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1. 发明专利

JP6959680B1 成膜装置有权
公开(公告)号：JP6959680B1
公开(公告)日：2021-11-05
申请号：JP2020189364
申请日：2020-11-13
申请人：株式会社シンクロン
发明人：五十嵐誠 , 齋藤優 , 野中裕彌
IPC分类号： C23C14/24
摘要：【課題】稼働率が高い成膜装置を提供する。【解決手段】少なくとも成膜材料Mと被成膜物Sが設けられ、所定の成膜雰囲気に設定可能な成膜チャンバ2と、前記成膜チャンバ2の内部に設けられ、前記成膜材料Mを収容するハースライナ23と、前記成膜チャンバ2の内部に設けられ、前記ハースライナ23に収容された成膜材料Mを加熱する加熱源24と、前記ハースライナ23に供給するための成膜材料Mが充填される材料充填部35を有し、仕切バルブ37を有する連通路36を介して前記成膜チャンバ2に接続され、所定の圧力雰囲気に設定可能な材料供給チャンバ3と、を備える。成膜材料Mを供給する場合、成膜チャンバ2を成膜雰囲気に設定した状態で、前記材料供給チャンバ3の内部を前記所定の圧力雰囲気に設定したのち、前記仕切バルブ37を開き、前記連通路36を介して前記材料充填部35に充填された成膜材料Mを前記ハースライナ23に供給する。【選択図】図1

2. 发明专利

JP6868929B1 移載装置及びこれを用いた成膜装置有权
公开(公告)号：JP6868929B1
公开(公告)日：2021-05-12
申请号：JP2020563735
申请日：2020-07-30
申请人：株式会社シンクロン
发明人：大胡嘉規 , 青山貴昭
IPC分类号： C23C14/34 , C23C14/24 , C23C16/44 , C23C14/50
摘要：成膜品質の安定性を確保したうえで、生産性が高く、小型で安価な成膜装置を提供するために、回転可能とされた回転体(21)であって、移載すべき対象物(3)が着脱可能に保持される保持部(212)が当該回転体(21)の外周部に沿って設けられた回転体(21)と、前記対象物(3)を把持及び解放可能な把持機構(223)を有し、所定機器(111)に保持された対象物(3)を前記回転体(21)の保持部(212)に移載するとともに、前記回転体(21)に保持された他の対象物(3)を前記所定機器(111)に移載する移載機構(22)と、を備える。

3. 发明专利

JP6858985B2 金属化合物膜の成膜方法及び反応性スパッタ装置有权
公开(公告)号：JP6858985B2
公开(公告)日：2021-04-14
申请号：JP2019082633
申请日：2019-04-24
申请人：株式会社シンクロン
发明人：税所慎一郎 , 田中康仁
IPC分类号： H01L21/316 , C23C14/34

4. 发明专利

JPWO2018190268A1 成膜装置审中-公开
公开(公告)号：JPWO2018190268A1
公开(公告)日：2019-04-18
申请号：JP2018014735
申请日：2018-04-06
申请人：株式会社シンクロン
发明人：長江亦周 , 菅原卓哉 , 青山貴昭
IPC分类号： C23C14/34
摘要：本発明は成膜装置を開示している。成膜装置は、真空容器と、前記真空容器内部に連通する排気機構と、複数の基板を保持可能な基板保持手段と、前記真空容器内部に位置し、スパッタによってターゲットからスパッタイオンを放出し、前記基板に到達させ得る成膜領域と、前記真空容器内に位置し、前記成膜領域を前記真空容器内の他の領域から隔離する隔離手段と、を備え、前記隔離手段は、前記成膜領域が前記成膜領域の外部に連通するように配置される。

5. 发明专利

JPWO2016203585A1 成膜方法及び成膜装置审中-公开
公开(公告)号：JPWO2016203585A1
公开(公告)日：2018-04-05
申请号：JP2016501253
申请日：2015-06-17
申请人：株式会社シンクロン
发明人：石田将崇 , 林達也 , 菅原卓哉 , 我妻伸哉 , 宮内充祐 , 姜友松 , 長江亦周
IPC分类号： C23C14/34 , C23C14/58
CPC分类号： C23C14/34
摘要：本発明方法は、電圧が印加されている複数の基板Sを、順次、スパッタ放電によるスパッタリングプラズマによってターゲット29a,29bから放出されたスパッタ粒子が到達する成膜領域20内の所定位置に導入することにより、基板Sの表面にスパッタ粒子を到達させて堆積させるとともに、スパッタリングプラズマ中のイオンを基板Sもしくはスパッタ粒子の堆積物に衝突させるプラズマ処理を行い、薄膜を形成する成膜方法であり、排気系を有する真空容器11内に形成された成膜領域20内でスパッタ粒子の堆積とスパッタリングプラズマによるプラズマ処理を行い中間薄膜を形成した後、成膜領域20に対して空間的に分離して配置された反応領域60内に基板Sを移動させ、中間薄膜にスパッタリングプラズマとは別のプラズマ中のイオンを衝突させるプラズマ再処理を行い、薄膜を形成する。

6. 发明专利

JPWO2013186879A1 膜厚測定装置及び成膜装置有权
标题翻译：膜厚度测量装置和成膜装置
公开(公告)号：JPWO2013186879A1
公开(公告)日：2016-02-01
申请号：JP2013510438
申请日：2012-06-13
申请人：株式会社シンクロン
发明人：旭陽佐井 , 旭陽佐井 , 陽平日向 , 陽平日向 , 芳幸大瀧 , 芳幸大瀧 , 友松姜 , 友松姜
IPC分类号： G01B11/06 , C23C14/54
CPC分类号： C23C14/24 , C23C14/52 , C23C14/547 , G01B11/0625
摘要：精度よく光学膜厚を測定することが可能な膜厚測定装置を提供する。照射側ファイバf1を通じてモニタ基板Smに向けて光を照射する投光器11と、投光器11から照射された後にモニタ基板Smにて反射された光を受光側ファイバf2を通じて受光する受光装置22と、複数の照射側ファイバf1と複数の受光側ファイバf2とを束ねて形成された光学センサ用プローブ13と、を備えた膜厚測定装置6において、モニタ基板Smと対向する光学センサ用プローブ13の先端面には、照射側ファイバf1の端面及び受光側ファイバf2の端面がそれぞれ複数配置されており、照射側ファイバf1の端面の各々は、受光側ファイバf2の端面と隣り合った状態で円弧状または円環状に並び、かつ、受光側ファイバf2の端面の各々は、照射側ファイバf1の端面の各々と隣り合った状態で円弧状または円環状に並んでいる。
摘要翻译：提供了能够测量准确光学厚度的膜厚度测量设备。一种用于向通过照射侧光纤f1监视基板的Sm发光投影仪11，一个光接收装置22，用于从投影仪11，多个照射后接收通过光接收侧光纤F2通过监视基板的Sm反射的光照射侧光纤f1和多个受光侧光纤f2的和由集束，在膜厚测量设置有装置6形成的光学传感器探头13中，光学传感器探头13的前端面面对显示器基板的Sm 的端面和光接收侧光纤f2的照射侧光纤f1的端面更分别设置，各照射侧的光纤f1的端面是在相邻的受光侧光纤F2的端面上的状态下弓形或环形设置在，和受光侧光纤f2的每个端部表面被设置成圆弧状或环状中相邻的照射侧的光纤f1的端面的状态。

7. 发明专利

JPWO2013153604A1 電子銃装置审中-公开
标题翻译：一种电子枪装置
公开(公告)号：JPWO2013153604A1
公开(公告)日：2015-12-17
申请号：JP2012543369
申请日：2012-04-09
申请人：株式会社シンクロン
发明人：一郎塩野 , 一郎塩野 , 佐藤　望 , 望佐藤 , 林　達也 , 林　　達也 , 拓也中村 , 拓也中村
IPC分类号： C23C14/30
摘要：るつぼの上方位置でるつぼに向かって水平方向に延出したポールピースを、装置の運転上好適な位置に備えた電子銃装置を提供する。蒸着材料を収容するるつぼ3と、るつぼ3内の蒸着材料を加熱蒸発するために電子ビームEBを出射する電子ビーム出射機構7と、電子ビーム出射機構7を内部に収容するケース10と、ケース10に固定された状態で電子ビームEBをるつぼ3内の蒸着材料に向かうように偏向する第1のポールピース11及び第2のポールピース12と、るつぼ3内の蒸着材料に対する電子ビームEBの照射位置を調整するためにケース10外へ出てきた電子ビームEBを更に偏向する第3のポールピース13と、を備える電子銃装置1において、第3のポールピース13は、るつぼ3の上方位置に配置された状態でるつぼに向かって水平方向に延出しているとともに、ケース10外に位置し、かつ、ケース10から分離している。
摘要翻译：极靴在朝向坩埚上方的坩埚中的水平方向上延伸，以提供对所述装置的适当位置设置有操作的电子枪装置。一种用于容纳蒸发材料的坩埚3，电子束发射装置7发射的电子束EB来加热坩埚3中蒸发的沉积材料，用于容纳所述电子束发射装置7的壳体10内部的情况下10 电子束EB的电子束EB和第一极靴11和第二极片12，其在被固定于所述的状态下朝向所述沉积材料偏转在坩埚3中，在坩埚3中的气相沉积材料的照射位置在电子枪装置1，其包括进一步和第三极靴13，用于偏转电子束EB出来到壳体10的外侧调整第三极靴13，设置上述坩埚3 它们一起在朝向坩埚的状态，位于外壳10的水平方向延伸，并且从外壳10分离。

8. 发明专利

JP2015197288A 加熱処理装置、金属化合物の還元方法およびマグネシウム金属の製造方法审中-公开
标题翻译：热处理装置，金属化合物还原方法和镁金属生产方法
公开(公告)号：JP2015197288A
公开(公告)日：2015-11-09
申请号：JP2014077305
申请日：2014-04-03
申请人：株式会社ニコン , 株式会社シンクロン
发明人：丹羽達雄 , 水谷公一 , 川辺憲一 , 山田大介 , 千葉幸喜
IPC分类号： F24J2/24 , C22B5/16 , C22B26/22 , F24J2/02
CPC分类号： Y02E10/44
摘要：【課題】被処理物を加熱処理位置にて保持して、安定的に加熱する太陽光利用加熱処理装置を提供する。【解決手段】太陽光を用いて被処理物を加熱処理する加熱処理装置1は、太陽光を集光する集光部10と、被処理物を加熱処理するための加熱処理部20を備え、加熱処理部には、被処理物を加熱処理位置に保持する保持部材を備える。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供使用将处理对象保持在热处理位置并使其稳定加热的太阳光的热处理装置。解决方案：使用阳光对处理对象进行热处理的热处理装置1包括光收集收集阳光的部分10以及对处理对象进行热处理的热处理部20。热处理部包括将处理对象保持在热处理位置的保持部件。

9. 发明专利

JP5638147B2 成膜方法及び成膜装置有权
标题翻译：成膜方法和成膜装置
公开(公告)号：JP5638147B2
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：JP2013536339
申请日：2012-09-26
申请人：株式会社シンクロン
发明人：一郎塩野 , 一郎塩野 , 林　達也 , 林　　達也 , 友松姜 , 友松姜 , 亦周長江 , 亦周長江 , 充祐宮内 , 充祐宮内 , 真悟佐守 , 真悟佐守
IPC分类号： C23C14/22 , C23C14/02 , C23C14/24 , C23C14/48 , G02B1/10

10. 发明专利

JP2013079440A Thin film forming apparatus 有权
标题翻译：薄膜成型装置
公开(公告)号：JP2013079440A
公开(公告)日：2013-05-02
申请号：JP2012089510
申请日：2012-04-10
申请人： Shincron:Kk , 株式会社シンクロン
发明人： KYO YUSHO , SHIONO ICHIRO , MIYAUCHI MITSUSUKE , AOYAMA TAKAAKI , HAYASHI TATSUYA , NAGAE EKISHU
IPC分类号： C23C14/50
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thin film forming apparatus that enables a reduction in operation time for thin film formation and a reduction in cost for the film forming operation by efficiently simplifying an operation of forming a thin film only on a specific portion on a number of substrates.SOLUTION: A substrate holding mechanism 3 provided in the thin film forming apparatus 100 includes: substrate holding members 10-40 which hold a plurality of substrates in a manner that a part of a non-film forming portion of a substrate overlaps the other substrate and a film forming portion is exposed; a support member 50 which supports the substrate holding members 10-40; and a rotation member 60 which rotates the support member 50. The substrate holding members 10-40 include: a plurality of holding surfaces which hold the plurality of substrates and are disposed between a film forming source 4 and the plurality of substrates; a plurality of step portions which are formed between the plurality of holding surfaces in a manner that ends of the plurality of substrates respectively come into contact with the step portions; and a plurality of opening portions which are formed on the holding surfaces of the portion corresponding to the film forming portion when the ends of the substrates come into contact with the plurality of the step portions.
摘要翻译：解决的问题：提供一种薄膜形成装置，其能够通过有效地简化仅在特定的薄膜上形成薄膜的操作，从而能够减少薄膜形成的操作时间并降低成膜操作的成本部分在许多基底上。解决方案：设置在薄膜形成装置100中的基板保持机构3包括：基板保持部件10-40，其以基板的非成膜部分的一部分与多个基板的重叠部分的方式保持多个基板露出其他基板和成膜部分; 支撑基板保持构件10-40的支撑构件50; 以及使支撑构件50旋转的旋转构件60.基板保持构件10-40包括：多个保持表面，其保持多个基板并且设置在成膜源4和多个基板之间; 多个台阶部分以多个基板的端部分别与台阶部分接触形成在多个保持表面之间; 以及当所述基板的端部与所述台阶部分接触时，形成在与所述成膜部分对应的部分的保持表面上的多个开口部分。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

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