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    • 23. 发明专利
    • 有機薄膜形成装置
    • 所述的有机薄膜形成装置
    • JPWO2014002842A1
    • 2016-05-30
    • JP2014522563
    • 2013-06-19
    • 株式会社アルバック
    • 齋藤 和彦和彦 齋藤正行 飯島正行 飯島貴啓 廣野貴啓 廣野建治 中森建治 中森
    • C23C14/12C23C14/24C23C14/56
    • C23C14/12B05D1/60B05D3/06B05D2252/02C23C14/228C23C14/562C23C14/58H01J37/32761H01J37/3277
    • 本発明は、加熱により生成した有機化合物の蒸気によって高成膜レートで有機薄膜を形成する。成膜室43をバッファー室42の内部に配置し、中央ローラ17の一部側面を成膜室開口54から成膜室43内に挿入し、その部分の側面に密着させながら、基材フィルム23を走行させる。成膜室43に接続された蒸気生成装置26から蒸気をキャリアガスによって運搬し、冷却装置30によって中央ローラ17を冷却し、基材フィルム23を蒸気の凝集温度以下の温度に冷却し、成膜室43内に放出された蒸気によって基材フィルム23の表面に有機原料層35を形成し、中央ローラ17を回転させて硬化室44に於いてエネルギー線を照射し、硬化させる。バッファー室42は低圧力に真空排気して、成膜室開口54から流出したキャリアガスと蒸気が硬化室44やロール室41に流入しないようにされている。
    • 本发明是一种高沉积速率,通过加热形成的有机化合物的蒸气,以形成有机薄膜。 形成设置在缓冲腔室42内室43的膜,所述中心辊17的局部侧从成膜室开口54进入沉积室43插入,而在与该部分的侧表面,在基膜23紧密接触 运行。 从连接到沉积室43中的蒸汽发生器26由载气输送的蒸气,中央辊子17由冷却装置30冷却至基材膜23冷却至低于蒸汽,沉积的温度团聚温度 释放到室43通过汽相在基膜23的表面上形成有机材料层35,它是由中央辊17被固化旋转照射在固化室44的能量射线。 缓冲室42被抽空至低压,流出的载气,并且从流入所述固化室44,并从膜形成室开口54卷室41防止蒸汽。
    • 24. 发明专利
    • CVD装置またはPVD装置用固体または液体出発物質からの蒸気発生装置
    • 用于从CVD或PVD装置的固体或液体起始材料产生蒸气的装置
    • JP2016014187A
    • 2016-01-28
    • JP2015129856
    • 2015-06-29
    • アイクストロン、エスイー
    • ミハエル・ロングブリジット・イルムガルト・ベッカードアンドレアス・ポクエ
    • C23C14/00H01L21/31C23C16/448
    • H05B3/0014C23C14/12C23C14/246C23C14/26C23C16/4483C23C16/45565H05B3/026H05B3/06
    • 【課題】CVD装置又はPVD装置における蒸発器をプロセス技術的に改良する方法の提供。 【解決手段】キャリヤガスの流動方向に相前後して配置され、伝熱面を有し、各々加熱可能な少なくとも2つの熱伝達本体と、エーロゾル粒子を該伝熱面と接触させてエーロゾルを蒸発させる様に熱伝達本体の1つにエーロゾルを供給する為の供給配管4と、を備えた蒸気発生装置であって、熱伝達本体の少なくとも1つが、供給配管4がその中に差し込まれる開口を有し、供給配管4がエーロゾルを供給する為の第1の流動チャネル23及びキャリヤガスを供給する為の第2の流動チャネル24を有し、キャリヤガスが第2の流動チャネル24から第1の流動チャネル内23にそれを介して流動可能なガス貫通開口29、30が設けられ、及びこの場合、特に、第2の流動チャネル24が供給配管の流出口4'の領域内において閉鎖されている様に設計される蒸発器。 【選択図】図10
    • 要解决的问题:提供一种改进CVD装置或PVD装置的蒸发器的方法,其工艺技术。提供了一种用于产生蒸气的装置,包括:两个热传递体,其连续排列 载气的流动方向,并具有热传递表面,每个都可以加热; 以及用于通过使气溶胶颗粒与热转印表面接触来将气溶胶供给到热传递体中的一个用于蒸发气溶胶的进料管4。 蒸发器的设计方式为:至少一个热传递体具有插入进料管4的开口; 进料管4具有用于供给气溶胶的第一流动通道23和用于供给载气的第二流动通道24; 提供气体通道开口29,30,载气可以从第二流动通道24流入第一流动通道23; 在这种情况下,特别地,第二流路24被密封在供给管的出口4'的区域中。