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1. 发明专利

JP6674774B2 フィルム搬送装置有权
公开(公告)号：JP6674774B2
公开(公告)日：2020-04-01
申请号：JP2015247913
申请日：2015-12-18
申请人：株式会社アルバック
发明人：飯島栄一 , 廣野貴啓
IPC分类号： C23C16/54 , B65H27/00 , B65H26/00 , C23C14/56

2. 发明专利

JPWO2016186046A1 基板除電機構及びこれを用いた真空処理装置审中-公开
公开(公告)号：JPWO2016186046A1
公开(公告)日：2018-02-22
申请号：JP2017519188
申请日：2016-05-13
申请人：株式会社アルバック
发明人：廣野貴啓
IPC分类号： C23C14/56 , B65H5/00 , B65H20/02 , H01T19/00 , H05F3/04
CPC分类号： C23C14/58 , C23C16/56
摘要：真空中でフィルム状の基板等に成膜等の処理を行う装置において、処理領域に影響を与えることなく、簡素な構成で効率良く除電を行うことができる技術を提供する。本発明は、真空中で搬送される成膜用フィルム10に対してマグネトロン放電によって除電を行う基板除電機構である。本発明では、放電ガスが導入されるハウジング51と、ハウジング51内において基板搬送方向に対して直交するように配置され、所定の電圧が印加される直線状の放電電極53と、放電電極53の近傍に配置される磁石54Aとを有し、成膜用フィルム10における帯電量の分布に応じて放電を発生させるように磁石54Aが配置されている。

3. 发明专利

JPWO2016190429A1 光学薄膜製造方法、光学フィルム製造方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2016190429A1
公开(公告)日：2018-02-22
申请号：JP2017520818
申请日：2016-05-27
申请人：株式会社アルバック
发明人：東出公輔 , 廣野貴啓 , 倉内利春 , 佐藤昌敏 , 磯谷玄
IPC分类号： C23C14/24 , C23C14/08 , G02B5/26 , G02B5/28
CPC分类号： C23C14/08 , C23C14/24 , G02B5/20
摘要：所望の光学特性を有する光学薄膜を形成する。真空雰囲気中に酸素ガスを含有させ、金属材料を加熱して蒸気を放出させ、被処理対象基材10上に光学薄膜11を形成する際に、予め求めておいた光学薄膜11の光学特性と酸素ガスの流量や酸素の分圧値との関係から、所望の光学特性を得るための流量値又は分圧値と膜厚値とを求め、求めた流量値又は分圧値で、求めた膜厚値の光学薄膜11を形成する。被蒸着基材10の表面をプラズマで処理した後、光学薄膜11を形成すると、抵抗値を低下させずに、光学濃度の値が大きい光学薄膜11を形成することができる。

4. 发明专利

JP5953374B2 有機薄膜形成装置有权
标题翻译：所述的有机薄膜形成装置
公开(公告)号：JP5953374B2
公开(公告)日：2016-07-20
申请号：JP2014522563
申请日：2013-06-19
申请人：株式会社アルバック
发明人：齋藤和彦 , 飯島正行 , 廣野貴啓 , 中森建治
IPC分类号： C23C14/56 , C23C14/24 , C23C14/12
CPC分类号： C23C14/12 , B05D1/60 , B05D3/06 , C23C14/228 , C23C14/562 , C23C14/58 , H01J37/32761 , H01J37/3277 , B05D2252/02

5. 发明专利

JP5931091B2 成膜装置有权
公开(公告)号：JP5931091B2
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：JP2013554292
申请日：2013-01-15
申请人：株式会社アルバック
发明人：楊一新 , 三橋善之 , 飯島正行 , 若松貞次 , 斎藤和彦 , 藤井智晴 , 吉元剛 , 細矢東豪 , 廣野貴啓 , 林信博 , 角谷宣昭 , 砂川直紀 , 多田勲 , 平野裕之
IPC分类号： C23C14/00 , C23C16/44
CPC分类号： C23C16/52 , B05D1/62 , C23C14/12 , C23C14/562 , C23C16/4405 , B05D1/34

6. 发明专利

JP2020056083A 成膜装置审中-公开
公开(公告)号：JP2020056083A
公开(公告)日：2020-04-09
申请号：JP2018188041
申请日：2018-10-03
申请人：株式会社アルバック
发明人：木本孝仁 , 横山礼寛 , 廣野貴啓
IPC分类号： C23C14/56 , C23C14/00
摘要：【課題】養生部材上の基材にシワが発生することを抑制可能な成膜装置を提供する。【解決手段】本発明の一形態に係る成膜装置は、巻出しローラと、巻取りローラと、メインローラと、成膜部とを具備する。上記巻出しローラは、金属製の長尺の基材を巻き出す。上記巻取りローラは、上記巻出しローラから巻き出された上記基材を巻き取る。上記メインローラは、メインローラ本体と、金属製の養生部材とを有する。上記メインローラ本体は、上記基材を支持する第1の領域と、上記基材を支持しない第2の領域とを含む外周面を有し、上記基材の搬送方向において上記巻出しローラと上記巻取りローラとの間に設けられる。上記養生部材は、上記第1の領域と上記第2の領域との境界に跨って上記外周面に配置される。上記成膜部は、上記メインローラ本体に対向する成膜源を有し、上記基材上に薄膜を形成する。【選択図】図1

7. 发明专利

JP2019163513A リチウム薄膜の製造方法及びリチウム薄膜の製造装置审中-公开
公开(公告)号：JP2019163513A
公开(公告)日：2019-09-26
申请号：JP2018052375
申请日：2018-03-20
申请人：株式会社アルバック
发明人：横山礼寛 , 齋藤和彦 , 廣野貴啓 , 藤井智晴
IPC分类号： C23C14/14 , C23C16/44 , C23C16/06 , C23C16/54 , B65H18/08 , B65H23/188 , C23C14/56
摘要：【課題】ロールツーロール方式の装置を用いた、銅箔の両面にリチウム薄膜を成膜するのに適したリチウム薄膜の製造方法及びリチウム薄膜の製造装置を提供する。【解決手段】リチウム薄膜の製造方法は、第1の有機フィルムの処理面に第1のリチウム薄膜を成膜し、第1のリチウム薄膜上に銅箔を配して第1の構造体を形成し、第1の構造体を銅箔が第1の有機フィルムよりも内側となるようにロール状に巻き取って第1の巻体91を形成し、第2の有機フィルムの処理面に第2のリチウム薄膜を成膜し、第2のリチウム薄膜上に、第1の巻体から送り出される第1の構造体の銅箔と第2のリチウム薄膜とが接するように第1の構造体を配して第2の構造体を形成し、第2の構造体を銅箔が第1の有機フィルムよりも内側となるようにロール状に巻き取って第2の巻体を形成する。【選択図】図2

8. 发明专利

JP2017110283A フィルム搬送装置审中-公开
公开(公告)号：JP2017110283A
公开(公告)日：2017-06-22
申请号：JP2015247913
申请日：2015-12-18
申请人：株式会社アルバック
发明人：飯島栄一 , 廣野貴啓
IPC分类号： C23C16/54 , B65H27/00 , B65H26/00 , C23C14/56
摘要：【課題】フィルムの処理領域を保護しつつ、走行中のフィルムの皺の発生を抑制することができるフィルム搬送装置を提供する。【解決手段】フィルム搬送装置50は、フィルムFを繰り出す巻出しローラ2と、巻出しローラから繰り出されたフィルムを巻き取る巻取りローラ3と、処理部(メインローラ4)と、第1のガイドローラ51と、第2のガイドローラ52とを具備する。第1のガイドローラは、巻出しローラと処理部との間に配置され、フィルム成膜面の両側縁部を支持する。第2のガイドローラは、巻出しローラと第1のガイドローラとの間、及び、第1のガイドローラと処理部との間の少なくとも1つに配置され、フィルムの上記成膜面とは反対側の非成膜面を支持する。第1のガイドローラ及び第2のガイドローラの少なくとも1つは、フィルムに作用する張力をフィルムの幅方向に沿った引張応力に変換する拡幅構造を有する。【選択図】図1

9. 发明专利

JP5776054B2 真空処理装置有权
公开(公告)号：JP5776054B2
公开(公告)日：2015-09-09
申请号：JP2011085834
申请日：2011-04-07
申请人：株式会社アルバック
发明人：廣野貴啓 , 多田勲 , 小松研二
IPC分类号： C23C14/56

10. 发明专利

JP6950867B2 リチウム薄膜の製造方法及びリチウム薄膜の製造装置有权
公开(公告)号：JP6950867B2
公开(公告)日：2021-10-13
申请号：JP2018052375
申请日：2018-03-20
申请人：株式会社アルバック
发明人：横山礼寛 , 齋藤和彦 , 廣野貴啓 , 藤井智晴
IPC分类号： C23C14/14 , C23C16/44 , C23C16/06 , C23C16/54 , B65H18/08 , B65H23/188 , C23C14/56

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