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21. 发明专利

JP2016507645A 誘電体材料蒸発のためのプラズマ強化堆積設備、堆積装置及びその操作方法有权
标题翻译：介电材料的等离子体增强沉积设备的蒸发，沉积装置和操作方法
公开(公告)号：JP2016507645A
公开(公告)日：2016-03-10
申请号：JP2015548616
申请日：2013-12-20
申请人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated , アプライドマテリアルズインコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated
发明人：シュテファンケラー， , シュテファンケラー， , シュテファンバンゲルト， , シュテファンバンゲルト， , ビョン−ソン，レオクワック , ビョン−ソン，レオクワック
IPC分类号： C23C16/448 , C23C16/30 , C23C16/50 , H01M4/525 , H01M10/0562 , H01M10/0585
CPC分类号： C23C14/243 , C23C14/0676 , C23C14/246 , C23C14/30 , C23C14/32 , C23C14/50 , H01J37/32091 , H01J37/32357 , H01J37/3244 , H01M4/0428 , H01M4/1391 , H01M10/052 , H01M10/0562
摘要：誘電体材料の基板上への蒸発のための堆積設備が記載される。堆積設備は:蒸気分配シャワーヘッドと;誘電体材料を蒸気分配シャワーヘッドに提供するためのホルダであって、誘電体材料を蒸気分配シャワーヘッド内に供給するための供給ユニットを有するホルダと;誘電体材料を蒸気分配シャワーヘッドで融解及び蒸発させる、若しくは誘電体材料を蒸気分配シャワーヘッドで昇華させるように構成されるエネルギー源であって、蒸気分配シャワーヘッドは、気化した誘電体材料を基板に向けるための一つ又は複数の排気口を有し、特にエネルギー源は、電子又は光子を放出し、電子又は光子は、誘電体材料を融解及び蒸発させる、若しくは誘電体材料を昇華させる、エネルギー源とを含む。設備は、蒸気分配シャワーヘッドと基板との間にプラズマを提供するように構成されるプラズマ源を更に含む。【選択図】図3
摘要翻译：沉积设备用于蒸发到电介质材料制成的基板进行说明。沉积设施：蒸汽分配喷头和;电介质材料，用于提供蒸汽分配喷头支架和具有供给部用于供给在蒸汽分配喷头的介电材料的保持件;介电所述主体材料被熔化和汽化通过蒸汽分配喷头，或电介质材料的能量源被配置成在升华的蒸气分配喷头，蒸气分配喷头，汽化的介电材料到基底上它有一个或多个用于引导多个排气口，特别是能量源发射电子或光子，电子或光子，从而熔化和蒸发该介电材料，或升华介电材料，所述能量源包括门。设备还包括：被配置等离子体源，以提供蒸汽分配喷头和衬底之间形成等离子体。点域

23. 发明专利

JP2015229779A 可搬型回転装置及び成膜装置有权
标题翻译：便携式旋转装置和薄膜沉积装置
公开(公告)号：JP2015229779A
公开(公告)日：2015-12-21
申请号：JP2014115098
申请日：2014-06-03
申请人：株式会社シンクロン
发明人：石井孝宣 , 千葉幸喜 , 佐藤康弘
IPC分类号： C23C14/50 , C23C14/24
CPC分类号： C23C14/24 , C23C14/50
摘要：【課題】遊星歯車回転による基板成膜を簡単な作業により実現可能な可搬型回転装置及び成膜装置を提供する。【解決手段】可搬型回転装置11は、真空蒸着装置1に設けられたサーボモータMによって回転する回転ドーム21と、回転ドーム21上に回転可能に支持され、被成膜基板14が載置される基板ホルダ12と、回転ドーム21上に公転歯車用ベアリングを介して取り付けられた内枠11aと、内枠11aの外側に配設されて、基板ホルダ12の外周側と噛み合うように形成された外枠24と、内枠11aと外枠24とを連結する連結アーム41と、から構成される。回転ドーム21は、遊星歯車機構の公転軸R1を中心に回転し、基板ホルダ12は、回転ドーム21により公転軸R1の周囲に保持され、遊星歯車機構の自転軸R2を中心に回転可能に支持されている。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种通过简单的工作能够通过行星齿轮旋转来实现基板成膜的便携式旋转装置和成膜装置。解决方案：便携式旋转装置11由以下部件构成：旋转圆顶21，其旋转为真空蒸发系统1设置的伺服电动机M; 基板保持件12，其可旋转地支撑在旋转圆顶21上，并在其上安装成膜基板14; 通过用于转动齿轮的轴承安装在旋转圆顶21上的内框架11a; 外框架24，其设置在内框架11a的外侧并形成为与基板保持件12的外周侧接合; 以及将内框架11a与外框架24连接的连接臂41.旋转圆顶21围绕行星齿轮机构的旋转轴线R1旋转，基板保持件12通过旋转圆顶21保持在旋转轴线R1周围，并且可旋转围绕行星齿轮机构的旋转轴线R2支撑。

24. 发明专利

JPWO2013146185A1 環状部材およびそれを用いた成膜装置有权
标题翻译：环形构件和使用该方法的薄膜形成装置
公开(公告)号：JPWO2013146185A1
公开(公告)日：2015-12-10
申请号：JP2014507612
申请日：2013-03-08
申请人：京セラ株式会社
发明人：智行井上 , 智行井上
IPC分类号： C03C19/00 , C23C14/00
CPC分类号： H01L21/68735 , C23C14/34 , C23C14/50 , C23C14/564 , C23C16/4401
摘要：本発明の一態様に係る環状部材10は、被処理基板2の周囲を取り囲むものである。環状部材10は、セラミック焼結体または石英ガラスからなり、少なくとも一主面S1を有する環状の本体11を備える。本体11は、一主面S1に配された溝部Gと、溝部Gの底面Bから突出した複数の突起14とを有する。本発明の一態様に係る成膜装置1は、環状部材10と、環状部材10が内部に配された、被処理基板2への金属膜3の成膜が行なわれる反応室4とを備えており、環状部材10の溝部Gは、反応室4内に露出している。
摘要翻译：根据本发明的一个实施方式的环状部件10的那些周围基片2的外周进行加工。环状构件10由陶瓷烧结体或石英玻璃，它包括具有至少一个主表面S1的环形体11。主体11具有一个凹槽G布置在一个主面S1和多个突起14从槽G.的底面乙突出的成膜装置1根据本发明的一个实施例中，包括一个环形部件10，10被设置在其中的环形元件和一个反应室4中的膜形成在金属膜3的基板2被执行以进行处理笼，环状部件10的凹槽G暴露于反应室4。

25. 发明专利

JP2015533024A 加工材２次元位置合わせシステムおよびその方法有权
标题翻译：工件维定位系统和方法
公开(公告)号：JP2015533024A
公开(公告)日：2015-11-16
申请号：JP2015533053
申请日：2013-07-17
申请人：ヴァリアンセミコンダクターイクイップメントアソシエイツインコーポレイテッド , ヴァリアンセミコンダクターイクイップメントアソシエイツインコーポレイテッド
发明人：ティーウィーバーウィリアム , ティーウィーバーウィリアム , ティーカールソンチャールズ , ティーカールソンチャールズ , エイスミススコット , エイスミススコット , エイベックマイケル , エイベックマイケル , ピーウェッブアーロン , ピーウェッブアーロン , ディーストラスナージェームズ , ディーストラスナージェームズ , アールグラヴェルローレンス , アールグラヴェルローレンス , シーシモンズマイケル , シーシモンズマイケル
IPC分类号： H01L21/673 , H01L21/68
CPC分类号： H01L21/67333 , C23C14/042 , C23C14/48 , C23C14/50 , H01L21/68728 , H01L21/68735 , H01L21/68778 , Y10T29/49899
摘要： 1個以上の加工材を保持可能としたキャリアは、その内部における各セルの側面に沿って設置された可動突起を備える。キャリアは、別体の位置合わせ器具と協同して、セルへの加工材の適切な位置付けを保証する複数の工程位置合わせ処理を使用して、いくつかの位置合わせピンに寄せて各加工材をそれぞれのセル内で位置合わせする。先ず、加工材はセルの一側面に向かって動く。一度加工材がこの側面に寄せて位置合わせされると、加工材はそのあと隣接して直行する側面に向かって動くことによりセルの2つの側面に位置合わせされる。一度位置合わせされると、加工材は各セルの各側面に沿って設置された突起によって所定の場所に保持される。加えて、位置合わせピンは関連するマスクの位置合わせにも使用され、それによりマスクが適切かつ確実に加工材に位置合わせされる。【選択図】図6
摘要翻译：能够保持一个或多个工件的载流子被提供有沿着在其内的各单元格的边配置的可动的突起。的载体，与取向装置分开合作，使用多个步骤定位过程，以确保工件的正确定位到细胞，一些对准更靠近针的工件每个单元内对准。首先，工件朝向电池的所述一个侧移动。一旦工件对准接近这个方面，所述工件与所述小区的两侧朝向所述侧表面垂直于后来邻居移动对准。一旦对准，工件在适当的位置通过沿每个单元的每一侧上设置突起部保持。另外一方面，对准的销齿相关联的屏蔽字段对准的两个藻类使用的，它Niyori掩模蛾适当并确保对准类似的处理木材二是。点域6

26. 发明专利

JP2015120947A 成膜マスクの製造方法及び成膜マスク有权
标题翻译：薄膜沉积掩模的制造方法和薄膜沉积掩模
公开(公告)号：JP2015120947A
公开(公告)日：2015-07-02
申请号：JP2013264326
申请日：2013-12-20
申请人：株式会社ブイ・テクノロジー
发明人：水村通伸
IPC分类号： C23C14/04
CPC分类号： C23C14/042 , B23K26/066 , B23K26/073 , G03F7/00 , C23C14/24 , C23C14/50
摘要：【課題】開口パターンの側壁の傾き角度の制御を容易にする。【解決手段】樹脂製のフィルム20にレーザ光Lを照射して平面視多角形の開口パターン4を形成する成膜マスクの製造方法であって、前記レーザ光が透過する透光窓18を有し、該透光窓18の外側の、少なくとも一対辺の側方領域における光透過率を、前記透光窓の縁部から側方に向かって漸減させたビーム整形用マスク10を使用して整形されたレーザ光Lを前記フィルム20に照射することにより、開口が前記レーザ光Lの照射面側に向かって広がるように傾斜した少なくとも1対の対向側壁4aを有する開口パターン4を形成するものである。【選択図】図3
摘要翻译：要解决的问题：为了便于控制开口图案的侧壁的倾斜角度。解决方案：提供一种形成膜沉积掩模的方法，其中通过照射形成平面图中多边形的开口图案4 具有激光L的树脂膜20.具有向激光L的照射面的一侧倾斜的开口的开口图案4，并且具有至少一对相对的侧壁4a，通过照射具有激光L的膜20使用具有激光通过的透光窗18的光束成形掩模10，并且至少在透光窗18外侧的一对侧面的侧向区域中的光透射率逐渐降低从光透射窗的边缘部分横向。

27. 发明专利

JP5727073B1 可搬型回転装置及び成膜装置有权
标题翻译：便携式旋转装置和成膜装置
公开(公告)号：JP5727073B1
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：JP2014115098
申请日：2014-06-03
申请人：株式会社シンクロン
发明人：石井孝宣 , 千葉幸喜 , 佐藤康弘
IPC分类号： C23C14/50 , H01L21/683 , C23C14/24
CPC分类号： C23C14/24 , C23C14/50
摘要：【課題】遊星歯車回転による基板成膜を簡単な作業により実現可能な可搬型回転装置及び成膜装置を提供する。【解決手段】可搬型回転装置11は、真空蒸着装置1に設けられたサーボモータMによって回転する回転ドーム21と、回転ドーム21上に回転可能に支持され、被成膜基板14が載置される基板ホルダ12と、回転ドーム21上に公転歯車用ベアリングを介して取り付けられた内枠11aと、内枠11aの外側に配設されて、基板ホルダ12の外周側と噛み合うように形成された外枠24と、内枠11aと外枠24とを連結する連結アーム41と、から構成される。回転ドーム21は、遊星歯車機構の公転軸R1を中心に回転し、基板ホルダ12は、回転ドーム21により公転軸R1の周囲に保持され、遊星歯車機構の自転軸R2を中心に回転可能に支持されている。【選択図】図1
摘要翻译：提供一种便携旋转装置和成膜装置可以通过简单的工作基材膜由行星齿轮的旋转来实现。一种便携式旋转装置11包括一个旋转的圆顶21，其是通过在真空蒸镀装置1所提供的伺服电动机M旋转时，可旋转地支撑在旋转的圆顶21，沉积基板14被放置勒基板支架12的门，在所述两转的齿轮使用通过附接至另一内框架11a门手轴承WO旋转圆顶21中，内框架11a场之外2布置成通过手，基板支架12安装外侧门接合哟2形成的其它的外框架24，用于连接所述内框架11a和外框架24和连接臂41。旋转圆顶革命的行星齿轮机构的轴线R1周围21度旋转，基板支架12通过旋转的圆顶21，可旋转地支撑绕旋转轴的行星齿轮机构的R2保持的旋转轴R1周围是的。点域1

28. 发明专利

JP5721816B2 被処理体の搬送機構有权
标题翻译：要被处理的物体的传送机构
公开(公告)号：JP5721816B2
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：JP2013509736
申请日：2011-10-28
申请人：株式会社アルバック
发明人：大野哲宏 , 佐藤重光 , 大空弘樹 , 佐藤善勝 , 松岡隆滋
IPC分类号： H01L21/677 , B65G49/06
CPC分类号： B65G49/063 , B65G49/061 , C23C14/50 , C23C14/56 , H01L21/67706 , H01L21/67709 , H01L21/67712 , H01L21/6776 , B65G2249/02

29. 发明专利

JPWO2013088623A1 処理装置およびシールド有权
标题翻译：处理装置和屏蔽
公开(公告)号：JPWO2013088623A1
公开(公告)日：2015-04-27
申请号：JP2013549072
申请日：2012-10-22
申请人：キヤノンアネルバ株式会社
发明人：保志安松 , 保志安松
IPC分类号： C23C14/00 , C23C16/44
CPC分类号： C23C14/042 , C23C14/22 , C23C14/3407 , C23C14/50 , C23C16/042 , H01J37/32651 , H01J37/3411 , H01J37/3441
摘要：基板を取り囲むシールドの変形に対する許容度を向上するために有利な技術を提供する。処理装置は、基板保持部と、前記基板保持部によって基板が保持された際にその基板の周囲を取り囲むように配置されたシールドと、前記シールドを磁力によって保持するシールド保持部とを備える。前記シールドは、第1極性を有する磁極が前記シールド保持部に向けて配置された複数の第1磁石と、第2極性を有する磁極が前記シールド保持部に向けて配置された複数の第2磁石とを有し、前記複数の第1磁石と前記複数の第2磁石とが前記シールドの中心に対して対称な位置に配置され、前記シールド保持部は、前記複数の第2磁石との間で吸引力を発生するように、前記第1極性を有する磁極が前記シールドに向けて配置された複数の第3磁石と、前記複数の第1磁石との間で吸引力を発生するように、前記第2極性を有する磁極が前記シールドに向けて配置された複数の第4磁石とを有する。
摘要翻译：它提供了一个有利的技术，以提高耐受周围衬底防护罩的变形。处理装置包括：衬底保持器，屏蔽板设置成当保持由所述包围所述基板的周缘衬底保持器，以及用于通过磁力保持在屏蔽的屏蔽保持部。该屏蔽包括多个具有第一极性的第一磁极被布置朝向屏蔽架，多个第二磁铁磁极被布置朝向具有第二极性屏蔽保持部有门，所述多个第一磁体和所述多个第二磁体相对于对称地布置于屏蔽件的中心之间的屏蔽件保持部，所述多个第二磁体以便产生一个吸力，当产生具有第一极性磁极和多个第三磁体的设置向护罩，之间的吸引力，所述多个第一磁体，所述具有第二极性和多个第四磁铁的磁极设置成朝向屏蔽。

30. 发明专利

JPWO2013088598A1 基板ホルダ装置および真空処理装置审中-公开
标题翻译：衬底保持器装置和真空处理装置
公开(公告)号：JPWO2013088598A1
公开(公告)日：2015-04-27
申请号：JP2013549061
申请日：2012-08-28
申请人：キヤノンアネルバ株式会社
发明人：泰嗣三浦 , 泰嗣三浦 , 英二藤山 , 英二藤山 , 昌昭石田 , 昌昭石田
IPC分类号： C23C14/50
CPC分类号： C23C14/50 , C23C14/505
摘要：基板ホルダ装置は、チャンバの中の減圧された処理空間において基板を保持することが可能な基板ホルダと、基板ホルダに連結された支柱と、支柱を回転可能に支持する第1の回転支持部と、第1の回転支持部が支柱を支持する位置から支柱の軸方向に離間した位置で支柱を回転可能に支持する第2の回転支持部と、第1および第2の回転支持部を支持する筐体と、支柱と筐体とを電気的に接続する導電性部材と、を備える。
摘要翻译：衬底保持器装置包括能够在该腔室在减压处理空间保持衬底的衬底支架，其耦合到衬底支架的柱，并且可旋转地支撑在支柱的第一转动支撑部支持在所述第一转动支撑部从位置分开，用于支撑所述支柱在所述支柱的轴方向上，第一和第二旋转支撑的位置处可旋转地支撑所述支柱的第二旋转支撑部包括：外壳，电连接所述柱和壳体，一个导电部件。

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