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    • 3. 发明公开
    • HIGH TEMPERATURE GENERATION METHOD AND APPLICATION THEREOF
    • VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG EINER HOCHTEMPERATUR UND DESSEN VERWENDUNG。
    • EP0423359A1
    • 1991-04-24
    • EP90905691.3
    • 1990-04-17
    • SHIRAKAWA, Shiro
    • KIKUCHI, Masaichi
    • F23G5/08F23C11/00
    • F23C99/001F23G5/085H05H1/26
    • This invention relates to a high temperature generation method wherein a mixed material of a substance whose resistivity is changed by the irradiation of radiation and a magnetic substance is formed and a fire ionization material made by sintering this material in the acid atmosphere acts to ionize fire when it comes in contact with the fire, and high temperature plasma flame can be formed when further acted upon by a magnetic field. Therefore, a high temperature generation means and method like this are useful in the fields where a high temperature is necessary such as the incineration of industrial waste and septic matter having large water content, metallurgy, and ceramic industry, etc.
    • 本发明涉及一种高温发生方法,其中形成电阻率随辐射照射而变化的物质和磁性物质的混合材料,并且通过在酸性气氛中烧结该材料而形成的火焰电离材料用于电火焰 当与火接触时,当由磁场进一步作用时,可以形成高温等离子体火焰。 因此,这样的高温发生装置和方法在诸如焚化工业废物和具有大量含水量的化学物质,冶金和陶瓷工业等的高温需要的领域中是有用的。
    • 6. 发明公开
    • PLASMA PROCESSING DEVICE
    • 等离子体处理装置
    • EP2766506A1
    • 2014-08-20
    • EP13823907.4
    • 2013-06-20
    • Chugai Ro Co., Ltd.
    • AKANO, Shinya
    • C23C14/32C23C14/54H05H1/26
    • H01J37/32669C23C14/32C23C14/54H01J37/32009H01J37/32357H01J37/32651H01J37/3266H05H1/26
    • The present invention provides a plasma processing device that can bring the plasma close to an object of processing, and can separate the plasma from the object of processing. This plasma processing device (1) comprises the following: a chamber (2) having therein a holding space (2a) for holding an object of processing (5) and a plasma space (2b) in which plasma is formed; a plasma gun (3) for forming plasma by emitting electrons into the plasma space (2b); and at least a pair of opposing magnets (4), the positions of which are adjustable and which create a magnetic flux traversing the chamber (2) between the holding space (2a) and the plasma space (2b).
    • 本发明提供一种等离子体处理装置,其能够使等离子体接近处理对象物,并且能够将等离子体与处理对象物分离。 该等离子体处理装置(1)包括:在内部具有用于保持处理对象物(5)的保持空间(2a)和形成等离子体的等离子体空间(2b)的腔室(2) 等离子体枪(3),用于通过将电子发射到等离子体空间(2b)中来形成等离子体; 和至少一对相对的磁体(4),它们的位置是可调整的并且产生在保持空间(2a)和等离子体空间(2b)之间横穿腔室(2)的磁通量。
    • 10. 发明公开
    • Torche à plasma par induction
    • Induktionplasmabrenner
    • EP0693865A1
    • 1996-01-24
    • EP95401693.7
    • 1995-07-17
    • ALCATEL FIBRES OPTIQUES
    • Jouvenel, BernardRipoche, Pierre
    • H05H1/26H05H1/30
    • H01J37/32495C03B37/01291C03B37/01426H05H1/26H05H1/30
    • La présente invention concerne une torche à plasma par induction du type utilisé dans les procédés de dépôt par plasma de silice pure ou dopée lors de la fabrication de préformes pour fibre optique, comprenant :

      un tube (2), dit tube de réaction, à l'intérieur duquel se trouve une zone de production du plasma (6),
      des moyens d'injection dans le tube (2), vers la zone de production du plasma (6), des réactifs destinés à former la silice pure ou dopée à déposer,
      des moyens de distribution (4) de gaz plasmagènes à l'intérieur du tube (2) vers la zone de production du plasma (6),
      une bobine d'induction (7) entourant le tube (2), pour apporter l'énergie nécessaire à la formation du plasma (8),
      caractérisée en ce que le tube (2) est protégé contre les cycles thermiques dus aux variations de la température à l'intérieur du tube au moyen d'un revêtement protecteur (9) déposé sur la paroi interne (5) du tube de réaction (2) au niveau de la zone de production du plasma (6), de manière à entourer cette dernière, le revêtement (9) étant constitué d'un matériau à base de silice et ayant une épaisseur inférieure à 2 mm.
    • 用于制造纯或掺杂二氧化硅的光纤预成型件的感应等离子体焰炬包括形成等离子体(8)的反应管(2),管(2)被感应线圈(7)包围,并受到热冲击 内衬(9)小于2mm厚,主要包括二氧化硅。 通过将水溶液,悬浮液或果冻施加到管壁上以形成固体颗粒层形成内衬,所述固体颗粒层然后被干燥和烧制,但低于熔融温度。