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1. 发明授权

EP0042965B1 Verfahren zum Herstellen eines pigmentierten Lackes 失效
标题翻译：用于制备先导式拉丝机的方法
公开(公告)号：EP0042965B1
公开(公告)日：1985-01-16
申请号：EP81103818.1
申请日：1981-05-19
申请人： IBM DEUTSCHLAND GMBH , International Business Machines Corporation
发明人： Bahr, Dietrich Jürgen, Dr. , Briska, Marian
IPC分类号： B41M5/24 , B41M5/20
CPC分类号： B41M5/245

2. 发明公开

EP0032174A1 Verfahren zum Dotieren von Siliciumkörpern durch Eindiffundieren von Bor und Anwendung dieses Verfahrens zum Herstellen von Basiszonen bipolarer Transistoren 失效
标题翻译：通过硼的这种方法对于双极型晶体管的基极区域的制造中的扩散，以及应用掺杂硅体的方法。
公开(公告)号：EP0032174A1
公开(公告)日：1981-07-22
申请号：EP80107034.3
申请日：1980-11-14
申请人： IBM DEUTSCHLAND GMBH , International Business Machines Corporation
发明人： Briska, Marian , Metzger, Gert , Thiel, Klaus Peter
IPC分类号： H01L21/223 , H01L21/31 , C30B31/02
CPC分类号： C30B31/02 , H01L21/223 , H01L21/31111
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Dotieren von Siliciumkörpern durch Eindiffundieren von Bor.
Gemäß der Erfindung wird das in einem ersten Wärmeprozeß durch Überleiten eines eine festgelegte Bormenge und Bor und Sauerstoff in einem festgelegten Mengenverhältnis enthaltenden Gasgemisches über Siliciumkörper entstandene Borsilicatglas (7, 9) in einem Ätzzyklus, bei dem eine im Verhältnis 1:10 mit Wasser verdünnte Flußsäure, anschließend eine wässrige schwefelsaure KMn0 4 -Lösung und gegebenenfalls eine im Verhältnis 1:10 mit Wasser verdünnte Flußsäure angwendet werden, bei Zimmertemperatur vollständig abgelöst. In Gegenwart der S1B 6 -Schicht (8), die in dem zuvor angegebenen Ätzzyklus nicht angegriffen wird, wird Bor in einem zweiten Wärmeprozeß in das Silicium hineingetrieben. Der zweite Wärmeprozeß kann je nach dem gewünschten Schichtwiderstandswert (RS) und der Eindringtiefe (xj) in oxidierender oder inerter Atmosphäre erfolgen.
Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren können sehr homogene und gut reproduzierbare Diffusionsergebnisse innerhalb sehr enger Toleranzen erhalten werden.
摘要翻译：本发明涉及掺杂硅体的方法通过硼的扩散。按照本发明，所得到的在第一加热处理通过使在硼和硼和氧的预定量在预定的量的比例混合气在硅本体硼硅酸盐玻璃（7,9）在一蚀刻循环，其中一个与水氢氟酸稀释1:10，随后含水硫酸高锰酸钾溶液和任选的稀1:10与水氢氟酸angwendet，在室温下完全分离。在S1B6层（8），其未在上述的蚀刻循环攻击的存在，硼被驱动到在所述硅的第二热处理。所述第二热工艺可（RS）和穿透（XJ）的深度取决于所期望的薄层电阻发生在氧化或惰性气氛中。利用本发明的方法非常均匀和可再现的扩散结果可以非常窄的公差范围内来获得。

3. 发明授权

EP0047814B1 Aufzeichnungsträger für Elektroerosionsdrucker 失效
标题翻译：电子印刷登记支持
公开(公告)号：EP0047814B1
公开(公告)日：1986-11-12
申请号：EP81104339.7
申请日：1981-06-05
申请人： IBM DEUTSCHLAND GMBH , International Business Machines Corporation
发明人： Bahr, Dietrich Jürgen, Dr. , Briska, Marian
IPC分类号： B41M5/24
CPC分类号： B41M5/245

4. 发明授权

EP0032174B1 Verfahren zum Dotieren von Siliciumkörpern durch Eindiffundieren von Bor und Anwendung dieses Verfahrens zum Herstellen von Basiszonen bipolarer Transistoren 失效
标题翻译：通过扩散硼原子沉积硅衬底的方法和使用本方法制备双极晶体管基区的方法
公开(公告)号：EP0032174B1
公开(公告)日：1984-07-25
申请号：EP80107034.3
申请日：1980-11-14
申请人： IBM DEUTSCHLAND GMBH , International Business Machines Corporation
发明人： Briska, Marian , Metzger, Gert , Thiel, Klaus Peter
IPC分类号： H01L21/223 , H01L21/31 , C30B31/02
CPC分类号： C30B31/02 , H01L21/223 , H01L21/31111

5. 发明授权

EP0179934B1 Magnetplatte und Verfahren zu ihrer Herstellung 失效
标题翻译：磁盘及其生产工艺
公开(公告)号：EP0179934B1
公开(公告)日：1988-04-27
申请号：EP84113055.2
申请日：1984-10-31
申请人： IBM DEUTSCHLAND GMBH , International Business Machines Corporation
发明人： Briska, Marian , Elsner, Gerhard, Dr. , Hinkel, Holger, Dr.
IPC分类号： G11B5/708 , G11B5/704 , G11B5/855
CPC分类号： G11B5/7305 , G11B5/708 , G11B5/855 , Y10S428/90 , Y10T428/24521

6. 发明公开

EP0179934A1 Magnetplatte und Verfahren zu ihrer Herstellung 失效
标题翻译：磁盘和它们的制备方法。
公开(公告)号：EP0179934A1
公开(公告)日：1986-05-07
申请号：EP84113055.2
申请日：1984-10-31
申请人： IBM DEUTSCHLAND GMBH , International Business Machines Corporation
发明人： Briska, Marian , Elsner, Gerhard, Dr. , Hinkel, Holger, Dr.
IPC分类号： G11B5/708 , G11B5/704 , G11B5/855
CPC分类号： G11B5/7305 , G11B5/708 , G11B5/855 , Y10S428/90 , Y10T428/24521
摘要： In der Magnetplatte, welche eine Magnetschicht, bestehend aus einem Bindemittel, magnetischen Teilchen und einem abriebfesten Material auf einem Siliciumsubstrat (1) aufweist, hat das abriebfeste Material die Form von Erhebungen (3,13,23), welche über die Oberfläche des Siliciumsubstrats (1) hinausragen, mit diesen verbunden sind, eine festgelegte gleichmäßige Verteilung auf der Substratoberfläche haben und deren Oberfläche mit der Oberfläche einer Schicht (5), welche aus dem Bindemittel und den magnetischen Teilchen besteht, coplanar ist. Hergestellt wird die Magnetplatte, indem auf dem Substrat (1) die Erhebungen (3, 13, 23) in einer festgelegten, regelmäßigen Verteilung entweder, nachdem die Oberfläche des Substrats (1) ganzflächig dotiert und/oder mit einer Schicht (2, 8, 11), welche als Hauptbestandteil Aluminium enthält, versehen worden ist, durch Tempern und gegebenenfalls Oxidieren, oder nachdem die Oberfläche des Substrats (1) selektiv dotiert worden ist, durch Wegätzen der dabei nicht dotierten Bereiche der Oberfläche des Substrats (1) erzeugt werden, daß dann die Schicht (5) aus dem Bindemittel und den magnetischen Teilchen aufgeschleudert, gehärtet und dann abgeschliffen wird, bis die Spitzen der Erhebungen (3, 13, 23) freiliegen.
摘要翻译：在磁盘具有由粘合剂，磁性颗粒和在硅衬底（1）上的耐磨材料制成的磁性层，具有耐磨材料在突出部的形式（3，13，23），其（在该硅衬底的表面 1）延伸，连接到这些，具有带有层（5）由粘合剂和磁性粒子是共面的表面的衬底表面上的预定均匀分布和表面。产生时，磁盘通过，在基板（1），在基板（1）的表面上之后的固定，规则分布在整个区域上掺杂和/或与层（2,8，无论是凸起（3,13，23）， 11），其中包含作为主要成分的铝，已经提供了，通过退火制备和任选的氧化剂，或之后的基板的表面（1）已经被选择性掺杂，通过蚀刻掉衬底（1）的表面的未掺杂区域，其随后旋涂粘合剂和磁性颗粒的层（5），硬化，然后研磨，以暴露突起（3,13，23）的尖端。

7. 发明公开

EP0036469A3 Method of reducing the traces formed on the surface of recording supports by polishing or grating 失效
标题翻译：通过抛光或雕刻减少记录支持物表面形成的痕迹的方法
公开(公告)号：EP0036469A3
公开(公告)日：1982-03-17
申请号：EP81100299
申请日：1981-01-16
申请人： International Business Machines Corporation
发明人： Bahr, Dietrich, Jürgen, Dr. , Briska, Marian
IPC分类号： B41M05/24
CPC分类号： B41M5/245

8. 发明公开

EP0040664A1 Verfahren zum Herstellen eines mit Füllstoffen und/oder Pigmenten versehenen Lackpräparats für Aufzeichnungsträger und aus diesem Präparat hergestellter Lack 失效
标题翻译：一种制造设置有填料和/或颜料涂料制备记录载体和从该制备清漆制成的方法。
公开(公告)号：EP0040664A1
公开(公告)日：1981-12-02
申请号：EP81100491.0
申请日：1981-01-23
申请人： International Business Machines Corporation
发明人： Bahr, Dietrich Jürgen, Dr. , Briska, Marian
IPC分类号： C09D3/14 , B41M5/24
CPC分类号： C09D101/14 , C08K3/26 , C08K5/10 , C08L1/14 , C08L31/04 , C08L2666/02 , C08L2666/28 , C08L2666/54
摘要： Verfahren zum Herstellen eines mechanisch stabilen, temperaturbeständigen Lackes für Aufzeichnungsträger auf Celluloseaceto-Monobutyrat-Basis, bei dem das Celluloseaceto-Monobutyrat mit einem Polyvinylester-Copolymerisat mit aus längeren aliphatischen Ketten bestehenden Seitenzweigen miteinander vermischt werden und nach Beigabe der Füllstoffe und/oder Pigmente zu Lack verarbeitet werden.
摘要翻译：一种制备用于对Celluloseaceto-单丁酸酯基的记录载体，其中，所述Celluloseaceto-单丁酸酯与具有由长脂族链侧分支的聚乙烯基酯共聚物混合在一起机械稳定的，耐热的油漆过程中，和在加入填料和/或颜料的后油漆进行处理。

9. 发明公开

EP0073254A1 Verfahren zum Herstellen von kompakten Lackschichten für Aufzeichnungsträger 失效
标题翻译： Verfahren zum Herstellen von kompakten LackschichtenfürAufzeichnungsträger。
公开(公告)号：EP0073254A1
公开(公告)日：1983-03-09
申请号：EP81106496.3
申请日：1981-08-21
申请人： IBM DEUTSCHLAND GMBH , International Business Machines Corporation
发明人： Bahr, Dietrich Jürgen, Dr. , Briska, Marian
IPC分类号： C09D3/14 , B41M5/24
CPC分类号： B41M5/245 , C09D101/14 , C08L1/14 , C08L97/02 , C08L2666/02
摘要： Die Erfindung betrifft ein Herstellungsverfahren für kompakte Lackschichten hohen Mattigkeitsgrades auf der Basis von Cellulose-Acetobutyrat für mit einer metallischen oder metallhaltigen Schicht überzogene Aufzeichnungsträger, bei weichem der Lackgrundmasse hochmolekulare Polysaccharide mit einem Anteil von solchen Poiysacchariden, die Seitenketten sowie Anteile an Lignin enthalten, mit einer Korngrößenverteilung dieser Füllstoffe
摘要翻译： 1.一种生产用于涂覆有金属或含金属层的记录载体的具有高度钝度的紧密纤维素乙酰丁酸酯基漆层的方法，其特征在于含有一定量的具有侧链并含有木质素的多糖的高分子多糖混合成粒度分布小于10μm且分子量约为10 ** 6的填料。

10. 发明公开

EP0047361A3 Registration support for electro-erosion printing 失效
标题翻译：电蚀印刷的注册支持
公开(公告)号：EP0047361A3
公开(公告)日：1982-03-24
申请号：EP81104338
申请日：1981-06-05
申请人： IBM DEUTSCHLAND GMBH , International Business Machines Corporation
发明人： Bahr, Dietrich, Jürgen, Dr. , Briska, Marian
IPC分类号： B41M05/24
CPC分类号： B41M5/245

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