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    • 62. 发明专利
    • Magnetic storage element and magnetic memory
    • 磁存储元件和磁记忆
    • JP2005129858A
    • 2005-05-19
    • JP2003366337
    • 2003-10-27
    • Sony Corpソニー株式会社
    • IGARASHI MINORUBESSHO KAZUHIROENDO KEITAROHIGO YUTAKAKANO HIROSHIKUBO SHINYAMIZUGUCHI TETSUYANARISAWA KOSUKEOBA KAZUHIROOMORI HIROYUKISONE TAKESHIYAMADA NAOMIYAMAMOTO TETSUYAHOSOMI MASAKATSU
    • H01L27/105H01L21/8246H01L43/08
    • PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a magnetic storage element that is constituted to reduce the power consumption required for recording information, and to provide a magnetic memory. SOLUTION: The magnetic storage element 1 has a storage layer 3 which holds information based on the magnetized state of a magnetic material and is composed of a plurality of magnetic layers 16 and 18. The element 1 is constituted by disposing a magnetization fixing layer 2 composed of a plurality of magnetic layers 12 and 14 on the storage layer 3 through a nonmagnetic layer 15, and selecting the saturation magnetization and film thicknesses of the magnetic layers 12 and 14 of the magnetization fixing layer 2 so that the layer 2 may generate magnetic fields at magnetic poles. The magnetic memory has magnetic storage elements 1 thus constituted, and first and second wiring 5 and 6 intersecting each other. The magnetic storage elements 1 are respectively disposed near the intersecting points of the first and second wiring 5 and 6. COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI
    • 解决的问题:提供构成为减少记录信息所需的功耗并提供磁存储器的磁存储元件。 解决方案:磁存储元件1具有存储层3,其存储基于磁性材料的磁化状态的信息,并且由多个磁性层16和18组成。元件1通过设置磁化固定 通过非磁性层15在存储层3上由多个磁性层12和14组成的层2,并且选择磁化固定层2的磁性层12和14的饱和磁化强度和膜厚度,使得层2可以 在磁极上产生磁场。 磁存储器具有这样构成的磁存储元件1,第一布线5和第二布线6彼此交叉。 磁存储元件1分别设置在第一和第二布线5和6的相交点附近。版权所有(C)2005,JPO&NCIPI
    • 68. 发明专利
    • 記憶素子、記憶装置、記憶素子の製造方法、磁気ヘッド
    • 存储元件,存储器件,存储元件和磁头的制造方法
    • JP2015002281A
    • 2015-01-05
    • JP2013126388
    • 2013-06-17
    • ソニー株式会社Sony Corp
    • OMORI HIROYUKIHOSOMI MASAKATSUBESSHO KAZUHIROHIGO YUTAKAYAMANE KAZUAKIUCHIDA HIROYUKI
    • H01L21/8246G11B5/39H01L27/105H01L29/82H01L43/08H01L43/10
    • H01L43/12G11C11/161H01L27/228H01L43/08
    • 【課題】トンネルバリア層とスピンバリア層の二つの酸化物膜を有する記憶素子において、保持特性の低下や記録電流の上昇を抑えながら、素子抵抗を下げ、低い書き込み電圧、および大きな磁気抵抗変化が得られるようにする。【解決手段】記憶素子は、膜面に垂直な磁化を有し、情報に対応して磁化の向きが変化される記憶層と、記憶層に記憶された情報の基準となる膜面に垂直な磁化を有する磁化固定層と、記憶層と磁化固定層の間に設けられる酸化物によるトンネルバリア層と、記憶層のトンネルバリア層に接する面とは反対側の面に接して設けられる酸化物によるスピンバリア層とを有する。そして所定の設定膜厚値で形成されるスピンバリア層内には、その一部に低抵抗領域が形成されているようにする。【選択図】図3
    • 要解决的问题:为了提供具有隧道势垒层和自旋阻挡层的两个氧化物膜的存储元件,其在抑制保持特性的劣化和记录电流的增加的同时降低元件电阻,由此实现低写入 电压和大的磁阻变化。解决方案:存储元件包括:具有垂直于膜表面的磁化和对应于信息变化的磁化方向的记录层; 具有垂直于膜表面的磁化的磁化固定层作为存储在记录层中的信息的参考; 隧道势垒层,设置在记录层和磁化固定层之间,由氧化物形成; 以及与所述记录层的表面接触设置的自旋阻挡层,所述自旋势垒层位于与所述隧道势垒层接触的表面的相反侧,并且由氧化物形成。 在以预定的设定膜厚度值形成的自旋阻挡层的一部分处形成低电阻区域。