基本信息:
- 专利标题： マイクロ波照射装置、排気浄化装置、加熱装置及び化学反応装置
- 专利标题（英）：Microwave irradiation device, exhaust gas purifier, heating device and chemical reaction device
- 申请号：JP2016007943 申请日：2016-01-19
- 公开(公告)号：JP2017130307A 公开(公告)日：2017-07-27
- 发明人： 今田 忠紘
- 申请人： 富士通株式会社
- 申请人地址： 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番1号
- 专利权人： 富士通株式会社
- 当前专利权人： 富士通株式会社
- 当前专利权人地址： 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番1号
- 代理人： 伊東 忠重; 伊東 忠彦; 加藤 隆夫
- 主分类号： H05B6/64
- IPC分类号： H05B6/64 ; H05B6/68 ; H05B6/66 ; F01N3/028 ; B01J19/12 ; H05B6/70
摘要：
【課題】照射されるマイクロ波の強度の強い部分と弱い部分との差を小さいマイクロ波照射装置を提供する。 【解決手段】被加熱物が入れられる筐体部20と、筐体部の周囲に設けられた複数のマイクロ波共振器30a〜30hと、複数のマイクロ波共振器同士を接続するマイクロ波伝導部と、周波数の異なるマイクロ波を発生させるマイクロ波発生部50と、を有し、マイクロ波共振器は、マイクロ波発生部において発生させたマイクロ波共振器の共振周波数のマイクロ波を共振させ、筐体部に入れられた被加熱物10に照射するものであって、複数のマイクロ波共振器のうちの一のマイクロ波共振器と、他の一のマイクロ波共振器とは、共振周波数が異なるものである。 【選択図】図1
公开/授权文献:
- JP6682870B2 マイクロ波照射装置、排気浄化装置、加熱装置及び化学反応装置 公开/授权日：2020-04-15
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H05 | 其他类目不包含的电技术 |
| ----H05B | 电热；其他类目不包含的电照明 |
| ------H05B6/00 | 通过电场、磁场或电磁场加热的 |
| --------H05B6/64 | .微波加热 |