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    • 15. 发明专利
    • 光学部材及び撮像装置
    • 光学会员和成像设备
    • JP2015011161A
    • 2015-01-19
    • JP2013136157
    • 2013-06-28
    • キヤノン株式会社Canon Inc
    • KAKEGAWA NORISHIGETAKEI AKIKOSUGIYAMA SUSUMUTAKASHIMA KENJIKOTANI YOSHINORIKOKETSU NAOYUKICHO SOI
    • G02B1/11B32B7/02G03B11/00
    • 【課題】低反射率特性と防塵特性に優れた光学部材及び撮像装置を提供する。【解決手段】基材10の上に配置された屈折率が基材10の屈折率以下であり、100nm以上200nm以下である複数の第1粒子21と、第1粒子21と基材10とで構成される空間に配置された屈折率が基材10の屈折率以下である充填材22と、を含み、第1粒子21が基材10の上に1層のみで構成されている下地層20と、下地層20の上に、屈折率が第1粒子21の屈折率以下であり、10nm以上50nm以下である複数の第2粒子30を含む粒子層と、を有する光学部材である。【選択図】図1
    • 要解决的问题:提供低反射特性和防尘特性优异的光学构件,以及包括该光学构件的成像装置。解决方案:光学构件包括:设置在基板10上的接地层20,其包括多个 具有等于​​或小于基板10的折射率并且具有100nm以上且200nm以下的尺寸的折射率的第一粒子21,并且包括填充物22,其设置在第一粒子21和基板之间的空间 10,其折射率等于或小于基板10的折射率,并且由基板10上的仅一层第一颗粒21构成; 以及包含折射率等于或小于第一颗粒21的折射率并且具有10nm以上且50nm以下的尺寸的多个第二粒子30的接地层20上的粒子层。
    • 20. 发明专利
    • Borosilicate glass, porous glass, and method for producing the same
    • 多孔玻璃,多孔玻璃及其制造方法
    • JP2012193067A
    • 2012-10-11
    • JP2011057789
    • 2011-03-16
    • Canon Incキヤノン株式会社
    • TAKASHIMA KENJICHO SOIKOTANI YOSHINORISUGIYAMA SUSUMUKOKETSU NAOYUKI
    • C03C3/095
    • PROBLEM TO BE SOLVED: To provide borosilicate glass causing phase separation even though the containing ratio of silicon oxide is high and capable of producing porous glass with high strength; and to provide a method for producing the porous glass using the same.SOLUTION: The borosilicate glass contains 60 wt.% or more and 72 wt.% or less of silicon oxide, 18 wt.% or more and 30 wt.% or less of boron oxide, 9.5 wt.% or more and 15 wt.% or less of sodium oxide, and 0.1 wt.% or more and 5.0 wt.% or less of cerium oxide. The method for producing the porous glass includes: a step for separating phases into a silica-rich phase and a non-silica rich phase by carrying out phase separating processing by heating the borosilicate glass; and a step for dissolving out the silica-rich phase by etching with solution.
    • 要解决的问题:即使氧化硅的含有比例高且能够制造高强度的多孔玻璃,也可以提供引起相分离的硼硅酸盐玻璃。 并提供使用其制造多孔玻璃的方法。 解决方案:硼硅酸盐玻璃含有60重量%以上且72重量%以下的氧化硅,18重量%以上且30重量%以下的氧化硼,9.5重量%以上, 15重量%以下的氧化钠,0.1重量%以上5.0重量%以下的氧化铈。 制造多孔玻璃的方法包括:通过加热硼硅酸盐玻璃进行相分离处理,将相分离成富二氧化硅相和非二氧化硅相的步骤; 以及通过用溶液蚀刻来溶解二氧化硅相的步骤。 版权所有(C)2013,JPO&INPIT