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    • 6. 发明专利
    • ロードポート
    • JP2017063215A
    • 2017-03-30
    • JP2016227004
    • 2016-11-22
    • シンフォニアテクノロジー株式会社
    • 夏目 光夫落合 光敏溝河 巧
    • H01L21/677
    • 【課題】所定の気体雰囲気の到達濃度が高いパージ処理を短時間で行うことができ、作業効率を向上させることが可能なロードポートを提供する。 【解決手段】半導体製造装置に隣接して設けられ、FOUP9内に格納されているウェーハを、半導体製造装置内とFOUP内との間でFOUP前面に形成した搬出入口91を介して出し入れするロードポート1であり、搬出入口と連通する開口部を有するフレーム2と、フレームのうち、開口部よりも半導体製造装置側に設けられるチャンバ7とを有し、チャンバ内側に設けられるガス供給ノズル62が設けられ、第一チャンバ位置と、第二チャンバ位置との間で昇降可能な起立壁7aと、フレームに対して移動不能な固定壁72と、チャンバの下方をチャンバ外空間に連通させる排気部を有する。起立壁が第二チャンバ位置に位置する際に、起立壁はチャンバ外空間に露出する構成とした。 【選択図】図2