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91. 发明专利

JP2017130307A マイクロ波照射装置、排気浄化装置、加熱装置及び化学反応装置审中-公开
公开(公告)号：JP2017130307A
公开(公告)日：2017-07-27
申请号：JP2016007943
申请日：2016-01-19
申请人：富士通株式会社
发明人：今田忠紘
IPC分类号： H05B6/64 , H05B6/68 , H05B6/66 , F01N3/028 , B01J19/12 , H05B6/70
CPC分类号： F01N3/028 , H05B6/6447 , H05B6/686 , H05B6/70 , H05B6/701 , H05B6/80
摘要：【課題】照射されるマイクロ波の強度の強い部分と弱い部分との差を小さいマイクロ波照射装置を提供する。【解決手段】被加熱物が入れられる筐体部20と、筐体部の周囲に設けられた複数のマイクロ波共振器30a〜30hと、複数のマイクロ波共振器同士を接続するマイクロ波伝導部と、周波数の異なるマイクロ波を発生させるマイクロ波発生部50と、を有し、マイクロ波共振器は、マイクロ波発生部において発生させたマイクロ波共振器の共振周波数のマイクロ波を共振させ、筐体部に入れられた被加熱物10に照射するものであって、複数のマイクロ波共振器のうちの一のマイクロ波共振器と、他の一のマイクロ波共振器とは、共振周波数が異なるものである。【選択図】図1

92. 发明专利

JPWO2016021173A1 マイクロ波複合加熱炉审中-公开
公开(公告)号：JPWO2016021173A1
公开(公告)日：2017-07-06
申请号：JP2016539843
申请日：2015-07-31
申请人：プラディープメタルズリミテッド , プラディープメタルズリミテッド , 学校法人中部大学
发明人：佐藤　元泰 , 元泰佐藤 , プラディープゴヤル , プラディープゴヤル , 伊藤　響 , 響伊藤 , 京一郎樫村 , 京一郎樫村 , 永田　和宏 , 和宏永田 , シヴァナンドボーカー , シヴァナンドボーカー
IPC分类号： F27B14/14 , F27B14/04 , F27B14/10 , F27D11/12 , H05B6/64 , H05B6/80
CPC分类号： F27D11/12 , F27B14/04 , F27B14/06 , F27B14/061 , F27B14/10 , F27B14/14 , F27D99/0006 , F27D2099/0026 , F27D2099/0028 , H05B6/647 , H05B6/80
摘要：マイクロ波を用いた加熱によるマイクロ波効果を十分に奏するとともに、それぞれの加熱方法の特徴を生かした経済的な加熱を行うことができる加熱炉を提供することを課題とし、提供されるマイクロ波複合加熱炉1は、筺体10と、被加熱物を収納し、加熱するための加熱容器11と、加熱容器11を外部から加熱する加熱手段12と、マイクロ波照射装置13と、加熱容器11内に被加熱物を供給する被加熱物供給装置14と、加熱容器11内にガスを導入するためのガス導入手段15と、被加熱物を加熱処理したときに発生するガスを回収するガス回収手段16と、を備えている。加熱容器11は、導電性が高くマイクロ波を反射して内部に閉じ込めるとともに、耐熱性が高く、被加熱物と反応しない材料からなり、加熱容器の外壁を介さずに内部に照射されたマイクロ波を閉じ込め、電磁界密度を向上させることができる。

93. 发明专利

JP6134274B2 半導体製造装置および半導体装置の製造方法有权
公开(公告)号：JP6134274B2
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：JP2014027479
申请日：2014-02-17
申请人：株式会社東芝
发明人：須黒恭一
IPC分类号： H01L21/265 , H05B6/70 , H01L21/268
CPC分类号： H01L21/67115 , H01L21/324 , H01L21/67248 , H05B6/80

94. 发明专利

JP2017084744A マイクロ波照射装置及び排気浄化装置审中-公开
公开(公告)号：JP2017084744A
公开(公告)日：2017-05-18
申请号：JP2015215112
申请日：2015-10-30
申请人：富士通株式会社 , Fujitsu Ltd
发明人： IMADA TADAHIRO
IPC分类号： H05B6/74 , F01N3/028 , H05B6/64
CPC分类号： B01D46/0063 , B01D2279/30 , F01N3/021 , F01N3/028 , F01N9/002 , F01N13/08 , H05B6/707 , H05B6/80 , H05B2206/044 , H05B2206/045 , Y02T10/47
摘要：【課題】照射されるマイクロ波の強度の強い部分と弱い部分との差を小さいマイクロ波照射装置をを提供する。【解決手段】円環状のマイクロ波伝送路と、前記円環状のマイクロ波伝送路に接続されている第1のマイクロ波発生部と、前記円環状のマイクロ波伝送路に接続されている第2のマイクロ波発生部と、を有し、前記第1のマイクロ波発生部において発生させたマイクロ波と、前記第2のマイクロ波発生部において発生させたマイクロ波とは、同じ周波数であって、位相が異なることを特徴とするマイクロ波照射装置により上記課題を解決する。【選択図】図1

95. 发明专利

JPWO2014136456A1 複合体の加熱方法と加熱装置有权
标题翻译：加热装置和复杂的加热方法
公开(公告)号：JPWO2014136456A1
公开(公告)日：2017-02-09
申请号：JP2015503701
申请日：2014-03-07
申请人：国立大学法人東京工業大学
发明人：米谷　真人 , 真人米谷 , 井上　智晴 , 智晴井上 , 和田　雄二 , 雄二和田
IPC分类号： H05B6/80 , B01J37/08 , B01J37/34 , C04B35/64 , C04B41/87
CPC分类号： C04B35/64 , C04B2235/667 , H01G9/2022 , H01G9/2031 , H05B6/80 , Y02E10/542 , Y02P70/521
摘要：互いに接する異種の第1の物質と第2の物質とを含む複合体をある特定の周波数の電磁波の照射により加熱する工程を有し、用いるある特定の周波数の電磁波を吸収しづらい材料であっても効率よく加熱することができ、複合体の当接界面から加熱を進めることが可能な複合体の加熱方法を提供する。互いに接する異種の第1の物質と第2の物質とを含む複合体をある特定の周波数の電磁波の照射により加熱する。第1の物質および第2の物質は互いの当接界面に静的分極を有する材料の組合せからなる。電磁波の電場の振動方向と当接界面とのなす角度が0〜45°であり、電磁波の電場の振動方向と静的分極の方向とが互いに交差方向であるという関係を充足しつつ、電磁波の振動電場の強度が最も高くなる位置を含む領域に複合体を設置または搬送して、複合体に電磁波を照射する。
摘要翻译：并且通过与包含第一材料和第二材料不同的相互联系的复合物的特定频率的电磁波的照射加热的步骤中，使用其吸收特定频率的电磁辐射的硬质材料也能有效地被加热，它提供了从加热该接触表面可以进行加热的复共轭的方法。通过与包含第一材料和第二材料不同的相互联系的复合物的特定频率的电磁辐射加热。所述第一材料和所述第二材料是具有静态偏振彼此的接触界面的材料的组合。振动方向和电磁波的抵接面之间的视场角为0〜45°，同时满足电场振动方向和电磁波的静态偏振方向之间的关系是横方向，电磁波将配合物置于或者输送到其中振荡电场的强度包括最高的位置照射的电磁波的复杂的区域。

96. 发明专利

JP2016225573A 基板処理装置および基板処理方法审中-公开
标题翻译：的基板处理装置和基板处理方法
公开(公告)号：JP2016225573A
公开(公告)日：2016-12-28
申请号：JP2015113200
申请日：2015-06-03
申请人：株式会社東芝
发明人：磯貝達典
IPC分类号： H01L21/336 , H01L29/78 , H01L21/268
CPC分类号： H01L21/28176 , H01L21/268 , H01L21/324 , H01L21/67115 , H05B6/80
摘要：【課題】導電層と前記絶縁膜との界面または前記絶縁膜中のダングリングボンドを効率的に低減することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。【解決手段】実施の一形態による基板処理装置は、筐体と磁場生成部とマイクロ波供給部とを持つ。前記筐体は、導電層と前記導電層に接する絶縁膜とを有する基板を収容する。前記磁場生成部は、前記基板を貫く磁場を発生させる。前記マイクロ波供給部は、前記基板を加熱可能な出力のマイクロ波を発生させて前記磁場内の前記基板に照射し、前記導電層と前記絶縁膜との界面または前記絶縁膜中の不対電子に吸収させる。【選択図】図1
摘要翻译：提供一种基板处理装置和一种能够有效地降低界面或在导电层的绝缘膜的绝缘膜和悬空键的基板处理方法。根据一个实施例的基板处理装置具有一个外壳和一个磁场发生器和微波供给单元。其中，所述壳体容纳具有与所述导电层接触的绝缘膜的导电层的衬底。磁场发生器产生磁场穿过基板。微波供给单元通过在磁场照射衬底以产生微波可加热输出所述基板，所述未成对电子的界面或在绝缘膜和绝缘膜和导电层在被吸收。点域1

97. 发明专利

JP6042040B1 加熱用照射装置有权
标题翻译：暖气辐照
公开(公告)号：JP6042040B1
公开(公告)日：2016-12-14
申请号：JP2016541730
申请日：2016-01-07
申请人：三菱電機株式会社
发明人：瀧川道生 , 森一富 , 弥政和宏 , 稲沢良夫
IPC分类号： H05B6/74 , H05B6/80 , H05B6/72
CPC分类号： B01J19/12 , F27D11/12 , H05B6/72 , H05B6/74 , H05B6/80
摘要：加熱用照射装置は、加熱用電磁波を発生する電磁波発生器としての高周波発生器1と、高周波発生器1で発生した加熱用電磁波を被加熱物5に照射する複数のアンテナ3と、上面の一部が曲面状の凸部になっており、当該凸部の表面に各アンテナ3の照射口が取り付けられるとともに、被加熱物5を収容するための内部空間を有する、反応炉4とを備え、各アンテナ3の照射方向が被加熱物5の特定点6に向かうように、各アンテナ3は、反応炉4の凸部の表面に曲面状に配列されている。
摘要翻译：加热照射装置，一个高频发生器1个为电磁波，用于产生加热的电磁波，多个天线3用于照射由高频发生器1中的对象中产生的加热的电磁波发生器被加热5所示，上表面上的一个部具有弯曲表面的凸部，与该凸部的表面上的天线3的照射口沿着被安装，其具有用于容纳待加热5的对象的内部空间，以及电抗器4，每个天线3的照射方向被引导至被加热物5的一个特定的点6，天线3被布置在炉4的凸部的前表面上的弯曲图案。

98. 发明专利

JP5996736B2 高温で化学反応を連続的に行うための装置有权
标题翻译：一种用于在高温下连续进行化学反应
公开(公告)号：JP5996736B2
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：JP2015142002
申请日：2015-07-16
申请人：クラリアント・ファイナンス・(ビーブイアイ)・リミテッド
发明人：クルル・マティアス , モルシュホイザー・ロマーン
IPC分类号： B01J19/12 , C07C233/36 , C07C231/02 , C07C233/05 , C07C69/24 , C07C67/08 , C07C15/14 , C07C1/32 , H05B6/64 , H05B6/70 , H05B6/80 , C07B61/00 , H05B6/60
CPC分类号： C07C1/321 , B01J19/126 , C07C231/02 , C07C67/08 , C07D307/60 , H05B6/80 , H05B6/806 , B01J2219/0871 , B01J2219/1227 , C07C2531/24

99. 发明专利

JP5967723B2 電磁エネルギーを容器に印加するためのデバイスおよび方法有权
标题翻译：设备和方法，用于将电磁能施加到容器
公开(公告)号：JP5967723B2
公开(公告)日：2016-08-10
申请号：JP2013533945
申请日：2011-10-11
申请人：ゴジリミテッド
发明人：トレス,エーヤル , セリンガー,ダニエル , アツモニ,ダニエラ , アインツィガー,ピンカス , ラペル,アミト , ゲルバート,エリエゼル , ヤアリ,イガルー , リブマン,アヴナー
IPC分类号： F24C7/02 , A47J27/00
CPC分类号： H05B6/6408 , H05B6/6402 , H05B6/70 , H05B6/72 , H05B6/76 , H05B6/80

100. 发明专利

JP5895247B2 マイクロ波加熱装置有权
公开(公告)号：JP5895247B2
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：JP2012546681
申请日：2011-11-22
申请人：パナソニックIPマネジメント株式会社
发明人：細川大介 , 吉野浩二 , 福田祐 , 久保昌之 , 貞平匡史
IPC分类号： H05B6/70 , H05B6/74 , F24C7/02 , H05B6/72
CPC分类号： H05B6/704 , H05B6/708 , H05B6/80 , H05B2206/045

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