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1. 发明专利

KR20210034342A KR20210034342A - Plasma generator 审中-公开
公开(公告)号：KR20210034342A
公开(公告)日：2021-03-30
申请号：KR1020190116180A
申请日：2019-09-20
申请人： 황원진
发明人： 황원진
IPC分类号： H05H1/46 , A61L9/22
CPC分类号： H05H1/46 , A61L9/22
摘要： 본 발명은 플라즈마 발생장치에 관한 것으로, 그 구성은 절연체로 이루어지는 바닥판부재와, 상기 바닥판부재와 결합되며, 상기 바닥판부재의 상면에서 상방을 향해서 돌출되며, 절연체로 이루어지는 제1측판과, 상기 제1측판에서 수평방향으로 연결되며, 절연체로 이루어지는 제1수평판과, 상기 제1수평판과 결합되며, 수직방향으로 위치되며, 얇은 판 형상을 가지며, 전도체로 이루어지며, 음극과 양극 중 어느 하나로 이루어지는 제1방전판과, 상기 바닥판부재와 결합되며, 상기 바닥판부재의 상면에서 상방을 향해 돌출되며, 상기 제1측판과 이격되어 위치되며, 상기 제1측판과 대향되며, 절연체로 이루어지는 제2측판과, 상기 제2측판에서 수평방향으로 연결되며, 상기 제1방전판이 위치된 방향으로 위치되며, 절연체로 이루어지는 제2수평판과, 상기 제2수평판과 결합되며, 수직방향으로 위치되며, 얇은 판 형상을 가지며, 전도체로 이루어지며, 상기 제1방전판의 극성과 반대 극성을 가지는 제2방전판과, 상기 제2방전판의 표면에 위치되며, 상기 제1방전판이 위치된 방향으로 돌출되며, 끝단이 뾰족한 원뿔형상을 가지며, 복수개가 일정한 간격으로 배치되는 방전돌기와, 상기 제1방전판과 상기 제2방전판에 각각 전기를 인가하며, 전류 및 전압을 컨트롤할 수 있는 컨트롤부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 것으로서, 플라즈마를 효율적으로 발생시킴으로써 오존의 생성을 많이 할 수 있으며, 수분을 포함하는 유증기와 이격되게 설치됨으로써 방전으로 인해 발생할 수 있는 고장의 위험을 최소로 할 수 있으며, 기타 고장이 발생할 염려가 적으며, 구조가 간단하여 제조 비용이 저렴하게 소요되며, 좁은 공간에도 설치할 수 있는 효과가 있다.

2. 发明专利

KR20210024775A KR20210024775A - An Apparatus for Cleaning an Air Containing a Contaminating Component Having a Structure of Combining an Ionizing and an Electrolytic Liquid Module 审中-公开
公开(公告)号：KR20210024775A
公开(公告)日：2021-03-08
申请号：KR1020190104358A
申请日：2019-08-26
申请人： (주)메가이엔씨
发明人： 최장수 , 최정환
IPC分类号： A61L9/22 , A61L9/14
CPC分类号： A61L9/22 , A61L9/145 , A61L2209/11 , A61L2209/14 , A61L2209/22
摘要： 본 발명은 이온화 및 전해수 모듈 결합 구조의 악취 제거 장치에 관한 것이다. 이온화 및 전해수 모듈 결합 구조의 악취 제거 장치는 악취 성분을 포함하는 오염 공기를 여과시키는 필터 유닛(11); 이온 발생기에 의하여 이온 또는 플라즈마를 생성시키는 플라즈마 발생 모듈(12); 생성된 이온 클러스터와 오염 공기를 산성 및 알칼리 전해수로 처리하는 전해수 분사 모듈(13); 및 플라즈마 발생 모듈(12) 또는 전해수 분사 모듈(13)의 작동 상태를 감시하는 작동 모니터링 모듈(15)을 포함한다.

3. 发明专利

JP6431741B2 活性種発生器システムおよび活性種発生器审中-公开
公开(公告)号：JP6431741B2
公开(公告)日：2018-11-28
申请号：JP2014212654
申请日：2014-10-17
申请人：シャープ株式会社
发明人：高橋雅也
IPC分类号： A61L9/22 , F24F7/00 , H05F3/04 , H01T23/00
CPC分类号： A61L9/22 , F24F7/00 , H01T23/00

4. 发明专利

JP2018533405A 反応性ガス発生システム及び反応性ガスを使用する処理方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018533405A
公开(公告)日：2018-11-15
申请号：JP2018520174
申请日：2016-10-19
申请人：ナノガードテクノロジーズ, エルエルシー , NANOGUARD TECHNOLOGIES, LLC
发明人：キーナーケヴィンエム. , ホックワルトマークエー.
IPC分类号： A23B7/152 , A23L3/3445 , A61L101/02 , A61L101/08 , A61L101/22 , A61L2/20
CPC分类号： A23B9/22 , A23V2002/00 , A61L2/14 , A61L2/20 , A61L2/202 , A61L9/22 , A61L2202/25
摘要：製品又は表面を反応性ガスで処理する方法は、作動ガスから高電圧低温プラズマ(HVCP)を形成することにより反応性ガスを製造するステップと、HVCPから少なくとも5cm離して反応性ガスを輸送するステップと、次いで、製品又は表面を反応性ガスに接触させるステップとを含む。HVCPは、製品又は表面と接触しない。

5. 发明专利

JP6405040B2 滅菌機能付きの弾力性手袋の検査及び装着装置审中-公开
公开(公告)号：JP6405040B2
公开(公告)日：2018-10-17
申请号：JP2017518783
申请日：2016-04-20
申请人：シーアンリーバンメディカルエレクトロニクスカンパニーリミテッド , XI’AN LIBANG MEDICAL ELECTRONICS CO., LTD.
发明人：ジュ,ジュンウ
IPC分类号： A61B42/30 , A61B42/50
CPC分类号： A61B42/50 , A61B42/20 , A61B42/30 , A61L2/20 , A61L9/20 , A61L9/22 , A61L2202/20

6. 发明专利

JP2018528578A プラズマを生成するための装置、方法及びかかる装置の使用方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018528578A
公开(公告)日：2018-09-27
申请号：JP2018506189
申请日：2016-07-25
申请人：テッラプラズマゲーエムベーハー
发明人：モーフィル,グレゴール , リー,ヤンファン , 清水鉄司 , シュテフェス,ベルント
IPC分类号： A61L9/22 , B01D53/32 , H05H1/24
CPC分类号： A61L9/22 , A61L2/14 , A61L2202/11 , B01D53/007 , B01D2259/818 , B08B3/14 , B08B7/0035 , C02F1/30 , C02F2303/04 , H05H1/50
摘要：本発明は、プラズマを生成するための装置、方法及びかかる装置の使用方法に関する。本発明はプラズマを生成するための装置(1)に関し、少なくとも1つの第一電極(3)と、第一電極(3)から間隔を隔てて配置される少なくとも1つの第二電極(5)と、少なくとも1つの第一電極(3)と少なくとも1つの第二電極(5)との間に電位差が電圧源(7)によって発生するように、第一電極(3)及び第二電極(5)から選択される少なくとも1つの電極(3、59)に接続される電圧源(7)とを備える。少なくとも1つの第一電極(3)及び少なくとも1つの第二電極(5)は、少なくとも1つの第一電極(3)と少なくとも1つの第二電極(5)との間の放電領域(11)に放電のための少なくとも1つの放電路(9)を画定する。この場合、磁場装置(15)は、放電領域(11)に磁場を発生させるために、少なくとも1つの第一電極(3)及び少なくとも1つの第二電極(5)に関連して構成及び配置され、磁場の磁場ベクトル(B)は、放電路(9)に対して斜めに配向されている。【選択図】図1

7. 发明专利

JP6339219B2 イオン発生装置有权
公开(公告)号：JP6339219B2
公开(公告)日：2018-06-06
申请号：JP2016556416
申请日：2015-09-03
申请人：シャープ株式会社
发明人：高笠原稔久 , 片岡康孝 , 山本明
IPC分类号： H01T19/04 , F24F7/00 , H01T23/00
CPC分类号： A61L9/22 , A61L2209/11 , A61L2209/14 , H01T23/00

8. 发明专利

JP6331034B2 除菌ミストシャワー装置有权
公开(公告)号：JP6331034B2
公开(公告)日：2018-05-30
申请号：JP2015116869
申请日：2015-06-09
申请人：パナソニックIPマネジメント株式会社
发明人：南尾匡紀 , 磯見晃 , 田端大助 , 北原由紀子
IPC分类号： A61L2/22 , B05B7/04 , F24F7/00 , A61L9/14
CPC分类号： A61L9/145 , A61L2/14 , A61L2/18 , A61L2/22 , A61L9/14 , A61L9/22 , A61L2209/213 , B05B7/062 , B05B7/2489 , B05B7/2491 , B05B7/2494

9. 发明专利

JP6316047B2 ガス処理装置有权
公开(公告)号：JP6316047B2
公开(公告)日：2018-04-25
申请号：JP2014060064
申请日：2014-03-24
申请人：株式会社東芝
发明人：宇井明生 , 佐藤陽介 , 秋田征人 , 真田恭
IPC分类号： A61L9/22 , H05H1/24 , B01D53/32
CPC分类号： A61L9/16 , A61L9/22 , A61L2209/212 , B01D53/323 , B01D53/8631 , B01D53/869 , B01D2251/104 , B01D2255/802 , B01D2257/406 , B01D2257/702 , B01D2257/708 , B01D2257/90

10. 发明专利

JPWO2016152092A1 送風装置审中-公开
公开(公告)号：JPWO2016152092A1
公开(公告)日：2018-02-08
申请号：JP2017507477
申请日：2016-03-15
申请人：パナソニックIPマネジメント株式会社
发明人：岡田芳弘 , 北角由也
IPC分类号： F24F7/00 , A61L9/015 , A61L9/14 , A61L9/22 , F24F13/20 , F24F13/28
CPC分类号： A61L9/22 , B60H3/00 , B60H3/06 , F24F7/00 , F24F13/28
摘要：送風装置(100)は、扁平な箱型のケース(1)と、ケース(1)の厚み方向と直交する方向を向く一面(10)に位置する第一開口(2)、第二開口(3)及び第三開口(4)と、ケース(1)内に位置し、第一開口(2)と第二開口(3)を連通させる空気流路(5)と、空気流路(5)内に位置し、第一開口(2)を通じて空気を吸い込んで第二開口(3)から吹き出させる送風器(6)と、帯電微粒子水、イオンまたはオゾンを発生させ、第三開口(4)を通じて放出させる発生装置(9)とを備え、一面(10)において、第三開口(4)は第二開口(3)と並んで位置する。

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