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    • 2. 发明公开
    • Messeinrichtung zur Erfassung von Dimensionen von Prüflingen sowie Verfahren unter Verwendung der Messeinrichtung
    • 用于使用所述测量装置检测的标本尺寸,以及方法测定装置
    • EP1018631A2
    • 2000-07-12
    • EP99124365.0
    • 1999-12-07
    • Joh. & Ernst Link GmbH & Co. KG
    • Link, Hans-Jörg
    • G01B11/12G01B11/22G01B11/24
    • B23Q17/20B23Q17/2495G01B9/023G01B11/24
    • Um die Meßeinrichtung (4) und das Verfahren so auszubilden, daß die Dimensionen der Prüflinge (2) einfach, genau und schnell erfaßt werden können, ist die Meßeinrichtung (4) in ein Werkzeug (1) integrierbar oder anstelle eines Werkzeuges in einer Werkzeugaufnahme befestigbar. Die Meßeinrichtung (4) weist eine Lichtquelle (10) auf, deren Lichtstrahlen durch einen Strahlenteiler in einen Referenzstrahl und einen Meßstrahl aufgeteilt werden. Der einen Meßarm bildende Meßstrahl ist einer Meßstelle (8) des Prüflinges (2) und der einen Referenzarm bildende Referenzstrahl einem Referenzspiegel zuführbar. Die an der Meßstelle (8) und am Referenzspiegel reflektierten, zeitlich inkohärenten Strahlen am Strahlenteiler werden wieder zusammengeführt und einem Empfänger (13) zugeführt. Bei dem Verfahren wird an die Meßstelle (8) des Prüflings (2) ein Meßstrahl gelenkt, der an der Meßstelle (8) zurückreflektiert und mit einem Referenzstrahl zusammengefaßt wird. Der entstehende Interferenzkontrast wird zur Erfassung der Dimension des Prüflings (2) ausgewertet.
    • 该布置适合于集成到一个工具(1)或用于代替工具的工具保持器的安装,并具有至少一个光源(10),其光被分成参考光束和测量。 测量光束被传递到一个测量点(8)和所述参考光束到参考反射镜。 在测量点和反射镜反射的时间非相干光束被混合并供应到接收器(13)。 因此独立claimsoft包括用于检测测试对象的尺寸的方法。
    • 5. 发明公开
    • VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR BESTIMMUNG DREIDIMENSIONALER STRUKTUREN IM SUBMIKROMETERBEREICH
    • 方法和设备,用来确定三维亚微米
    • EP0815411A1
    • 1998-01-07
    • EP96903862.0
    • 1996-03-06
    • Weber, Heinz Paul, Prof. Dr.
    • WEBER, Heinz, PaulHODEL, WalterROMANO, Valerio
    • G01B9G01B11G01N21G02B21
    • G01B11/2441G01B9/023
    • The invention concerns a process for determining three-dimensional structures in the submicron range, which process operates with a coherent beam (3), in particular a laser beam, divided into two partial beams (5a, 11a, 14a; 5b, 11b, 21). The first partial beam (5a, 11b, 21) is focused on an object (1) to be dimensioned structurally with a focusing diameter (24) having approximately the wavelength of the beam. The radiation (25) reflected back from the focus point (24) by the focusing lens (23) is superimposed with the radiation of the second partial beam (5a, 11a, 14a) on a detector field (19) comprising a plurality of mutually independent detectors, and the location-dependent radiation intensity values on the detectors are converted by the latter into analogue electrical signals and stored. Complex amplitude values are determined in each case from these stored values with first phase values of the local wave field at the location (19) of the detectors. Second phase values are formed from the given first phase values by multiplication with a predetermined value. With these second phase values, the intensity values of the original complex amplitude values stored in first memories (30), and the location co-ordinates of the respective detectors, an enlarged object structure is calculated and can be displayed graphically as an enlarged or hologram-like image with structures in the submicron range.