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91. 发明专利

JP2007196160A Waste gas treatment apparatus 审中-公开
标题翻译：废气处理设备
公开(公告)号：JP2007196160A
公开(公告)日：2007-08-09
申请号：JP2006019332
申请日：2006-01-27
申请人： Taiyo Nippon Sanso Corp , 大陽日酸株式会社
发明人： SUZUKI KATSUMASA , YAMAWAKI MASAYA , SATO TAKAYUKI
IPC分类号： B01D53/70 , B01D53/34 , B01D53/46
CPC分类号： B01D53/46 , B01D53/323 , B01D53/346 , B01D2258/0216 , B01D2259/818
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a waste gas treatment apparatus capable of completely removing a compound to be removed such as a halogen containing compound contained in a waste gas regardless of changes of the concentration and the species of a compound to be removed in the waste gas upon removing a compound to be removed such as a halogen containing compound in a waste gas discharged from a gas using apparatus such as a semiconductor production apparatus by virtue of a treatment such as a plasma treatment. SOLUTION: The waste gas treatment apparatus is equipped with an arithmetic processing section 35 that is input with the species, flow rate, and supply time of a gas supplied from a gas supply apparatus 2 to a gas using apparatus 1 and calculates the species, flow rate, and adding time of an addition gas to be added to the waste gas, and the electric power to be applied in the plasma treatment from the input parameters; an addition gas supply section 33 for controlling the species, flow rate, and adding time of the addition gas and adding the addition gas to the waste gas from the command signals of the arithmetic processing section 35; and a power source section 343 for controlling and applying electric power to be applied from the command signals of the arithmetic processing section 35. COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT
摘要翻译：待解决的问题：提供一种能够完全除去待除去的化合物的废气处理装置，而不考虑待除去化合物的浓度和种类的变化，废气中所含的含卤素化合物如何。在通过诸如等离子体处理的处理从诸如半导体制造装置的装置排出的气体排出的废气中除去诸如含卤化合物的待除去化合物之后的废气中。解决方案：废气处理装置配备有运算处理部35，其输入从气体供给装置2向气体使用装置1供给的气体的种类，流量和供给时间，并计算物质，流量和添加到废气中的添加时间，以及根据输入参数在等离子体处理中施加的电力; 用于控制添加气体的种类，流量和添加时间并从运算处理部35的命令信号向废气中添加添加气体的附加气体供给部33; 以及用于根据算术处理部分35的命令信号控制和施加要施加电力的电源部分343.权利要求（C）2007，JPO＆INPIT

92. 发明专利

JP2003505119A Processing method for a gas medium containing the pollution particles 审中-公开
公开(公告)号：JP2003505119A
公开(公告)日：2003-02-12
申请号：JP2000613488
申请日：2000-04-25
申请人：エクティウム・ベスローテン・フェンノートシャップ
发明人：ドゥレアン、アンリ・ルイ
IPC分类号： A61L9/00 , A61L9/16 , A61L9/22 , B01D53/32 , B01J19/08 , F25D17/04
CPC分类号： F25D17/042 , A61L9/22 , B01D53/323
摘要： (57)【要約】本発明は、汚染粒子、特に、微生物、バクテリアまたはウイルスを含むガス媒質の処理方法に関する。本発明によれば、この方法は、加速電子流を発生し、前記電子流および前記ガス媒質を相互作用させることからなる。こうした相互作用により、前記ガス媒質をイオン化および消毒して前記粒子を破砕もしくは破壊する。本発明は、冷蔵庫の冷却タンクの雰囲気を処理するために適用される。

93. 发明专利

JP6392119B2 ガス流処理装置有权
公开(公告)号：JP6392119B2
公开(公告)日：2018-09-19
申请号：JP2014525483
申请日：2012-07-11
申请人：エドワーズリミテッド
发明人：ヴォロニンセルゲイアレクサンドロヴィッチ , アトウッドマークジェイムズ
IPC分类号： B01J19/08 , H05H1/26 , B01D53/32
CPC分类号： H05H1/26 , B01D53/323 , B01D2257/20 , B01D2257/40 , B01D2257/55 , B01D2258/0216 , B01D2259/818

94. 发明专利

JP2018508354A ガス精製を管理する方法およびシステム审中-公开
公开(公告)号：JP2018508354A
公开(公告)日：2018-03-29
申请号：JP2017546815
申请日：2016-03-04
申请人：メカニック・アナリティック・インコーポレイテッド
发明人：イヴ・ガマシュ
IPC分类号： B01D53/04 , B01J19/08
CPC分类号： B01D53/346 , B01D53/0407 , B01D53/0423 , B01D53/0454 , B01D53/30 , B01D53/32 , B01D53/323 , B01D53/8696 , B01D2251/102 , B01D2253/102 , B01D2253/108 , B01D2253/116 , B01D2255/20707 , B01D2255/20715 , B01D2255/20723 , B01D2255/20738 , B01D2256/10 , B01D2256/18 , B01D2257/102 , B01D2257/108 , B01D2257/502 , B01D2257/504 , B01D2257/702 , B01D2257/7025 , B01D2257/80 , B01D2259/818 , B01J20/02 , B01J20/18 , B01J20/20 , B01J20/3408 , B01J20/3416 , B01J20/3433 , B01J20/3441 , C01B23/0015 , C01B23/0073 , C01B23/0094 , C01B2210/0029 , C01B2210/0046 , C01B2210/005 , C01B2210/0051 , C01B2210/0053 , C01B2210/0062 , C01B2210/007 , Y02C10/08 , Y02C20/20 , Y02P20/152 , Y02P20/156
摘要：不純物の吸着によってガスを精製するための吸着剤の耐用寿命を延長する方法が提供される。該方法は、ガス内に放電を発生させて不純物の濃度を表すスペクトル放射を得る段階を含む。該方法は、スペクトル放射に従って不純物の濃度を監視する段階をさらに含む。該方法は、吸着剤に対して不純物より高い親和性を有する二次不純物へと不純物の少なくとも一部を変換することによって不純物の濃度を低下させる段階をさらに含む。該方法は、不純物の濃度を汚染濃度と比較し、比較に従って吸着剤上でのガスの吸着を管理する段階をさらに含む。

95. 发明专利

JP2017213484A 溶媒分離方法、および溶媒分離装置有权
公开(公告)号：JP2017213484A
公开(公告)日：2017-12-07
申请号：JP2016107586
申请日：2016-05-30
申请人：パナソニック株式会社
发明人：永井耕一 , 南尾匡紀 , 神田敏朗 , 河田正弘 , 高野泰行
IPC分类号： B01D5/00 , B03C9/00
CPC分类号： B03C3/01 , B01D53/002 , B01D53/323 , B03C3/014 , B03C3/017 , B03C3/02 , B03C3/08 , B03C3/366 , B03C3/368 , B03C3/38 , B03C3/41 , B03C3/47 , F28B1/06 , F28D21/0014 , F28F3/04 , B01D2257/704 , B01D2258/0216 , B03C2201/10 , F28F2265/24
摘要：【課題】溶媒の除去工程で放出される排気雰囲気の熱エネルギーを効率良く回収して、排気雰囲気の温度低下を抑制する、溶媒分離方法、および溶媒分離装置を提供する。【解決手段】気化した溶媒23を含んだ気体22を第1方向D1に導入する凝集部30と、凝集部30の下流において凝集部30から排出された気体22を第1方向D1と逆の第2方向D2に導入する集塵部40と、の間に配置される電極92により、凝集部30内の気体22と集塵部40内の気体22との間で熱交換を行いながら、溶媒23を除去する工程を含む、溶媒分離方法とする。【選択図】図1

96. 发明专利

JP2017199685A 環状プラズマ除害装置および方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017199685A
公开(公告)日：2017-11-02
申请号：JP2017109876
申请日：2017-06-02
申请人：エムケイエスインストゥルメンツ, インコーポレイテッド
发明人：チェン、シン , ポキドフ、イリヤ , ティアン、フェン , トラン、ケン , ラム、デイビッド , ウェンツェル、ケビンダブリュ.
IPC分类号： B01J19/08 , B01D53/70 , B01D53/76 , H05H1/24
CPC分类号： H01J37/32449 , B01D53/323 , B01D53/76 , H01J37/32339 , H01J37/32357 , H01J37/32458 , H01J37/32651 , H01J37/32669 , H01J37/32844 , H01J37/32935 , H05H1/46 , B01D2257/2064 , H01J2237/3321 , H01J2237/334 , H05H2001/4667 , H05H2245/121 , Y02C20/30
摘要：【課題】ガスを除害するための装置を提供する。【解決手段】装置は、複数の入口および1つの出口ならびに少なくとも1つのチャンバ壁を有する環状プラズマ・チャンバを含む。1つまたは複数の磁心が環状プラズマ・チャンバに対して配置される。プラズマ・チャンバは環状プラズマを閉じ込める。第2のガス入口は、第1のガス入口と第2のガス入口の間の環状プラズマ通路体積が不活性ガスで実質的に充填されるよう、環状プラズマ・チャンバ上の第1のガス入口とガス出口の間に、ガス出口から距離dを隔てて置かれ、距離dは、除害されるガスの所望の滞留時間に基づいている。【選択図】図2

97. 发明专利

JP2017525560A 排出汚染物質捕捉、収集装置及びその使用方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017525560A
公开(公告)日：2017-09-07
申请号：JP2017525322
申请日：2015-07-24
申请人：ケミカルアンドメタルテクノロジーズリミテッドライアビリティカンパニーChemical And Metal Technologies Llc , ケミカルアンドメタルテクノロジーズリミテッドライアビリティカンパニーChemical And Metal Technologies Llc
发明人：ハルステュラー , ハルステュラー , ローリステュラー , ローリステュラー , ヴァンティーウォルワース , ヴァンティーウォルワース
IPC分类号： B01D53/64 , B01D50/00 , B01D53/50 , B01D53/56 , B01D53/78 , B01D53/82 , B01D53/83 , B01D53/96 , B01J20/02 , B03C3/019 , B03C3/02 , C02F1/28 , C02F1/58 , C02F11/12
CPC分类号： B01D53/82 , B01D45/08 , B01D46/0036 , B01D50/002 , B01D53/1481 , B01D53/323 , B01D53/38 , B01D53/64 , B01D53/75 , B01D53/83 , B01D2257/602 , B01D2258/0283
摘要：排出物から汚染物質を除去する装置は、逆ベンチュリ形状の筐体を備える。この筐体は、排出物が流入する入口部と、排出物を排出する出口部と、その間に配置され、排出物中の汚染物質を捕捉する拡径部とを備える。反応物質塊が、拡径部内に配置され、排出物と接触するよう配置される反応外表面を有する。この反応物質塊は、反応外表面に、筐体の拡径部を通過する排出物と化学的に結合するアマルガム形成金属を含む。気体及び非気体排出物から汚染物質を除去する排出物制御方法も提示される。排出物制御方法の一つは、上記逆ベンチュリ装置に気体排出物を通す工程を含む。排出物制御方法の別の一つは、非気体排出物を吸着剤を収容する処理槽内で処理する工程を含む。

98. 发明专利

JP2017148739A 溶媒分離方法、溶媒分離装置及び溶媒分離システム审中-公开
公开(公告)号：JP2017148739A
公开(公告)日：2017-08-31
申请号：JP2016033508
申请日：2016-02-24
申请人：パナソニック株式会社
发明人：永井耕一 , 南尾匡紀 , 神田敏朗 , 高野泰行 , 河田正弘
IPC分类号： B01D53/44 , B03C3/00 , B03C3/08 , B01D53/32 , B01D53/26 , B01D5/00
CPC分类号： B03C3/01 , B01D53/002 , B01D53/323 , B03C3/014 , B03C3/47 , B01D2257/704 , B01D2257/708
摘要：【課題】排気雰囲気から除去した溶媒を容易に回収可能とし、排気経路のメンテナンスを容易に行うことができる、溶媒分離方法、溶媒分離装置及び溶媒分離システムを提供する。【解決手段】ケーシング62の収容空間63に収容された羽根車71を回転させることにより、気化した溶媒23を含んだ気体22を前記ケーシングの取り入れ口64から前記収容空間に取り入れ、表面温度が前記気体の温度よりも低温となるように冷却された回収面83で前記気化した溶媒を冷却し液化させることで、前記気体から前記溶媒を分離する。【選択図】図1

99. 发明专利

JP6153704B2 湿式電気集塵装置及び除塵方法有权
公开(公告)号：JP6153704B2
公开(公告)日：2017-06-28
申请号：JP2012161464
申请日：2012-07-20
申请人：三菱日立パワーシステムズ環境ソリューション株式会社
发明人：賢次松浦 , 賢次松浦 , 士朗鈴木 , 士朗鈴木 , 西山　徹 , 徹西山 , 光明西谷 , 光明西谷 , 上田　泰稔 , 泰稔上田
IPC分类号： B03C3/16 , B03C3/00 , B03C3/40 , B03C3/68 , B03C3/78
CPC分类号： B03C3/16 , B01D53/323 , B01D2257/302 , B03C3/017 , B03C3/38 , B03C3/41 , B03C3/68 , B03C3/74 , B03C3/78 , B03C2201/10

100. 发明专利

JP2015182004A ガス処理装置有权
标题翻译：气体处理设备
公开(公告)号：JP2015182004A
公开(公告)日：2015-10-22
申请号：JP2014060064
申请日：2014-03-24
申请人：株式会社東芝
发明人：宇井明生 , 佐藤陽介 , 秋田征人 , 真田恭
IPC分类号： A61L9/22 , H05H1/24 , B01D53/32
CPC分类号： A61L9/16 , A61L9/22 , B01D53/323 , B01D53/8631 , B01D53/869 , A61L2209/212 , B01D2251/104 , B01D2255/802 , B01D2257/406 , B01D2257/702 , B01D2257/708 , B01D2257/90
摘要：【課題】効率的なガスの処理を可能とするガス処理装置を提供する。【解決手段】実施形態のガス処理装置は,互いに対向する第1、第2の誘電体基板と、前記第1、第2の誘電体基板の対向する一対の主面上それぞれに配置される第1、第2の放電電極と、前記第1、第2の誘電体基板の前記一対の主面と反対側の一対の主面上それぞれに配置される第1、第2の接地電極と、前記第1、第2の放電電極間に被処理ガスを供給するガス流路と、前記第1、第2の放電電極と前記第1、第2の接地電極との間それぞれに交流電圧を印加することで、前記被処理ガスを放電させ、第1、第2のプラズマ誘起流を生成する交流電源と、前記第1、第2の放電電極の下流の前記第1、第2の誘電体基板間に配置され、前記第1、第2の誘電体基板の間隔が、前記第1、第2のプラズマ誘起流の厚さの合計の1.3倍以下である領域と、を備える。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够有效地处理气体的气体处理装置。解决方案：根据实施方式的气体处理装置包括：彼此面对的第一和第二电介质基板; 第一和第二放电电极分别设置在彼此面对的一对主表面上;第一和第二电介质基板; 第一和第二接地电极分别设置在与具有第一和第二电介质基板的一对主表面相对的一对主表面上; 用于将待处理气体供给到第一和第二放电电极之间的部分的气体流路; 用于分别在第一和第二放电电极与第一和第二接地电极之间施加交流电压的交流电源，从而产生被处理气体的放电，并产生第一和第二等离子体感应流; 以及设置在所述第一和第二电介质基板之间以及所述第一和第二放电电极的下游的区域，其中所述第一和第二电介质基板之间的间隔是所述第一和第二等离子体诱导的总和的总和的1.3倍或更短流动。

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