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    • 7. 发明公开
    • Mit Carbonylamino-N-alkancarbonsäure-Gruppen substituierte Vinylaromaten und ihre Verwendung
    • Mit羰基氨基-N-烷烃羰基取代基Vinylaromaten und ihre Verwendung。
    • EP0467177A1
    • 1992-01-22
    • EP91111279.5
    • 1991-07-06
    • BASF Aktiengesellschaft
    • Funhoff, Dirk, Dr.Roser, Joachim, Dr.Schulz, Guenther, Dr.
    • C07C233/83G03F7/039
    • C07D257/04C07C233/83C07C233/87C07C237/22C07C279/14C07C323/59C07D207/16C07D209/20C07D209/88C07D333/38C08F12/26G03F7/021
    • Die neuen, mit Carbonylamino-N-alkancarbonsäure-Gruppen substituierten Vinylaromaten der allgemeinen Formel I

      worin der Index und die Variablen die in den Ansprüchen und in der Beschreibung näher erläuterte Bedeutung haben, können in der Reprographie verwendet werden. Vorzugsweise dienen sie der Herstellung neuer, mit Carbonylamino-N-alkancarbonsäure-Gruppen substituierter Vinylaromat-(Co)-Polymerisate, welche für die Herstellung lichtempfindlicher Aufzeichnungsschichten (B) von lichtempfindlichen Aufzeichnungselementen verwendet werden können. Die neuen lichtempfindlichen Aufzeichnungselemente, deren neue lichtempfindliche Aufzeichnungsschichten (B) diese neuen Vinylaromat-(Co)Polymerisate enthalten oder hieraus bestehen, liefern durch bildmäßiges Belichten mit aktinischem Licht und Auswaschen (Entwickeln) mit wäßrig-alkalischen Entwicklerlösungsmitteln alkaliresistente Druckplatten und Photoresiste. Darüber hinaus eignen sich die neuen lichtempfindlichen Aufzeichnungselemente noch für die Herstellung positiver Abbildungen von Negativvorlagen.
    • 由羰基氨基-N-链烷羧酸基团和通式I 取代的新型乙烯基芳烃,其中索引和变量具有权利要求和说明书中详细解释的含义,可用于复制。 它们优选用于制备被羰基氨基-N-烷烃羧酸基团取代并可用于制备光敏记录元件的光敏记录层(B)的新型乙烯基芳族(共)聚合物。 新型感光记录层(B)含有这些新型乙烯基芳族(共)聚合物或其组成的新型感光记录元件,当用光化学光照成像曝光并用含水碱性显影剂洗涤(显影)时,得到耐碱印刷板和光致抗蚀剂。 新颖的光敏记录元件也适用于产生负像的正像。
    • 9. 发明公开
    • Positivarbeitendes strahlenempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefstrukturen
    • Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefstrukturen
    • EP0762207A2
    • 1997-03-12
    • EP96114061.3
    • 1996-09-03
    • BASF AKTIENGESELLSCHAFT
    • Schwalm, Reinhold, Dr.Funhoff, Dirk, Dr.Binder, Horst
    • G03F7/004G03F7/039
    • G03F7/0045G03F7/039Y10S430/106Y10S430/111
    • Die Erfindung betrifft ein positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch, das im wesentlichen besteht aus

      (a 1 ) mindestens einem säurelabile Gruppierungen enthaltenden, in Wasser unlöslichen, organischen polymeren Bindemittel, das durch Einwirkung von Säure in wäßrig-alkalischen Lösungen löslich wird, oder

      (a 2.1 ) einem in Wasser unlöslichen, in wäßrig-alkalischen Lösungen löslichen polymeren Bindemittel und
      (a 2.2 ) einer niedermolekularen organischen Verbindung, deren Löslichkeit in einem wäßrig-alkalischen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird,

      (b) mindestens einer organischen Verbindung, welche unter Einwirkung von aktinischer Strahlung eine Säure erzeugt, sowie gegebenenfalls
      (c) einer oder mehreren weiteren von (b) verschiedenen organischen Verbindungen,
      wobei mindestens eine der Komponenten (a 1 ), (a 2.1 ), (a 2.2 ), (b) und (c) eine Gruppierung der allgemeinen Formel (I) -O ⊖ N ⊕ R 4 gebunden enthält, oder Komponente (c) der Formel (II)
      entspricht.
      Das strahlungsempfindliche Gemisch eignet sich zur Herstellung von Reliefstrukturen.
    • 正面工作的辐射敏感混合物。 是基于(a)(a-1)水不溶物。 具有酸不稳定gps的有机聚合物粘合剂,使其溶于水溶液。 碱性溶胶 通过酸或(a-2.1)的水溶性作用。 聚合物粘合剂,其可溶于水溶液。 碱性溶胶和(a-2.2)低摩尔。 有机cpd,其在水溶液中更易溶解。 碱性显影剂通过酸的作用; (b)有机光酸; 并选择。 (c)有机cpd。 (b)以外。 (a-1),(a-2.1),(a-2.2),(b)和(c)中的至少一个含有gp。 式(Ⅳ)化合物其中R 1(ⅰ)或(c)具有式-O-CO-Ä(CH2-n-CH2-N + R3(Ⅱ)),其中R = -6 C烷基; n = 1-6。