5/022
    • 【課題】半導体支持体の裏面に電気的接触を可能にすると共に発光点の高さばらつきを低減できる構造を有する半導体光素子を提供する。 【解決手段】半導体支持体13は、所望の厚さを有するようにバックグラインディング装置により半導体基板を研削することによって作製された研削面13bを有する。この研削面13bは、その名称により示される通り、損傷層21を除去する目的で行われるCMPにより形成された研磨面とは異なる。これ故に、半導体支持体13の研削面13bは、機械的な処理である研削に起因する損傷層21を備える。半導体光素子11内の半導体支持体13の研削面13bでは、第1エリア13cは、第2エリア13dに対して窪んだ窪み23を有すると共に電極17は窪みの底面13eに接触を成す。この電極17の配置は、半導体支持体13の研削面13bに沿って延在する損傷層21の高比抵抗の影響を低減できる。 【選択図】図1
    • 要解决的问题:提供一种半导体光学元件,其与半导体支撑体的后表面电接触,并且具有可以减少发光点的高度变化的结构。解决方案:半导体支撑体13包括: 通过研磨半导体衬底以通过后研磨装置具有期望厚度制造的地表面13b。 该地表面13b与为了去除损坏层21而进行CMP的抛光表面不同,如其名称所示。 因此,半导体支撑体13的接地表面13b包括由机械加工产生的研磨产生的损伤层21。 在半导体光学元件11中的半导体支撑体13的地面13b上,第一区域13c具有凹陷到第二区域13d的凹部23,电极17与凹部的底面13e接触。 电极17的配置可以减小沿着半导体支撑体13的接地面13b延伸的受损层21的高电阻率的影响。