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51. 发明专利

JP2005283502A Method for analyzing sample 有权
标题翻译：分析样本的方法
公开(公告)号：JP2005283502A
公开(公告)日：2005-10-13
申请号：JP2004101357
申请日：2004-03-30
申请人： Horiba Ltd , 株式会社堀場製作所
发明人： NABATOVA-GABAIN NATALIA , HIRAKAWA SEIICHI , WASAI YOKO
IPC分类号： G01B11/06 , G01J4/00 , G01J4/04 , G01N21/21 , G01N21/41 , H01L21/66
CPC分类号： G01N21/211 , G01N2021/213
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To enable a sample which has a dielectric film whose dielectric constant is not less than 50 on the basis of an electrical measurement, to be analyzed over the entire optical range, based on a measurement result of an ellipsometer.
SOLUTION: The sample, wherein on a substrate the dielectric film is formed, whose dielectric constant is not less than 50 on the basis of the electrical measurement, is measured by the ellipsometer, and a model according to the sample is created, based on an effective medium approximation (EMA). In the model, a film corresponding to the dielectric film is formed so as to have the void ratio in the range of 60% to 90%. A value, calculated from the model, is compared to a value measured by the ellipsometer, and a fitting process is carried out so that the difference between both values becomes small, thereby specifying the film thickness and the optical constants of the sample.
COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：为了使基于电测量的介电常数不小于50的电介质膜的样品在整个光学范围内基于椭偏仪的测量结果进行分析。
解决方案：通过椭偏仪测量其中在基板上形成电介质膜的介电常数不小于50的电介质膜的样品，并且根据样品产生模型，基于有效介质近似（EMA）。在该模型中，形成与电介质膜相对应的膜，以使空隙率在60％〜90％的范围内。将从模型计算的值与由椭圆偏振仪测量的值进行比较，并且进行拟合处理，使得两个值之间的差变小，从而指定样品的膜厚度和光学常数。版权所有（C）2006，JPO＆NCIPI

52. 发明专利

JP2005257475A Measuring method, analysis method, measuring device, analysis device, ellipsometer, and computer program 有权
标题翻译：测量方法，分析方法，测量装置，分析装置，ELLIPSOMETER和计算机程序
公开(公告)号：JP2005257475A
公开(公告)日：2005-09-22
申请号：JP2004069655
申请日：2004-03-11
申请人： Horiba Ltd , 株式会社堀場製作所
发明人： NABATOVA-GABAIN NATALIA , WASAI YOKO
IPC分类号： G01B11/02 , G01B11/06 , G01J3/02 , G01J3/447 , G01J4/00 , G01N21/00 , G01N21/17 , G01N21/21 , G01N21/41 , G01N21/47 , G01N21/65
CPC分类号： G01N21/211 , G01B11/0641 , G01J3/28 , G01N2021/213
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To reconcile a time required for analysis with analysis accuracy in a well-balanced state. SOLUTION: In this ellipsometer 1, measurement is performed relative to some point on a sample S by a first spectroscope 8 and a second spectroscope 9. Analysis is performed by using a measurement result from the first spectroscope 8 and analysis is also performed by using a measurement result from the second spectroscope 9, and an approximate expression for approximating an analysis result relative to the second spectroscope 9 to an analysis result relative to the first spectroscope 8 is calculated. Measurement is performed relative to residual points on the sample S by the second spectroscope 9, and an analysis result acquired by using the result is corrected on the basis of the approximate expression. Since the second spectroscope 9 has a shorter measuring time, through having lower measurement accuracy, compared with the first spectroscope 8, the total measuring time becomes short, and since the analysis result relative to the second spectroscope 9 is corrected, the analysis accuracy is improved. COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：在均衡状态下，将分析所需的时间与分析精度相协调。解决方案：在该椭偏仪1中，通过第一分光器8和第二分光镜9对样品S上的某点进行测量。通过使用来自第一分光器8的测量结果进行分析，并且还执行分析通过使用来自第二分光器9的测量结果，并且计算用于将相对于第二分光器9的分析结果近似的近似表达式相对于第一分析器8的分析结果。通过第二分光镜9对样品S上的残留点进行测量，并且基于近似表达式校正通过使用结果获得的分析结果。由于第二分光计9具有较短的测量时间，通过具有较低的测量精度，与第一分光器8相比，总测量时间变短，并且由于相对于第二分光镜9的分析结果被校正，因此提高了分析精度。版权所有（C）2005，JPO＆NCIPI

53. 发明专利

JP2018105891A 変調光源を備える光学計測ツール审中-公开
公开(公告)号：JP2018105891A
公开(公告)日：2018-07-05
申请号：JP2018074068
申请日：2018-04-06
申请人：ケーエルエー−テンカーコーポレイション
发明人：シチェグロフアンドレイヴイ , ロッターローレンスディー , ワンデイヴィッドワイ , ヴェルドマンアンドレイ , ピーターリンツケヴィン , ブラディーグレゴリー , ショーネシーデリック
IPC分类号： G01B11/06 , G01B11/02
CPC分类号： G01N21/211 , G01B11/0616 , G01N21/4738 , G01N21/55 , G01N2021/213 , G03F7/70608 , G03F7/70625 , G03F7/70633
摘要：【課題】光学計測構成におけるコヒーレントアーチファクトの影響および過剰なノイズ源を緩和するためのシステムを提供する。【解決手段】試料台に配置された試料表面を照らすよう構成された変調可能な光源102と、試料表面から発する照明を検出する検出器110と、変調光源からの照明を試料表面に向けるよう構成された照明光学系104と、試料表面からの照明を検出器に向けるよう構成された集光光学系108と、変調可能な光源に通信可能に接続された変調制御システム112であって、変調可能な光源の駆動電流を、選択されたコヒーレンス特性長を有する照明の生成に適した選択された変調周波数で変調するよう構成された変調制御システム112を備える。【選択図】図1

54. 发明专利

JP2017175147A 試験体の測定または分析のためのシステムおよび方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017175147A
公开(公告)日：2017-09-28
申请号：JP2017092187
申请日：2017-05-08
申请人：ケーエルエー−テンカーコーポレイション
发明人：フィールデン,ジョン , ジャニック,ゲーリー , リー,シン , ザオ,クイアン , カーアック,トルステン , ヨー,スンチュル , タン,ゼンクアン
IPC分类号： G01B11/06 , G01N21/21 , G01N21/47 , H01L21/66
CPC分类号： G01J3/10 , G01N21/211 , G01N21/55 , G01J3/0286 , G01J3/36 , G01N2021/213 , G01N2021/335 , G01N21/33 , G01N21/9501
摘要：【課題】空気によって少なくとも部分的に吸収される光を使用するよう設計され、かつ、より能率的なパージングシステムを有する、光学ツールのための方法を開発する。【解決手段】試験体の測定のための方法において、該試験体の反射率測定データおよび分光偏光解析データを測定する工程と、該反射率測定データから、該試験体上に形成された窒化酸化物ゲート誘電体の厚さを判定する工程と、該厚さおよび該分光偏光解析データから、窒化酸化物ゲート誘電体の屈折率を判定する工程と、該屈折率から、該窒化酸化物ゲート誘電体の窒素濃度を判定する工程と、を含む。【選択図】図16

55. 发明专利

JP5787252B2 結晶化指数取得装置および結晶化指数取得方法有权
标题翻译：结晶化指标获取单元和结晶化指标获取方法
公开(公告)号：JP5787252B2
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：JP2011045940
申请日：2011-03-03
申请人：株式会社SCREENホールディングス , 国立大学法人岐阜大学
发明人：藤原裕之 , 山口真二 , 杉本克雄
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G01N21/211 , H01L22/12 , G01N2021/213 , H01L2924/0002

56. 发明专利

JP5745899B2 試験体の測定のために構成されたシステム有权
标题翻译：配置用于试样的测量系统
公开(公告)号：JP5745899B2
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：JP2011063893
申请日：2011-03-23
申请人：ケーエルエー−テンカーコーポレイション
发明人：フィールデン,ジョン , ジャニック,ゲーリー , リー,シン , ザオ,クイアン , カーアック,トルステン , ヨー,スンチュル , タン,ゼンクアン
IPC分类号： G01N21/21 , G01N21/27 , G01N21/33 , G01N21/41
CPC分类号： G01J3/10 , G01N21/211 , G01N21/55 , G01J3/0286 , G01J3/36 , G01N2021/213 , G01N2021/335 , G01N21/33 , G01N21/9501

57. 发明专利

JP5721586B2 光学特性測定装置および光学特性測定方法有权
标题翻译：光学特性测量装置及光学特性测量方法
公开(公告)号：JP5721586B2
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：JP2011176817
申请日：2011-08-12
申请人：大塚電子株式会社
发明人：山▲崎▼ 雄介 , 岡本宗大
IPC分类号： G01N21/41 , G01B11/06
CPC分类号： G01B11/06 , G01B11/0625 , G01B11/0641 , G01N21/211 , G01N2021/213

58. 发明专利

JP2015052602A 散乱計測を用いてオーバレイ誤差を検出する装置および方法审中-公开
标题翻译：使用散射测量来检测重叠误差的装置和方法
公开(公告)号：JP2015052602A
公开(公告)日：2015-03-19
申请号：JP2014202945
申请日：2014-10-01
申请人：ケーエルエー−テンカーコーポレイション , Kla-Encor Corp , ケーエルエー−テンカーコーポレイション
发明人： MIEHER WALTER D , LEWI ADY , BORIS GOLOVANEVSKY , MICHAEL FRIEDMAN , IAN SMITH , ADELE MICHAEL , ANATOLY FABRIKANT , CHRISTOPHER F BEVIS , JOHN FIELDEN , BECKETT NOAH , KENNETH P GROSS , ZARIKI PIOTR , WHACK DANG , PAOLA DECECCO , MARK GINOVKER , MOSHE BAROUCH , NOAM KNOLL
IPC分类号： G01B11/00 , G03F7/20 , G03F9/00 , H01L21/027 , H01L21/66
CPC分类号： G03F9/7088 , G01N21/956 , G01N2021/213 , G03F7/70625 , G03F7/70633 , G03F7/70683 , G03F9/7049 , G03F9/7084
摘要：【課題】複数レイヤ試料の2つのレイヤ間のオーバレイ誤差を決定する方法を提供する。【解決手段】試料の第1レイヤから形成される第1構造および第2レイヤから形成される第2構造をそれぞれ有する複数の周期的ターゲットについて、光学システムを用い、周期的ターゲットのそれぞれについて光学信号が計測される。第1および第2構造の間には既定義されたオフセットが存在する。散乱計測オーバレイ技術を用いて既定義されたオフセットに基づいて周期的ターゲットからの前記計測された光学信号を分析することによって第1および第2構造間のオーバレイ誤差が決定される。本光学システムは、反射計、偏光計、画像化、干渉計、および/または走査角システムのうちの任意の1つ以上を備える。【選択図】図2(e)
摘要翻译：要解决的问题：提供一种确定多个层样本的两层之间的重叠误差的方法。解决方案：多个周期性目标的光信号，每个周期性目标具有由第一层样品形成的第一结构和第二结构分别使用光学系统测量由第二层形成的层。已经定义的偏移存在于第一和第二结构之间。基于已经通过使用散射测量覆盖技术定义的偏移来分析来自周期性目标的测量光信号来确定第一和第二结构之间的覆盖误差。该光学系统包括反射器系统，偏振器系统，成像系统，干涉仪系统和/或扫描角度系统中的任意一个或多个。

59. 发明专利

JP2014215300A 物体の３次元構造を検出する装置有权
标题翻译：用于检测物体三维结构的装置
公开(公告)号：JP2014215300A
公开(公告)日：2014-11-17
申请号：JP2014090746
申请日：2014-04-24
申请人：ヴォコ・ゲー・エム・ベー・ハーVoco Gmbh , Voco Gmbh , ヴォコ・ゲー・エム・ベー・ハーVoco Gmbh
发明人： ALEXANDER KNUETTEL
IPC分类号： G01B11/24 , G01B9/02 , G01B11/06
CPC分类号： G01B11/2441 , A61B6/145 , G01B9/02001 , G01B9/02007 , G01B9/02027 , G01B9/02032 , G01B9/02047 , G01B9/02067 , G01N21/211 , G01N21/453 , G01N2021/213 , G01S7/4815 , G01S17/36 , G02B5/32 , G02B21/367 , G03H1/0005 , G03H1/0443 , G03H1/0465 , G03H1/0486 , G03H1/2645 , G03H1/265 , G03H1/32 , G03H2001/0033 , G03H2001/0212 , G03H2001/0445 , G03H2001/046 , G03H2001/0491 , G03H2001/266 , G03H2210/63 , G03H2222/13 , G03H2222/16 , G03H2222/17 , G03H2222/31 , G03H2222/34 , G03H2222/35 , G03H2223/19 , G03H2223/22 , G03H2223/23
摘要：【課題】物体の3次元構造の検出ならびにスペックルノイズを低減するための小型の装置を提供する。【解決手段】物体15の3次元構造を検出する装置1であって、第1のレーザーエミッタ2aと第2のレーザーエミッタ2bとを備え、光学素子4の少なくとも1つは、レーザーエミッタからのレーザー光線を参照光5と照射光6に分割するビームスプリッタであって、照射光6は物体15に入射し、物体15によって物体光21として反射し、参照光5に干渉し、干渉によって形成される干渉縞を記録する検出器12は、レーザーエミッタが、第1のレーザーエミッタ2aの照射光6と第2のレーザーエミッタ2bの照射光6が物体15に異なる入射角βで入射するように配置され、レーザーエミッタからのレーザー光線の2本の波長を測定する測定装置27を備え、干渉縞の記録に影響を及ぼす。【選択図】図1a
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于检测物体的3D结构并使斑点噪声最小化的紧凑装置。解决方案：用于检测物体15的3D结构的装置1包括第一激光发射器2a和第二激光发射器2b。光学装置4中的至少一个是将激光发射器的激光辐射分解为参考辐射5和照射辐射6的分束器。照射辐射6撞击物体15，被物体15作为物体辐射 21并且干扰参考辐射5时，检测器12记录由干涉形成的干涉图案，激光发射器的位置使得第一激光发射器2a的照射辐射6和第二激光器的照射辐射6 发射体2b以不同的角度＆bgr; 的发病率。装置1还包括测量装置27，其测量激光发射器的激光辐射的两个波长并影响干涉图案的记录。

60. 发明专利

JP2014524028A Multiple analyzer angle spectroscopic ellipsometry 审中-公开
公开(公告)号：JP2014524028A
公开(公告)日：2014-09-18
申请号：JP2014519266
申请日：2012-07-03
申请人：ケーエルエー−テンカーコーポレイション
发明人：ヒンドンクワック , ワードディクソン , レオニードポスラフスキー , トーステンカーク
IPC分类号： G01B11/06 , G01N21/00 , G01N21/21 , G01N21/41
CPC分类号： G01J4/00 , G01N21/211 , G01N2021/213
摘要：偏光解析システムおよび改良された安定性をもつ偏光解析データ収集方法が開示される。本開示によれば、複数の所定の離散アナライザ角を利用して単一測定に対する偏光解析データを収集し、これらの所定の離散アナライザ角で収集した偏光解析データに基づいて、データ回帰を実行する。単一測定に対する複数の離散アナライザを利用することにより、偏光解析システムの安定性が向上する。

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