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1. 发明专利

JPWO2015076405A1 小型回転アームを有する処理室および小型製造装置审中-公开
公开(公告)号：JPWO2015076405A1
公开(公告)日：2017-03-16
申请号：JP2015549221
申请日：2014-11-25
申请人：リソテックジャパン株式会社 , リソテックジャパン株式会社 , 国立研究開発法人産業技術総合研究所 , 株式会社パルサ
发明人：義久扇子 , 義久扇子 , 史朗原 , 史朗原 , ソマワンクンプアン , ソマワンクンプアン , 翔武内 , 翔武内 , 土井　幹夫 , 幹夫土井 , 成雄荒崎 , 成雄荒崎 , 幸弘杉山 , 幸弘杉山 , 晃一服部 , 晃一服部
IPC分类号： H01L21/677 , B65G49/07 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/67766 , H01L21/67742
摘要：【課題】小口径の処理基板を用いる、小型で低コストの製造装置を提供する。【解決手段】小型回転アームを最も上部に有する搬送ロボットと、この搬送ロボットを取り巻いて小型回転アームの回転円弧上に位置する複数の基板処理装置とが、1つのボックス形状のハウジング内に設置されている。小型回転アームへ処理基板が受け渡され、小型回転アームが回転中心を中心として回転することにより、各基板処理装置との間で処理基板の受け渡しを行う。これにより、製造装置を小型化および低価格化することができる。

2. 发明专利

JP2015056598A パターン形成装置およびそれを用いたパターン形成方法审中-公开
标题翻译：图案形成装置和图案形成方法
公开(公告)号：JP2015056598A
公开(公告)日：2015-03-23
申请号：JP2013190573
申请日：2013-09-13
申请人：公立大学法人大阪府立大学 , Osaka Prefecture Univ , リソテックジャパン株式会社 , Risotetsuku Japan Kk , リソテックジャパン株式会社
发明人： HIRAI YOSHIHIKO , KITAGAWA TAKUYA , SEKIGUCHI ATSUSHI
IPC分类号： H01L21/027 , B29C59/02
摘要：【課題】簡素な装置構成でありながら転写された凹凸パターンの欠陥率を安定的に低減することができるパターン形成装置およびそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】表面に樹脂層を有する平板状の被加工物Wを保持する第1ホルダ10と、微細な凹凸パターンを有する金型20と、第1ホルダにて保持された被加工物の前記樹脂層と対向するように金型を保持する第2ホルダ30と、被加工物と金型とを相対的に接近および離間させる方向である移動方向に前記第1または第2ホルダを移動させる移動機構40とを備え、金型の凹凸パターンを樹脂層に押し付けて凹凸パターンを被加工物に転写するように構成され、移動機構は、第1または第2ホルダと連結する昇降部材と、昇降部材を移動させる駆動部42と、駆動部を制御する制御部70とを備え、制御部は、昇降部材を移動方向に往復移動させるように駆動部を制御するよう構成される。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种图案形成装置，其能够在具有简单的装置结构的情况下稳定地降低转印的凹凸图案的缺陷率，以及使用其的图案形成方法。图案形成装置包括：第一保持器10 保持其上形成有树脂层的板状工件W; 具有细小凹凸图案的金属模20; 保持金属模具以与由第一保持器保持的工件的树脂层相对的第二保持件30; 以及移动机构40，用于沿着保持器移动以使工件和金属模相对靠近/远离的方向的移动方向移动第一或第二保持器。图案形成装置被构造成使得金属模具的不均匀图案被按压到树脂层以将不均匀图案转印到工件。移动机构40包括连接到第一或第二保持器的提升构件，用于移动提升构件的驱动部42和用于控制驱动部的控制部70。控制部被构造成控制驱动部，使得驱动部在移动方向上使提升部件往复移动。

3. 发明专利

JPWO2014087762A1 昇降装置および小型製造装置有权
标题翻译：提升装置和小型的制造设备
公开(公告)号：JPWO2014087762A1
公开(公告)日：2017-01-05
申请号：JP2014550989
申请日：2013-10-29
申请人：リソテックジャパン株式会社 , リソテックジャパン株式会社 , 国立研究開発法人産業技術総合研究所 , 株式会社パルサ
发明人：義久扇子 , 義久扇子 , 史朗原 , 史朗原 , ソマワンクンプアン , ソマワンクンプアン , 翔武内 , 翔武内 , 土井　幹夫 , 幹夫土井 , 成雄荒崎 , 成雄荒崎 , 幸弘杉山 , 幸弘杉山 , 晃一服部 , 晃一服部
IPC分类号： H01L21/683 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/68742 , H01L21/68
摘要：【課題】小口径の半導体ウェハを受け渡す際に適用する昇降装置において、受取ミスを低減する。【解決手段】この昇降装置は、所定の位置決め中心を中心とする円周上に配置された3つ以上の昇降自在のピン部材を有している。各ピン部材はそれぞれ、半導体ウェハの下面に接触して半導体ウェハをほぼ水平に支持する基板支持部と、この基板支持部と一体に形成され、半導体ウェハの側面に接触して半導体ウェハをその中心が位置決め中心に近付くように案内するガイド部とを有している。
摘要翻译：本发明提供一种提升装置具有小直径传送半导体晶片时应用，以减少接收差错。 A中的提升装置包括设置在围绕所述预定定位中心的圆周三个或更多的可垂直移动的销部件。每个销构件包括用于支撑基本水平与所述半导体晶片的下表面接触的半导体晶片的衬底支撑，与该基板支撑件，所述半导体晶片的与所述半导体晶片的侧表面接触的中心整体形成的有与用于引导，从而接近所述定位中心的引导部。

4. 发明专利

JPWO2014087761A1 基板処理機構及びこれを用いた小型製造装置审中-公开
标题翻译：使用相同的基板处理机构和小制造装置
公开(公告)号：JPWO2014087761A1
公开(公告)日：2017-01-05
申请号：JP2014550988
申请日：2013-10-29
申请人：リソテックジャパン株式会社 , リソテックジャパン株式会社 , 国立研究開発法人産業技術総合研究所 , 株式会社パルサ
发明人：義久扇子 , 義久扇子 , 史朗原 , 史朗原 , ソマワンクンプアン , ソマワンクンプアン , 翔武内 , 翔武内 , 土井　幹夫 , 幹夫土井 , 成雄荒崎 , 成雄荒崎 , 幸弘杉山 , 幸弘杉山 , 晃一服部 , 晃一服部
IPC分类号： H01L21/027 , B05C11/08 , B05C11/10 , H01L21/304
CPC分类号： H01L21/67028 , H01L21/67051 , H01L21/68785 , H01L21/68792
摘要：【課題】小型の処理基板であっても回転テーブルとの間に洗浄液が浸入し難く、且つ、洗浄後に処理基板の裏面を確実に乾燥させることができる基板処理機構及びこれを用いた小型製造装置を提供する。【解決手段】洗浄液ノズルに、回転軸の載置面を囲むように、環状のノズル口を形成する。そして、洗浄液の液面をノズル口から隆起させて、半導体ウェハの裏側露出面に接触させ、この洗浄液の表面張力によって裏側露出面に略環状に付着させる。付着した洗浄液は、半導体ウェハの回転によって遠心力を与えられて外側に移動して、この半導体ウェハの外周縁に付着したフォトレジスト液を洗い流す。その後、回転軸を上昇させて、裏側露出面に付着した洗浄液をノズル口から引き離し、半導体ウェハの回転によって洗浄液を飛散させる。これにより、半導体ウェハの裏側露出面を簡単に乾燥させることができる。
摘要翻译： A进入小基板之间的清洗液是一种甚至转盘困难的，该基板处理机构能够可靠地使用相同的所述基板的表面背面干燥清洁和小制造装置后提供。所述的清洗液喷嘴，以便围绕旋转轴的安装表面，以形成环形的喷嘴开口。然后，通过从喷嘴孔凸起，与所述半导体晶片的背面暴露表面接触的清洗液的液面，由清洁液的表面张力附着于基本为环形的后暴露表面上。附着清洗液向外运动给出由半导体晶片的旋转产生的离心力，洗去附着在半导体晶片的外周缘的光致抗蚀液。然后，通过增加旋转轴，拉清洗液附着在喷嘴开口的后暴露的表面，从而通过在半导体晶片的旋转散射的清洗液。因此，能够容易地干燥半导体晶片的背面暴露表面上。

5. 发明专利

JP2014211426A 光透過度測定方法有权
标题翻译：光传输测量方法
公开(公告)号：JP2014211426A
公开(公告)日：2014-11-13
申请号：JP2013171098
申请日：2013-08-21
申请人：リソテックジャパン株式会社 , Risotetsuku Japan Kk , リソテックジャパン株式会社
发明人： SEKIGUCHI ATSUSHI
IPC分类号： G01N21/33 , H01L21/027
CPC分类号： G01N21/33 , H01L21/30
摘要：【課題】多層膜反射基板を用いる代わりに超薄膜Si基板を用いた、簡便な光透過度の測定方法の提供。【解決手段】 Si基板の片面に、光が透過可能な厚さにされた超薄膜領域を形成する工程、該超薄膜領域の光透過度を測定する工程、該Si基板の他方の面上にフォトレジストを塗布する工程、および該Si基板とフォトレジストの光透過度を測定する工程を含む、光の透過度測定方法。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供使用超薄膜Si衬底的简单的透光率测量方法，而不是使用多层膜反射衬底。解决方案：透光率的测量方法包括以下步骤：形成具有在Si衬底的一个表面上由光透过的厚度; 测量超薄膜区域的透光率; 在所述Si衬底的另一表面上施加光致抗蚀剂; 并测量Si衬底和光致抗蚀剂的每个透光率。

6. 发明专利

JP2019038162A 樹脂製シートおよびチューブ审中-公开
公开(公告)号：JP2019038162A
公开(公告)日：2019-03-14
申请号：JP2017160993
申请日：2017-08-24
申请人：リソテックジャパン株式会社
发明人：関口淳 , 西野朋季
IPC分类号： F16L11/12 , B29C59/02
摘要：【課題】油性成分の付着を防止する新規な樹脂製シート、およびチューブの提供。【解決手段】凸部間の距離が10〜500nmである凸凹構造の反転構造を有する平面状の型を作製し、シートに転写する、凹凸構造を表面に有する樹脂製シート。又は同様に凸凹構造の反転構造を有する棒状の型を作製して、その棒状の型を円筒状の型の中心に配置して、棒状の型と円筒状の型の間に樹脂を射出するか、又は凸凹構造の反転構造を内面に有する円筒状の型と棒状の型を中心に配置して、円筒状の型と棒状の型の間に樹脂を射出して、表面あるいは内面に凹凸構造を有するチューブ。凹凸構造が凹部に水を保持でき、ナノポーラス構造であることが、好ましいシート又はチューブ。【効果】凹凸構造の凹部に水が保持されて、水膜12が形成され、形成された水膜12が、蛋白質等の油性成分11を弾く為、油性成分11付着を防止できる、超ナノ親水構造となっている。【選択図】図1

7. 发明专利

JP6401975B2 フォトマスクおよびその製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP6401975B2
公开(公告)日：2018-10-10
申请号：JP2014175693
申请日：2014-08-29
申请人：公立大学法人大阪府立大学 , リソテックジャパン株式会社
发明人：上田直樹 , 笹子勝 , 平井義彦 , 南洋一
IPC分类号： G03F1/26

8. 发明专利

JP6220655B2 雰囲気制御機構及び小型製造装置有权
公开(公告)号：JP6220655B2
公开(公告)日：2017-10-25
申请号：JP2013249999
申请日：2013-12-03
申请人：リソテックジャパン株式会社 , 国立研究開発法人産業技術総合研究所 , 株式会社パルサ
发明人：扇子義久 , 原史朗 , クンプアンソマワン , 武内翔 , 土井幹夫 , 荒崎成雄 , 杉山幸弘 , 服部晃一
IPC分类号： B05C11/08 , H01L21/304 , H01L21/027

9. 发明专利

JP2017055083A 柱状層流生成装置ならびに柱状層流生成方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017055083A
公开(公告)日：2017-03-16
申请号：JP2015180083
申请日：2015-09-11
申请人：国立研究開発法人産業技術総合研究所 , リソテックジャパン株式会社 , オリエンタルモーター株式会社
发明人：奥田修史 , クンプアンソマワン , 原史朗 , 武内翔 , 扇子義久 , 伊藤孝宏
IPC分类号： F24F13/06 , H01L21/027 , H01L21/683
CPC分类号： B08B5/02 , B08B15/00 , H01L21/67017 , H01L21/6715
摘要：【課題】柱状層流を生成することのできる柱状層流生成装置を提供することを課題とする。【解決手段】被処理物を載置する載置部と、開口部を有するガス吹出部と、ガス吸引路とを有し、前記載置部は、前記開口部の内壁面を、前記前記開口部に対して垂直な方向に伸ばした面を外周面とする空間内に位置し、前記開口部は、内壁面にガスを該開口部に対して垂直な一方方向に吹き出すガス吹出口を有し、前記ガス吸引路は、ガスを吹き出す方向とは逆方向にガスを吸引するように形成されている柱状層流生成装置。【選択図】図3

10. 发明专利

JP2007019354A Method of rinsing edge of substrate 审中-公开
标题翻译：衬底边缘的研磨方法
公开(公告)号：JP2007019354A
公开(公告)日：2007-01-25
申请号：JP2005201032
申请日：2005-07-11
申请人： Risotetsuku Japan Kk , リソテックジャパン株式会社
发明人： SEKIGUCHI ATSUSHI
IPC分类号： H01L21/304 , G02F1/13 , G02F1/1333
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a resist pattern conforming with a substrate shape by moving a nozzle which discharges a rinsing liquid according to the substrate shape of a substrate which is not circular, e.g. rectangular.
SOLUTION: A method of rinsing includes a step of detecting an edge position of the substrate, and moving the position of the rinsing liquid nozzle according to the detected edge position of the substrate.
COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

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