基本信息:
- 专利标题： 成膜装置
- 专利标题（英）：Deposition system
- 申请号：JP2013554292 申请日：2013-01-15
- 公开(公告)号：JP5931091B2 公开(公告)日：2016-06-08
- 发明人： 楊 一新 , 三橋 善之 , 飯島 正行 , 若松 貞次 , 斎藤 和彦 , 藤井 智晴 , 吉元 剛 , 細矢 東豪 , 廣野 貴啓 , 林 信博 , 角谷 宣昭 , 砂川 直紀 , 多田 勲 , 平野 裕之
- 申请人： 株式会社アルバック
- 申请人地址： 神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地
- 专利权人： 株式会社アルバック
- 当前专利权人： 株式会社アルバック
- 当前专利权人地址： 神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地
- 代理人： 石島 茂男; 阿部 英樹
- 优先权： JP2012006578 2012-01-16
- 国际申请： JP2013050573 JP 2013-01-15
- 国际公布： WO2013108751 JP 2013-07-25
- 主分类号： C23C14/00
- IPC分类号： C23C14/00 ; C23C16/44
公开/授权文献:
- JPWO2013108751A1 成膜装置 公开/授权日：2015-05-11