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31. 发明专利

JP4908234B2 Evaporation source and vapor deposition apparatus 有权
公开(公告)号：JP4908234B2
公开(公告)日：2012-04-04
申请号：JP2006553019
申请日：2006-01-17
申请人：株式会社ユーテック
发明人：祐二本多 , 光博鈴木 , 浩二阿部
IPC分类号： C23C14/24 , H01L51/50 , H05B33/10
CPC分类号： C23C14/56 , C23C14/243

32. 发明专利

JP2011233521A Thin film deposition device, method for manufacturing organic light-emitting display device utilizing the device, and organic light-emitting display device manufactured by using the method 有权
标题翻译：薄膜沉积装置，利用该装置制造有机发光显示装置的方法，以及使用该方法制造的有机发光显示装置
公开(公告)号：JP2011233521A
公开(公告)日：2011-11-17
申请号：JP2011097909
申请日：2011-04-26
申请人： Samsung Mobile Display Co Ltd , 三星モバイルディスプレイ株式會社Samsung Mobile Display Co., Ltd.
发明人： SONG JEONG BAE , CHOI BEOHM ROCK , LEE SANG PIL , SONG YOUNG ROK
IPC分类号： H05B33/10 , C23C14/24 , H01L51/50 , H05B33/12
CPC分类号： C23C14/243 , C23C14/042 , C23C14/50 , C23C14/56 , H01L27/3216 , H01L27/3218 , H01L51/5278
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thin film deposition device which is easy to manufacture, easily applicable to a mass production process of large substrates, and capable of improving manufacturing yield and deposition efficiency; a method for manufacturing an organic light-emitting display device by utilizing the thin film deposition device; and an organic light-emitting display device manufactured by utilizing the method.SOLUTION: The thin film deposition device includes a plurality of thin film deposition assemblies. Each of the thin film deposition assemblies includes a deposition source, a deposition source nozzle part in which a plurality of deposition source nozzles are formed, a patterning slit sheet in which a plurality of patterning slits are formed, and a partitioning plate assembly including a plurality of partitioning plates for dividing a space between the deposition source nozzle part and the patterning slit sheet into a plurality of deposition spaces. The thin film deposition device is separated from a substrate by a predetermined distance. The thin film deposition device and the substrate are formed so that either one of them can be moved relatively with respect to the other. Each evaporation source includes a red light-emitting layer material, a green light-emitting layer material, a blue light-emitting layer material, or an auxiliary layer material.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种易于制造的薄膜沉积装置，易于适用于大型基板的大规模生产过程，并且能够提高制造成品率和沉积效率; 一种利用薄膜沉积装置制造有机发光显示装置的方法; 以及利用该方法制造的有机发光显示装置。薄膜沉积装置包括多个薄膜沉积组件。每个薄膜沉积组件包括沉积源，其中形成有多个沉积源喷嘴的沉积源喷嘴部分，其中形成有多个图案化缝隙的图案化缝隙片，以及包括多个沉积源喷嘴的分隔板组件的分隔板，用于将沉积源喷嘴部分和图案化缝隙片材之间的空间分成多个沉积空间。薄膜沉积装置与衬底分离预定距离。形成薄膜沉积装置和基板，使得它们中的任一个可以相对于另一个相对移动。每个蒸发源包括红色发光层材料，绿色发光层材料，蓝色发光层材料或辅助层材料。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

34. 发明专利

JP2011127190A In-line film forming apparatus, method for producing magnetic recording medium, and gate valve 审中-公开
标题翻译：在线成膜装置，生产磁记录介质的方法和门阀
公开(公告)号：JP2011127190A
公开(公告)日：2011-06-30
申请号：JP2009287679
申请日：2009-12-18
申请人： Showa Denko Kk , 昭和電工株式会社
发明人： TSUNODA YUKITAKA , UENO SATOSHI
IPC分类号： C23C14/34 , G11B5/85 , G11B5/851
CPC分类号： G11B5/85 , C23C14/34 , C23C14/3464 , C23C14/50 , C23C14/56 , C23C14/568 , F16K3/184 , F16K51/02 , H01L21/67126
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an in-line film forming apparatus capable of suppressing generation of vibrations accompanying an open/close operation of a gate valve and opening and closing the gate valve at a high speed.
SOLUTION: Just before a piston 114 in a cylinder 115 reaches an end in one direction, a second valve 117a is fully closed to discharge air through only a second flow rate control valve 117b; and just before the piston 114 in the cylinder 115 reaches an end in the other direction, a first valve 116a is fully closed to discharge air through only a first flow rate control valve 116b. Thereby, shocks due to the contact between the end of the cylinder 115 and the piston 114 are reduced, and generation of vibrations can be suppressed.
COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够抑制伴随闸阀的打开/关闭操作产生的振动并且高速打开和关闭闸阀的在线成膜设备。解决方案：在气缸115中的活塞114在一个方向上达到端部之前，第二阀117a完全关闭，仅通过第二流量控制阀117b排出空气; 并且在气缸115中的活塞114在另一方向上达到端部之前，第一阀116a完全关闭，仅通过第一流量控制阀116b排出空气。因此，由于气缸115的端部和活塞114之间的接触引起的冲击减小，并且可以抑制振动的产生。版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

36. 发明专利

JP2010209470A Coater with large-area assembly of rotatable magnetron 有权
标题翻译：具有大面积组装的可旋转磁铁的涂层
公开(公告)号：JP2010209470A
公开(公告)日：2010-09-24
申请号：JP2010087024
申请日：2010-04-05
申请人： Applied Materials Gmbh & Co Kg , アプライドマテリアルズゲーエムベーハーウントツェーオーカーゲー
发明人： BANGERT STEFAN , FUCHS FRANK , LINDENBERG RALPH , LOPP ANDREAS , SCHUSSLER UWE , STOLLEY TOBIAS
IPC分类号： C23C14/34 , C23C14/35 , C23C14/56 , H01J37/34
CPC分类号： H01J37/3455 , C23C14/352 , C23C14/56 , H01J37/3405 , H01J2237/3325
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a coater and a cathode assembly evenly coating a large-area substrate in which a material loss is suppressed low. SOLUTION: The coater for coating the large-area substrate by means of cathode sputtering has a coating chamber and, on the inner part, a cathode assembly 2 where material to be sputtered is rotated during a coating process and is arranged above a target 4 having a curved surface is disposed. The material to be sputtered is located in parallel to at least three cathode assemblies having a rotatable curved target in a single coating chamber for a coherent coating zone. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：为了提供涂覆机和阴极组件，均匀地涂覆其中材料损失被抑制得较低的大面积基板。解决方案：用于通过阴极溅射涂覆大面积基板的涂布机具有涂覆室，并且在内部部分上具有阴极组件2，其中溅射的材料在涂布过程中旋转并且布置在阴极组件2的上方设置具有弯曲表面的目标4。要溅射的材料与至少三个阴极组件平行设置，所述阴极组件具有可旋转弯曲的靶，用于单一涂层室，用于相干涂层区。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

38. 发明专利

JP2010511104A Coating apparatus and a method for controlling the actuators or heaters having a wireless device 审中-公开
公开(公告)号：JP2010511104A
公开(公告)日：2010-04-08
申请号：JP2009538692
申请日：2007-11-26
申请人：バンクマン、ヨアヒム , ライカミクロジュステムスツェーエムエスゲーエムベーハー
发明人：アイゼンクレマー、フランク , バンクマン、ヨアヒム
IPC分类号： C23C14/54
CPC分类号： C23C14/56 , C23C14/505
摘要：【課題】一方では、被覆チャンバの内部の位置（部位）から被覆チャンバの外部の位置（部位）に情報を伝達し、他方では、被覆チャンバの外部の位置（部位）から被覆チャンバの内部の位置（部位）に命令を伝達することを、簡単且つフレキシブルな態様で可能にする手段を備えた被覆装置を提供する。
【解決手段】被覆チャンバ（２００１）と、該被覆チャンバ（２００１）内に可動に配され被覆されるべき基板（２００３）を受容するための少なくとも１つの基板ホルダ（２００２）と、無線装置を有する被覆装置（２０００）であって、前記無線装置は、少なくとも、前記基板ホルダ（２００２）に結合される第１無線器（２００４）と、少なくとも部分的に前記被覆チャンバ（２００１）の外部に配される第２無線器（２００５）を有すること、前記第１無線器（２００４）と前記第２無線器（２００５）との間に、情報を伝送するための無線リンクが少なくとも一時的に形成されることを特徴とする。
【選択図】図１

39. 发明专利

JP2010077020A Process for forming ceramic oxide material with pyrochlore structure having high dielectric constant and implementation of the process for application in microelectronics 审中-公开
标题翻译：使用具有高介电常数的高分子结构形成陶瓷氧化物材料的方法和微电子学应用方法的实施
公开(公告)号：JP2010077020A
公开(公告)日：2010-04-08
申请号：JP2009216780
申请日：2009-09-18
申请人： Commissariat A L'energie Atomique , コミッサリアタレネルジーアトミーク
发明人： ZHU XIAOHONG , DEFAY EMMANUEL , FRIBOURG-BLANC ERIC
IPC分类号： C01G33/00 , C04B35/46 , H01L21/316 , H01L21/822 , H01L27/04
CPC分类号： H01G4/12 , C23C14/088 , C23C14/56 , C23C14/5806 , C23C14/584
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a process of obtaining a material having a high dielectric constant and a low dielectric loss tangent, in a process of forming a ceramic oxide material that can function as a dielectric material of electronic parts without using temperature degrading peripheral parts. SOLUTION: The process relates to a process for forming a lead-based ceramic oxide dielectric material comprising at least one pyrochlore crystalline phase, the process comprising: (a) a step of depositing at least one amorphous layer of the lead-based ceramic oxide material on a substrate; and (b) a crystallization annealing step carried out on the amorphous layer at a temperature not exceeding 550°C, by means of which a lead-based ceramic oxide dielectric material comprising at least one pyrochlore crystalline phase is obtained. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：为了提供一种获得具有高介电常数和低介电损耗角正切的材料的方法，在形成可用作电子部件的电介质材料而不使用温度的陶瓷氧化物材料的工艺中降解外围部件。解决方案：该方法涉及一种用于形成包含至少一个烧绿石结晶相的铅基陶瓷氧化物电介质材料的方法，该方法包括：（a）沉积至少一种铅基陶瓷氧化物介电材料的非晶层的步骤陶瓷氧化物材料; 和（b）在不超过550℃的温度下对非晶层进行结晶退火步骤，借此获得包含至少一个烧绿石结晶相的铅基陶瓷氧化物电介质材料。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

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