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1. 发明专利

JP2015056598A パターン形成装置およびそれを用いたパターン形成方法审中-公开
标题翻译：图案形成装置和图案形成方法
公开(公告)号：JP2015056598A
公开(公告)日：2015-03-23
申请号：JP2013190573
申请日：2013-09-13
申请人：公立大学法人大阪府立大学 , Osaka Prefecture Univ , リソテックジャパン株式会社 , Risotetsuku Japan Kk , リソテックジャパン株式会社
发明人： HIRAI YOSHIHIKO , KITAGAWA TAKUYA , SEKIGUCHI ATSUSHI
IPC分类号： H01L21/027 , B29C59/02
摘要：【課題】簡素な装置構成でありながら転写された凹凸パターンの欠陥率を安定的に低減することができるパターン形成装置およびそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】表面に樹脂層を有する平板状の被加工物Wを保持する第1ホルダ10と、微細な凹凸パターンを有する金型20と、第1ホルダにて保持された被加工物の前記樹脂層と対向するように金型を保持する第2ホルダ30と、被加工物と金型とを相対的に接近および離間させる方向である移動方向に前記第1または第2ホルダを移動させる移動機構40とを備え、金型の凹凸パターンを樹脂層に押し付けて凹凸パターンを被加工物に転写するように構成され、移動機構は、第1または第2ホルダと連結する昇降部材と、昇降部材を移動させる駆動部42と、駆動部を制御する制御部70とを備え、制御部は、昇降部材を移動方向に往復移動させるように駆動部を制御するよう構成される。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种图案形成装置，其能够在具有简单的装置结构的情况下稳定地降低转印的凹凸图案的缺陷率，以及使用其的图案形成方法。图案形成装置包括：第一保持器10 保持其上形成有树脂层的板状工件W; 具有细小凹凸图案的金属模20; 保持金属模具以与由第一保持器保持的工件的树脂层相对的第二保持件30; 以及移动机构40，用于沿着保持器移动以使工件和金属模相对靠近/远离的方向的移动方向移动第一或第二保持器。图案形成装置被构造成使得金属模具的不均匀图案被按压到树脂层以将不均匀图案转印到工件。移动机构40包括连接到第一或第二保持器的提升构件，用于移动提升构件的驱动部42和用于控制驱动部的控制部70。控制部被构造成控制驱动部，使得驱动部在移动方向上使提升部件往复移动。

2. 发明专利

JP2014167980A Pattern forming apparatus and pattern forming method using the same 有权
标题翻译：图案形成装置和图案形成方法
公开(公告)号：JP2014167980A
公开(公告)日：2014-09-11
申请号：JP2013039299
申请日：2013-02-28
申请人： Osaka Prefecture Univ , 公立大学法人大阪府立大学 , Risotetsuku Japan Kk , リソテックジャパン株式会社
发明人： HIRAI YOSHIHIKO , NISHINO TOMOKI , SEKIGUCHI ATSUSHI
IPC分类号： H01L21/027 , B29C59/02
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern forming apparatus and pattern forming method with which a defect rate of a printed convex-concave pattern can be reduced stably.SOLUTION: A pattern forming apparatus comprises: a first holder for holding a plate-like workpiece having a resin layer on a surface thereof; a metal mold having a fine convex-concave pattern; a second holder for holding the metal mold so that the metal mold faces to the resin layer of the workpiece; and a moving mechanism for moving the second holder in a direction where the second holder moves to make the workpiece and the metal mold relatively come close to/move away from each other. The convex-concave pattern of the metal mold is pressed on the resin layer so that the convex-concave pattern is printed. The moving mechanism includes: three or more moving rods which are to be connected to three or more prescribed points of the first or the second holder; a drive unit for moving the plurality of moving rods; and a control unit for controlling the drive unit. The plurality of prescribed points of the first or the second holder are positioned on a circumference surrounding the workpiece or the metal mold. The control unit controls the drive unit so that the plurality of moving rods is moved by a prescribed distance one by one in order in one circumferential direction.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够稳定地降低印刷凸凹图案的缺陷率的图案形成装置和图案形成方法。解决方案：图案形成装置包括：第一保持器，用于保持板状工件在其表面上具有树脂层; 具有细凹凸图案的金属模具; 用于保持金属模具使得金属模具面对工件的树脂层的第二保持器; 以及移动机构，用于沿着第二保持器移动的方向移动第二保持器以使工件和金属模相对靠近/远离彼此。金属模的凸凹图案被压在树脂层上，从而印刷凸凹图案。移动机构包括：三个或更多个移动杆，其将连接到第一或第二保持器的三个或更多个规定点; 用于移动所述多个移动杆的驱动单元; 以及用于控制驱动单元的控制单元。第一或第二支架的多个规定点位于围绕工件或金属模具的圆周上。控制单元控制驱动单元，使得多个移动杆在一个圆周方向上依次移动规定的距离。

3. 发明专利

JP2009081360A Optical irradiation unit for optical imprint 有权
标题翻译：用于光学印刷的光学辐射单元
公开(公告)号：JP2009081360A
公开(公告)日：2009-04-16
申请号：JP2007250850
申请日：2007-09-27
申请人： Osaka Prefecture Univ , Risotetsuku Japan Kk , リソテックジャパン株式会社 , 公立大学法人大阪府立大学
发明人： SEKIGUCHI ATSUSHI , HIRAI YOSHIHIKO
IPC分类号： H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical irradiation unit for carrying out optical imprint by using press or thermal press.
SOLUTION: This optical irradiation unit for optical imprint includes a cabinet, having an opening at a part of its bottom with top flat surface and bottom flat surface parallel to each other, and a means which irradiates light from the opening toward the outside of the cabinet, in the cabinet.
COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种通过使用压力机或热压机进行光学印迹的光学照射单元。解决方案：用于光学印迹的光学照射单元包括：机壳，其底部的一部分具有顶部平坦表面和底部平坦表面彼此平行的部分;以及将来自开口的光朝向外部照射的装置的柜子，在柜子里。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

4. 发明专利

JP2008044283A Method of manufacturing mold for molding structure having nanostructure and microstructure, and method of manufacturing structure using the same 有权
标题翻译：制造具有纳米结构和微结构的成型结构的模具的制造方法以及使用其制造结构的方法
公开(公告)号：JP2008044283A
公开(公告)日：2008-02-28
申请号：JP2006223545
申请日：2006-08-18
申请人： Osaka Prefecture Univ , Risotetsuku Japan Kk , リソテックジャパン株式会社 , 公立大学法人大阪府立大学
发明人： HIRAI YOSHIHIKO , KAWADA HIROAKI , OKUDA KEISUKE , SEKIGUCHI ATSUSHI , KONO YOSHIYUKI
IPC分类号： B29C33/38 , B29C43/02 , B29C43/36 , B29C59/02 , B81C99/00 , B82B3/00
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a simple method for manufacturing a metallic mold for molding a structure having a nanostructure and a microstructure.
SOLUTION: The method of manufacturing the mold comprises steps of (a) transferring a reversal structure of the nanostructure to a photo-hardenable resin film by pushing a light-transmitting original plate which has a mask having a plane pattern of the nanostructure and the microstructure on a face to be pushed to the film in a state that the film is softened by heating, (b) exposing the obtained film to light from above the original plate through the mask, (c) releasing the obtained hardened film from the original plate, (d) forming the reversal structure of the microstructure on the film by developing the released film to remove an unexposed part, (e) preparing a replica having the nanostructure and the microstructure formed on the surface thereof using the obtained film; and (f) preparing the mold having the reversal structure of the nanostructure and the microstructure formed on the surface thereof by depositing a metallic material on the replica.
COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种制造用于模制具有纳米结构和微结构的结构的金属模具的简单方法。解决方案：制造模具的方法包括以下步骤：（a）通过推动具有具有纳米结构的平面图案的掩模的透光原版，将纳米结构的反转结构转印到光致硬化树脂膜上（b）通过掩模使得到的膜从原板上方曝光，（c）将得到的硬化膜从（d）通过显影释放的膜去除未曝光部分，（e）使用所获得的膜制备具有纳米结构和在其表面上形成的微结构的复制品，从而在膜上形成微结构的反转结构; 和（f）通过在复制品上沉积金属材料来制备具有纳米结构的反转结构的模具和在其表面上形成的微结构。版权所有（C）2008，JPO＆INPIT

5. 发明专利

JP2014211426A 光透過度測定方法有权
标题翻译：光传输测量方法
公开(公告)号：JP2014211426A
公开(公告)日：2014-11-13
申请号：JP2013171098
申请日：2013-08-21
申请人：リソテックジャパン株式会社 , Risotetsuku Japan Kk , リソテックジャパン株式会社
发明人： SEKIGUCHI ATSUSHI
IPC分类号： G01N21/33 , H01L21/027
CPC分类号： G01N21/33 , H01L21/30
摘要：【課題】多層膜反射基板を用いる代わりに超薄膜Si基板を用いた、簡便な光透過度の測定方法の提供。【解決手段】 Si基板の片面に、光が透過可能な厚さにされた超薄膜領域を形成する工程、該超薄膜領域の光透過度を測定する工程、該Si基板の他方の面上にフォトレジストを塗布する工程、および該Si基板とフォトレジストの光透過度を測定する工程を含む、光の透過度測定方法。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供使用超薄膜Si衬底的简单的透光率测量方法，而不是使用多层膜反射衬底。解决方案：透光率的测量方法包括以下步骤：形成具有在Si衬底的一个表面上由光透过的厚度; 测量超薄膜区域的透光率; 在所述Si衬底的另一表面上施加光致抗蚀剂; 并测量Si衬底和光致抗蚀剂的每个透光率。

6. 发明专利

JP2007019354A Method of rinsing edge of substrate 审中-公开
标题翻译：衬底边缘的研磨方法
公开(公告)号：JP2007019354A
公开(公告)日：2007-01-25
申请号：JP2005201032
申请日：2005-07-11
申请人： Risotetsuku Japan Kk , リソテックジャパン株式会社
发明人： SEKIGUCHI ATSUSHI
IPC分类号： H01L21/304 , G02F1/13 , G02F1/1333
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a resist pattern conforming with a substrate shape by moving a nozzle which discharges a rinsing liquid according to the substrate shape of a substrate which is not circular, e.g. rectangular.
SOLUTION: A method of rinsing includes a step of detecting an edge position of the substrate, and moving the position of the rinsing liquid nozzle according to the detected edge position of the substrate.
COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：通过移动根据不是圆形的基板的基板形状排出冲洗液体的喷嘴来获得符合基板形状的抗蚀剂图案，例如，长方形。解决方案：一种冲洗方法包括检测基板的边缘位置并根据检测到的基板的边缘位置移动冲洗液喷嘴的位置的步骤。版权所有（C）2007，JPO＆INPIT

7. 发明专利

JP2006173508A Optical imprint method 有权
标题翻译：光学印象法
公开(公告)号：JP2006173508A
公开(公告)日：2006-06-29
申请号：JP2004366972
申请日：2004-12-20
申请人： Pulsa:Kk , Risotetsuku Japan Kk , リソテックジャパン株式会社 , 株式会社パルサ
发明人： SEKIGUCHI ATSUSHI , KONO YOSHIYUKI , HATTORI KOICHI , ARASAKI SHIGEO
IPC分类号： H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an even distribution of residual films in an optical imprint method, developing a method in which no fringe pattern is generated when irradiating UV, etc.
SOLUTION: This optical imprint method includes the steps of (1) performing a preliminary exposure with such an exposure amount that the degree of cross-linkage of a resist becomes a specified value to the resist applied to a substrate to increase its viscosity, (2) pressing a mold to the resist for embossing, and (3) performing a production exposure so that the degree of cross-linkage becomes more than 0.8, and approximately complete curing takes place, thus performing optical imprint while maintaining resin plasticity.
COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：为了在光学压印方法中提供均匀的残留膜分布，开发当照射UV等时不产生条纹图案的方法。解决方案：该光学印记方法包括步骤（1）以使抗蚀剂的交联度成为规定值的曝光量进行预曝光，使其施加到基板上以增加其粘度，（2）将模具压到抗蚀剂上进行压印，和（3）进行生产曝光，使得交联度变得大于0.8，并且几乎完全固化，从而在保持树脂可塑性的同时执行光学印记。版权所有（C）2006，JPO＆NCIPI

8. 发明专利

JP2005077944A Photoreaction analyzing apparatus 有权
标题翻译：光电分析仪
公开(公告)号：JP2005077944A
公开(公告)日：2005-03-24
申请号：JP2003310495
申请日：2003-09-02
申请人： Risotetsuku Japan Kk , リソテックジャパン株式会社
发明人： SEKIGUCHI ATSUSHI , KONO YOSHIYUKI , MINAMI YOICHI
IPC分类号： G03F7/26 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new method for observation of a reaction during exposure and of an accurate reaction during baking and to provide an apparatus therefor. SOLUTION: The photo-reaction analyzing apparatus includes a bake plate, a means to press a sample to the bake plate, a means to irradiate the sample with exposure energy, a means to irradiate the sample surface with light from a FT-IR light source to measure the FT-IR spectrum of the sample, and a means to pickup the response. The apparatus further includes a means to accurately control the distance between the bake plate and the sample. COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于在曝光期间观察反应和在烘烤期间准确反应的新方法，并提供其设备。解决方案：光反应分析装置包括烘烤板，将样品压到烘烤板上的装置，用曝光能量照射样品的装置，用于从样品表面照射来自FT- 红外光源来测量样品的FT-IR光谱，以及一种获取响应的方法。该装置还包括精确地控制烘烤板和样品之间的距离的装置。版权所有（C）2005，JPO＆NCIPI

9. 发明专利

JP2005156590A Exposure mask 审中-公开
标题翻译：曝光面膜
公开(公告)号：JP2005156590A
公开(公告)日：2005-06-16
申请号：JP2003390653
申请日：2003-11-20
申请人： Risotetsuku Japan Kk , リソテックジャパン株式会社
发明人： SEKIGUCHI ATSUSHI , DOI MIKIO
IPC分类号： G03F1/60 , G03F7/20 , H01L21/027 , G03F1/14
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new contact exposure method for developing a photoresist which copes with F 2 lithography, and to provide a preferable exposure mask used therefor, and to provide an exposure device for carrying out the method. SOLUTION: The contact exposure method uses the exposure mask having a projection shape. Patterning of the resist for F2 exposure using fluoropolymer is enabled by the exposure method and device using the exposure mask, and can be used meaningfully for developing the resist for F2 lithography. COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

10. 发明专利

JP2005331275A Intensity measuring method of single-wavelength light in euv domain 审中-公开
标题翻译： EUV域单波长强度测量方法
公开(公告)号：JP2005331275A
公开(公告)日：2005-12-02
申请号：JP2004147954
申请日：2004-05-18
申请人： Risotetsuku Japan Kk , リソテックジャパン株式会社
发明人： AZUMA HIROZUMI , NISHIMURA YASUHIKO , MINAMI YOICHI , SEKIGUCHI ATSUSHI , KADOI MIKIO
IPC分类号： G01J3/18 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an intensity measuring method of single-wavelength light in an EUV domain, and a method for measuring transmissivity of a material to the single-wavelength light in the EUV domain.
SOLUTION: This intensity measuring method of the single-wavelength light in the EUV domain includes spectral diffraction of EUV light by a diffraction grating, entrance of the spectrally-diffracted light into a multilayer film mirror, reflection of the single-wavelength light, and measurement of the reflected light intensity.
COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

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