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1. 发明专利

JP2017107179A 少なくとも1つのマニピュレータを含む投影露光装置有权
公开(公告)号：JP2017107179A
公开(公告)日：2017-06-15
申请号：JP2016205699
申请日：2016-10-20
申请人：カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人：ボリスビットナー , ノルベルトワブラ , ソニヤシュナイダー , リカルダショーメル , シュテファンリスト
IPC分类号： G02B7/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/7015 , G03F7/70258 , G03F7/705
摘要：【課題】マイクロリソグラフィ投影露光装置及びそのような投影露光装置を制御する方法を提供する。【解決手段】マイクロリソグラフィ投影露光装置は、少なくとも1つの光学要素と、少なくとも1つのマニピュレータとを含む露光放射線を用いてマスク構造を結像するための投影レンズと、投影レンズへの入射時の露光放射線の角度分布の少なくとも1つの特性を定める用途特定構造情報を読み取るための読取デバイスと、行程に沿った少なくとも1つのマニピュレータによる光学要素の特性の操作によって加えるべき少なくとも1つの光学要素の光学効果の変化を定める行程指令を確立するために少なくとも2段の最適化において行程指令を確立するように構成された行程確立デバイスとを含み、最適化の第1の段は、行程指令の近似を確立するように構成され、最適化の第2の段は、行程指令の最適化結果を確立するように構成される。【選択図】図2

3. 发明专利

JP2015524575A 長時間スケールからの系補正有权
标题翻译：从规模上长期系统校正
公开(公告)号：JP2015524575A
公开(公告)日：2015-08-24
申请号：JP2015521991
申请日：2013-07-12
申请人：カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人：ボリスビットナー , ボリスビットナー , ノルベルトワブラ , ノルベルトワブラ , ホーデンベルクマーチンフォン , ホーデンベルクマーチンフォン , ソーニャシュナイダー , ソーニャシュナイダー , リカルダシュナイダー , リカルダシュナイダー , リューディガーマック , リューディガーマック
IPC分类号： G03F7/20 , G02B13/00 , G02B17/08
CPC分类号： G03F7/706 , G02B27/0043 , G02B27/0068 , G03F7/70258 , G03F7/70266 , G03F7/705 , G03F7/70533 , G03F7/70891
摘要：マイクロリソグラフィのための投影レンズの収差は、2つのクラス、すなわち、それらの将来のサイズが、現在のサイズとは関係なく一定の持続時間後に無視することができない値だけ増大することによって区別される第1の収差クラスと、閾値に到達した後に、各更に別の持続時間後に無視することができる値だけしか増大しない第2の収差クラスとに再分割することができる。これらの2つの収差クラスを互いに時間的に並行して調節する調節方法を提案する。【選択図】図6
摘要翻译：用于微光刻投影透镜的像差，两个类，即，它们的未来大小由增加由不能在一定时间之后被忽略当前尺寸无关的值来区分第一像差类，达到该阈值后，才可以各自进一步持续时间之后被忽略的值可以被细分为一个第二类像差不会增加。推荐在时间一起并联这两个象差的类调整的调整方法。点域6

4. 发明专利

JP2015122480A 反射光学素子有权
标题翻译：反射光学元件
公开(公告)号：JP2015122480A
公开(公告)日：2015-07-02
申请号：JP2014215733
申请日：2014-10-22
申请人：カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人：ボリスビトナー , ノルベルトワブラ , ソニヤシュナイダー , リカルダシュナイダー , ヘンドリクワーグナー , ルーメンイリエフ , ヴァルターパウルス
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/84 , H01L21/027
CPC分类号： G02B7/181 , G01N21/95 , G03F1/52 , G03F1/84 , G03F7/702 , G03F7/70316 , G03F7/70891 , G03F7/7095 , G21K1/062 , G01N2201/0636 , G21K2201/067
摘要：【課題】反射光学素子、具体的には、マイクロリソグラフィー投影露光装置用の反射光学素子又はマスク検査装置用の反射光学素子を提供する。【解決手段】反射光学素子は、光学有効面、素子基板12、反射層系14、及び少なくとも一つの変形抑制層15を有し、変形抑制層の無い類似の構成と比較して、光学有効面11が電磁照射を受けた場合の反射層系14の最大変形レベルが低減させる。反射層系14は、第1熱膨張係数を有する第1材料からなる少なくとも一つの層と、第2熱膨張係数を有する第2材料を含む少なくとも一つの前記変形抑制層15とを備え、前記第1熱膨張係数及び前記第2熱膨張係数は、符号が逆である。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种反射型光学元件，特别是用于微光刻投影曝光装置的反射型光学元件或掩模检查装置的反射型光学元件。解决方案：反射型光学元件具有光学有效的表面，元件基板12，反射层系统14和至少一个变形减小层15.当光学有效表面11被电磁辐射照射时，与反射层系统14的变形水平相比，反射层系统14的最大变形水平降低类似构造的反射光学元件，没有变形减少层。反射层系统14包括：由具有第一热膨胀系数的第一材料构成的至少一层; 以及上述至少一个变形减小层15，其包括具有第二热膨胀系数的第二材料。第一个热膨胀系数和第二个热膨胀系数有相反的迹象。

7. 发明专利

JP2016534381A マイクロリソグラフィのための投影露光方法及び投影露光装置审中-公开
标题翻译：微投影曝光方法和用于光刻的投影曝光装置
公开(公告)号：JP2016534381A
公开(公告)日：2016-11-04
申请号：JP2016519957
申请日：2014-10-01
申请人：カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人：ボリスビットナー , ボリスビットナー , ノルベルトワブラ , ノルベルトワブラ , ホデンベルクマルティンヴォン , ホデンベルクマルティンヴォン , ソーニャシュナイダー , ソーニャシュナイダー
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/185
CPC分类号： G03F7/70083 , G03F7/70258 , G03F7/70525 , G03F7/706 , G03F7/70891
摘要：パターンの少なくとも1つの像で感放射線基板(W)を露光するための投影露光方法は、パターンが投影レンズの物体平面(OS)の領域に配置され、物体平面に対して光学的に共役な投影レンズの像平面(IS)内に投影レンズを用いてパターンを結像することができるようにパターンを投影露光装置(WSC)の照明系(ILL)と投影レンズ(PO)の間に設ける段階であって、パターンの結像関連特性をパターンデータによって特徴付けることができる上記設ける段階と、使用事例に特定のものであり、かつ照明設定データによって特徴付けることができる照明設定に従ってパターンの照明領域を照明系(ILL)によって供給される照明放射線で照明する段階とを含み、使用事例に特定のものであり、かつパターンデータ及び/又は照明設定データを含む使用事例データを決定する段階と、使用事例データを用いて結像仕様データを決定する段階と、投影レンズの結像挙動を使用事例に適応させる目的で、投影レンズ(PO)の制御可能光学構成要素を投影レンズの制御ユニット(CU)を用いて結像仕様データに依存する方式で制御する段階と、使用事例に適応された投影レンズを用いてパターンを基板上に結像する段階とを特徴とする。【選択図】図1A
摘要翻译：用于曝光的辐射敏感衬底（W）的图案的至少一个图像的投影曝光方法中，图案被布置在物平面上的投影透镜的（OS），光学共轭的投影到物体面的区域在透镜投射曝光设备的照明系统，以便能够利用图像的投影镜头（WSC）（ILL）的像面（IS）的图案的图案和所述投影透镜之间提供的步骤（PO）有，并且所述提供步骤可以通过图案数据来表征的图案的成像相关特性是特定于使用的情况下，和照明系统中根据照明设置，可以通过照明设置数据来表征的图案的照射区域和照明用（ILL）供给的照明辐射，的步骤是那些特定的使用情况，而图案数据和/或确定使用情况的数据包括照明设置数据该步骤，并使用用例数据确定所述成像规范数据，以便适应投影透镜，投影透镜的投影透镜的可控光学部件的用例的成像特性（PO）和控制以依赖于使用控制单元（CU），其特征在于的成像到衬底上使用，其适于用例的投影透镜的图案的步骤的成像规范数据的方式。点域1A

8. 发明专利

JP2016531309A マイクロリソグラフィ投影装置を作動させる方法有权
标题翻译：一种操作微光刻投射装置的方法
公开(公告)号：JP2016531309A
公开(公告)日：2016-10-06
申请号：JP2016520691
申请日：2013-09-14
申请人：カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人：ボリスビットナー , ボリスビットナー , ノルベルトワブラ , ノルベルトワブラ , ソニヤシュナイダー , ソニヤシュナイダー , リカルダシュナイダー , リカルダシュナイダー , ホーデンベルクマーチンフォン , ホーデンベルクマーチンフォン
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/00
CPC分类号： G03F1/70 , G03F7/70258 , G03F7/705 , G06F17/5081
摘要：本発明は、マイクロリソグラフィ投影露光装置を作動させる方法に関する。第1の段階(S1)において、複数の実マニピュレータ(M1、M2、M3)を含む投影対物系(20)が与えられる。第2の段階(S2)において、実マニピュレータのうちの少なくとも2つに対する予備制御信号を生成するように構成された仮想マニピュレータが定義される。第3の段階(S3)において、装置の作動中に投影対物系(20)の実像誤差が決定される。第4の段階(S4)において、望ましい補正効果が決定される。第5の段階(S5)において、仮想マニピュレータに対する第1の仮想制御信号が決定される。第6の段階(S6)において、実マニピュレータに対する第2の仮想制御信号が決定される。第7の段階(S7)において、第1及び第2の仮想制御信号の関数として実マニピュレータに対する最終制御信号が決定される。第8の段階(S8)において、最終制御信号が実マニピュレータに印加される。【選択図】図9
摘要翻译：本发明涉及一种操作微光刻投射曝光设备的方法。在第一步骤（S1），提供多个实际操纵器（M1，M2，M3）投射物镜，其包含（20）。在第二步骤（S2），用于生成一个初步控制信号，用于至少两个实际机械手的机械手虚拟定义。在第三步骤（S3），所述投射物镜（20）的实像误差装置的操作期间被确定。在第四步骤（S4）中，所需校正效果被确定。在第五步骤（S5），用于虚拟机械手的第一虚拟控制信号被确定。在（S6）的第六步骤中，对于实际的机械手的第二虚拟控制信号被确定。在（S7）的第七步骤中，对于实际的机械手的最终控制信号被确定为在第一和第二虚拟控制信号的功能。在图8（S8）的阶段，最终的控制信号被施加到的实际操纵器。 9系统技术领域

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