专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

62. 发明专利

JP2017209730A レーザーマーキングマトリクスシステムを制御する方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017209730A
公开(公告)日：2017-11-30
申请号：JP2017104269
申请日：2017-05-26
申请人：マクサ・アイディ・エセ・アー
发明人：スヴェン・アレクサンダー・フォーグラー , ヴァレンティ・ボイラ・プランス , ホアン・キャンプス・クララムント , フランセスク・ブラヴォ・モンテロ
IPC分类号： B23K26/064 , B23K26/00
CPC分类号： B41J2/471 , B23K26/0066 , B23K26/0084 , B23K26/0604 , B23K26/362 , B23K26/70 , B41J2/455
摘要：【課題】本発明は、様々な製品要求に応じて、マーキングされる印刷の変化に対するレーザーマーキングシステムの適応に関する。【解決手段】レーザーマーキングを生成するN×Mマトリクスのレーザーを具備するレーザーマトリクスシステムを制御するための方法であって、マーキングすべき少なくとも2つの像を、N×Mマトリクスのドットに基づく一連のマーキング命令に逐次変換するステップを含む方法が、第1の像の、固定部分及び可変部分への分割ステップと、固定部分の固定マトリクスへの変換ステップと、可変部分の可変マトリクスへの変換ステップと、固定マトリクスと可変マトリクスとの組み合わせステップと、第1の像のレーザーマーキングステップと、第2の像の処理ステップと、以前の固定マトリクスに追加される新しい可変マトリクスを取得するステップと、完全な新しいマトリクスを生成するステップと、第2の像のレーザーマーキングステップとを含む。【選択図】図1

64. 发明专利

JP2017082321A 加工物の幾何学的形状に依存して照射システムを制御する方法及びデバイス审中-公开
公开(公告)号：JP2017082321A
公开(公告)日：2017-05-18
申请号：JP2016138084
申请日：2016-07-13
申请人：エスエルエムソルーションズグループアーゲー , SLM Solutions Group AG , エスエルエムソルーションズグループアーゲー
发明人： ANDREAS WIESNER , DIETER SCHWARZE , TONI ADAM KROL
IPC分类号： B22F3/105 , B22F3/16 , B23K26/21 , B23K26/34 , B28B1/30 , B29C67/00 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , B33Y50/02
CPC分类号： B29C67/0088 , B22F3/1055 , B22F2003/1056 , B22F2003/1057 , B23K26/0604 , B23K26/082 , B23K26/342 , B29C64/153 , B29C64/386 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , B33Y50/02
摘要：【課題】原材料粉末の層を電磁波放射又は粒子線で照射することによって三次元加工物を製造する装置に使用され、かつ、複数の照射ユニットを有する照射システムを、三次元加工物を高効率で製造することができるように制御可能な方法及びデバイスを提供する。【解決手段】照射システム(20)の第1の照射ユニット(22a)が第1の照射領域(18a)と重複領域(19)に割り当てられ、照射システム(20)の第2の照射ユニット(22b)が第2の照射領域(18b)と重複領域(19)に割り当てられる。第1の照射領域(18a)、第2の照射領域(18b)及び重複領域(19)の少なくとも1つが、製造される三次元加工物の幾何学的形状に依存して定義される。【選択図】図1

65. 发明专利

JP2016225536A ウエーハの生成方法有权
标题翻译：产生晶片的方法
公开(公告)号：JP2016225536A
公开(公告)日：2016-12-28
申请号：JP2015112317
申请日：2015-06-02
申请人：株式会社ディスコ
发明人：平田和也
IPC分类号： B23K26/53 , B23K26/067 , B28D5/04 , H01L21/304
CPC分类号： B23K26/0057 , B23K26/0604 , B23K26/53 , H01L29/04 , H01L29/1608 , H01L29/2003 , B23K2203/56
摘要：【課題】インゴットから効率よくウエーハを生成することのできるウエーハの生成方法を提供することである。【解決手段】六方晶単結晶インゴットからウエーハを生成するウエーハの生成方法であって、六方晶単結晶インゴットに対して透過性を有する波長のレーザービームの集光点を表面から生成するウエーハの厚みに相当する深さに位置付けると共に、集光点とインゴットとを相対的に移動してレーザービームを表面に照射し、表面に平行な改質層及び該改質層から伸長するクラックを形成して分離起点を形成する分離起点形成ステップと、分離起点からウエーハの厚みに相当する板状物をインゴットから剥離して六方晶単結晶ウエーハを生成するウエーハ剥離ステップとを含む。分離起点形成ステップにおいて、オフ角が形成される方向にレーザービームの集光点を所定の間隔を持って2個以上位置付けて、直線状の改質層を2本以上同時に形成する。【選択図】図7
摘要翻译：公开的是提供一种生产可以有效地制造从锭晶片的晶片的方法。本发明涉及晶片的生成方法，以产生由六方Akiratan晶锭的晶片中，晶片的厚度，以产生从一个表面上具有透射波长六边形Akiratan晶锭的激光束的焦点与在对应于深度位置时，激光束照射到所述表面相对移动并使焦点和锭以形成从平行重整层延伸的裂纹和表面上的重整层包括形成开始点的分离的分离开始点形成工序中，板状材料，其从分离对应起点到晶片的厚度，并产生一个六边形Akiratan晶体晶片从铸锭剥离的晶片去除步骤。在分离开始点形成工序中，在方向上的激光束的焦点，其中，偏离角是通过定位两个或更多个以预定间隔以形成线性改性层同时两个或多个形成。点域7

66. 发明专利

JP2016527386A 表面下の孔隙を除去する方法审中-公开
标题翻译：去除毛孔的方法地下
公开(公告)号：JP2016527386A
公开(公告)日：2016-09-08
申请号：JP2016512066
申请日：2014-05-02
申请人：ユナイテッドテクノロジーズコーポレイションUnited Technologies Corporation , ユナイテッドテクノロジーズコーポレイションUnited Technologies Corporation
发明人：オニール，クリストファー，エフ．
IPC分类号： B22F3/16 , B22F3/105 , B23K15/00 , B23K26/00 , B28B1/30 , B33Y10/00
CPC分类号： B23K26/0604 , B22F3/1055 , B23K26/342 , B29C64/153 , B29C64/386 , B29C67/0077 , B29C67/0088 , B29K2105/251 , B33Y10/00
摘要：付加製造装置の作動方法が、第1のエネルギービームをビルド面の表面輪郭ベクトルに沿って案内することを備える。第2のエネルギービームが表面輪郭ベクトルの内側のビルド面に配置されている複数の実質的に平行なハッチベクトルに沿って案内される。表面輪郭ベクトルと複数のハッチベクトルの合計がビルド面の処理された粉末領域を画定する。第3のエネルギービームがビルド面のオフセット輪郭ベクトルに沿って案内される。オフセット輪郭ベクトルは、ビルド面における表面輪郭ベクトルと複数のハッチベクトルとの間の複数の未処理の粉末領域を含む。
摘要翻译：用于操作额外制造装置方法包括沿着所述第一能量束到构建表面的表面轮廓矢量的引导。第二能量束被引导沿多个基本上平行的舱口矢量都位于表面轮廓矢量的生成面的内侧。总表面轮廓矢量和多个限定构造表面的经处理的粉末区域舱口载体。第三能束沿构建表面的偏移轮廓矢量被引导。偏移轮廓矢量包括所述表面轮廓矢量和在构建表面上的多个舱口矢量之间的多个未经处理的粉末区域。

67. 发明专利

JP5731983B2 脆性ワークの切断方法及び切断装置有权
标题翻译：切割方法和切割装置用于脆性工件
公开(公告)号：JP5731983B2
公开(公告)日：2015-06-10
申请号：JP2011533017
申请日：2010-09-24
申请人：株式会社IHI検査計測
发明人：大脇桂 , 松坂文夫
IPC分类号： C03B29/02 , C03C23/00 , B23K26/00 , B23K26/073 , C03B33/09
CPC分类号： C03B33/093 , B23K26/0604 , B23K26/082 , B23K26/0853 , B23K26/12 , B23K26/14 , B23K26/38 , B23K26/40 , B23K2203/50

70. 发明专利

JP5485250B2 Method and apparatus for manufacturing a silicon thin rod 有权
公开(公告)号：JP5485250B2
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：JP2011273623
申请日：2011-12-14
申请人：ワッカーケミーアクチエンゲゼルシャフトWacker Chemie AG
发明人：リヒテンエッガーブルーノ , シャンツマテウス
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： B28D5/0076 , B23K26/0604 , B23K26/146 , B23K26/38 , B23K26/40 , B23K2203/50 , B28D5/029 , B28D5/045 , C01B33/035

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式