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1. 发明公开

EP1258485A1 Aufarbeitung der bei der Herstellung von hochreinem Triethylendiamin anfallenden Mutterlauge 有权
标题翻译：在生产高纯度的三亚乙基二胺母液得到的处理
公开(公告)号：EP1258485A1
公开(公告)日：2002-11-20
申请号：EP02010129.1
申请日：2002-05-10
申请人： BASF AKTIENGESELLSCHAFT
发明人： Lang, Ortmund , Rumpf, Bernd, Dr. , Frauenkron, Matthias, Dr. , Funhoff, Dirk, Dr. , Manderbach, Thomas, Dr. , Stein, Bernd, Dr.
IPC分类号： C07D487/08
CPC分类号： C07D487/08
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Reinigung von Triethylendiamin (TEDA), bei dem TEDA verdampft und das dampfförmige TEDA in ein flüssiges Lösungsmittel eingeleitet und anschließend aus diesem auskristallisiert wird, wobei die nach dem Auskristallisieren des TEDA erhaltene Mutterlauge mit einem Extraktionsmittel extrahiert wird, das nicht oder nur gering mit dem Lösungsmittel der Mutterlauge mischbar ist und in der sich TEDA gut löst, und die nach Extraktion erhaltene, an TEDA verarmte Mutterlauge und/oder das zur Extraktion verwendete, mit TEDA angereicherte Extraktionsmittel in den Prozeß zurückführt.
摘要翻译：三亚乙基二胺（TEDA）的纯化包括结晶并在萃取剂得到的母液的提取所做的是至多仅与母液的溶剂混溶的略微但其中TEDA是可溶的。提取后，具有降低TEDA的内容和/或在富含TEDA提取剂处理的母液再循环到工艺中。一种三亚乙基二胺（TEDA）的蒸发的纯化和供给TEDA蒸气接着结晶的液体溶剂的过程，其特征在于DASS继TEDA的结晶所得的母液中提取与提取剂所做的是至多仅稍微可混溶与母液的溶剂，但其中TEDA是可溶的。提取后，具有降低TEDA的内容和/或在富含TEDA提取剂处理的母液再循环到工艺中。

2. 发明公开

EP1223172A3 Verfahren zur Herstellung von reinem Triethylendiamin (TEDA) 有权
标题翻译：维他命Zur Herstellung von reinem Triethylendiamin（TEDA）
公开(公告)号：EP1223172A3
公开(公告)日：2002-07-24
申请号：EP01129790.0
申请日：2001-12-14
申请人： BASF AKTIENGESELLSCHAFT
发明人： Lang, Ortmund , Rumpf, Bernd, Dr. , Frauenkron, Matthias, Dr. , Funhoff, Dirk, Dr. , Manderbach, Thomas, Dr. , Stein, Bernd, Dr.
IPC分类号： C07D487/08
CPC分类号： C07D487/08
摘要： Herstellung von reinem Triethylendiamin (TEDA), wobei man TEDA aus einer Mischung enthaltend ein Lösungs- oder Verdünnungsmittel, wobei das Lösungs- oder Verdünnungsmittel bei Normaldruck einen Siedepunkt im Bereich von 175 bis 250 °C aufweist, verdampft, das dampfförmige TEDA in ein flüssiges Lösungsmittel einleitet und anschließend das TEDA aus der so erhaltenen Lösung auskristallisiert.
摘要翻译：本发明涉及通过从包含溶剂或稀释剂的混合物中蒸发TEDA来制备纯三亚乙基二胺（TEDA），其中溶剂或稀释剂的沸点在大气压下为175-250℃，通过蒸气将TEDA形成液体溶剂，随后将TEDA从所得溶液中结晶。

3. 发明授权

EP0762206B1 Positivarbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefstrukturen 失效
标题翻译：用于生产浮雕结构的正性工作的辐射敏感混合物和过程
公开(公告)号：EP0762206B1
公开(公告)日：2002-01-30
申请号：EP96114059.7
申请日：1996-09-03
申请人： BASF AKTIENGESELLSCHAFT
发明人： Schwalm, Reinhold, Dr. , Funhoff, Dirk, Dr. , Binder, Horst
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039
CPC分类号： G03F7/039 , G03F7/0045 , Y10S430/106

4. 发明授权

EP0520265B1 Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch mit Disulfonsäurespendern 失效
标题翻译：与Disulfonsäurespendern的正型辐射敏感混合物
公开(公告)号：EP0520265B1
公开(公告)日：1999-11-17
申请号：EP92109980.0
申请日：1992-06-13
申请人： BASF Aktiengesellschaft
发明人： Schwalm, Reinhold, Dr. , Binder, Horst , Funhoff, Dirk, Dr. , Roser, Joachim, Dr. , Funhoff, Angelika, Dr.
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/039

5. 发明授权

EP0540965B1 Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern 失效
标题翻译：用于制造浮雕图案的正型辐射敏感混合物和过程
公开(公告)号：EP0540965B1
公开(公告)日：1999-06-09
申请号：EP92118250.7
申请日：1992-10-24
申请人： BASF Aktiengesellschaft
发明人： Binder, Horst , Schwalm, Reinhold, Dr. , Funhoff, Dirk, Dr.
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0045 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/122

6. 发明公开

EP0762207A3 Positivarbeitendes strahlenempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefstrukturen 失效
标题翻译：用于生产浮雕结构的正性工作的辐射敏感混合物和过程
公开(公告)号：EP0762207A3
公开(公告)日：1997-06-25
申请号：EP96114061.3
申请日：1996-09-03
申请人： BASF AKTIENGESELLSCHAFT
发明人： Schwalm, Reinhold, Dr. , Funhoff, Dirk, Dr. , Binder, Horst
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/039 , Y10S430/106 , Y10S430/111
摘要： Die Erfindung betrifft ein positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch, das im wesentlichen besteht aus
(a 1 ) mindestens einem säurelabile Gruppierungen enthaltenden, in Wasser unlöslichen, organischen polymeren Bindemittel, das durch Einwirkung von Säure in wäßrig-alkalischen Lösungen löslich wird, oder
(a 2.1 ) einem in Wasser unlöslichen, in wäßrig-alkalischen Lösungen löslichen polymeren Bindemittel und (a 2.2 ) einer niedermolekularen organischen Verbindung, deren Löslichkeit in einem wäßrig-alkalischen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird, (b) mindestens einer organischen Verbindung, welche unter Einwirkung von aktinischer Strahlung eine Säure erzeugt, sowie gegebenenfalls (c) einer oder mehreren weiteren von (b) verschiedenen organischen Verbindungen, wobei mindestens eine der Komponenten (a 1 ), (a 2.1 ), (a 2.2 ), (b) und (c) eine Gruppierung der allgemeinen Formel (I) -O ⊖ N ⊕ R 4 gebunden enthält, oder Komponente (c) der Formel (II)
entspricht. Das strahlungsempfindliche Gemisch eignet sich zur Herstellung von Reliefstrukturen.

7. 发明公开

EP0467177A1 Mit Carbonylamino-N-alkancarbonsäure-Gruppen substituierte Vinylaromaten und ihre Verwendung 失效
标题翻译： Mit羰基氨基-N-烷烃羰基取代基Vinylaromaten und ihre Verwendung。
公开(公告)号：EP0467177A1
公开(公告)日：1992-01-22
申请号：EP91111279.5
申请日：1991-07-06
申请人： BASF Aktiengesellschaft
发明人： Funhoff, Dirk, Dr. , Roser, Joachim, Dr. , Schulz, Guenther, Dr.
IPC分类号： C07C233/83 , G03F7/039
CPC分类号： C07D257/04 , C07C233/83 , C07C233/87 , C07C237/22 , C07C279/14 , C07C323/59 , C07D207/16 , C07D209/20 , C07D209/88 , C07D333/38 , C08F12/26 , G03F7/021
摘要： Die neuen, mit Carbonylamino-N-alkancarbonsäure-Gruppen substituierten Vinylaromaten der allgemeinen Formel I

worin der Index und die Variablen die in den Ansprüchen und in der Beschreibung näher erläuterte Bedeutung haben, können in der Reprographie verwendet werden. Vorzugsweise dienen sie der Herstellung neuer, mit Carbonylamino-N-alkancarbonsäure-Gruppen substituierter Vinylaromat-(Co)-Polymerisate, welche für die Herstellung lichtempfindlicher Aufzeichnungsschichten (B) von lichtempfindlichen Aufzeichnungselementen verwendet werden können. Die neuen lichtempfindlichen Aufzeichnungselemente, deren neue lichtempfindliche Aufzeichnungsschichten (B) diese neuen Vinylaromat-(Co)Polymerisate enthalten oder hieraus bestehen, liefern durch bildmäßiges Belichten mit aktinischem Licht und Auswaschen (Entwickeln) mit wäßrig-alkalischen Entwicklerlösungsmitteln alkaliresistente Druckplatten und Photoresiste. Darüber hinaus eignen sich die neuen lichtempfindlichen Aufzeichnungselemente noch für die Herstellung positiver Abbildungen von Negativvorlagen.
摘要翻译：由羰基氨基-N-链烷羧酸基团和通式I 取代的新型乙烯基芳烃，其中索引和变量具有权利要求和说明书中详细解释的含义，可用于复制。它们优选用于制备被羰基氨基-N-烷烃羧酸基团取代并可用于制备光敏记录元件的光敏记录层（B）的新型乙烯基芳族（共）聚合物。新型感光记录层（B）含有这些新型乙烯基芳族（共）聚合物或其组成的新型感光记录元件，当用光化学光照成像曝光并用含水碱性显影剂洗涤（显影）时，得到耐碱印刷板和光致抗蚀剂。新颖的光敏记录元件也适用于产生负像的正像。

8. 发明授权

EP1258485B1 Aufarbeitung der bei der Herstellung von hochreinem Triethylendiamin anfallenden Mutterlauge 有权
标题翻译：在生产高纯度的三亚乙基二胺母液得到的处理
公开(公告)号：EP1258485B1
公开(公告)日：2005-06-22
申请号：EP02010129.1
申请日：2002-05-10
申请人： BASF AKTIENGESELLSCHAFT
发明人： Lang, Ortmund , Rumpf, Bernd, Dr. , Frauenkron, Matthias, Dr. , Funhoff, Dirk, Dr. , Manderbach, Thomas, Dr. , Stein, Bernd, Dr.
IPC分类号： C07D487/08
CPC分类号： C07D487/08

9. 发明公开

EP1223172A2 Verfahren zur Herstellung von reinem Triethylendiamin (TEDA) 有权
标题翻译：对于纯的三亚乙基二胺的制备方法（TEDA）
公开(公告)号：EP1223172A2
公开(公告)日：2002-07-17
申请号：EP01129790.0
申请日：2001-12-14
申请人： BASF AKTIENGESELLSCHAFT
发明人： Lang, Ortmund , Rumpf, Bernd, Dr. , Frauenkron, Matthias, Dr. , Funhoff, Dirk, Dr. , Manderbach, Thomas, Dr. , Stein, Bernd, Dr.
IPC分类号： C07D487/08
CPC分类号： C07D487/08
摘要： Herstellung von reinem Triethylendiamin (TEDA), wobei man TEDA aus einer Mischung enthaltend ein Lösungs- oder Verdünnungsmittel, wobei das Lösungs- oder Verdünnungsmittel bei Normaldruck einen Siedepunkt im Bereich von 175 bis 250 °C aufweist, verdampft, das dampfförmige TEDA in ein flüssiges Lösungsmittel einleitet und anschließend das TEDA aus der so erhaltenen Lösung auskristallisiert.
摘要翻译：纯三亚乙基二胺（TEDA）的制备，其中一个从混合物包含溶剂或稀释剂，其中所述溶剂或稀释剂具有在175至250℃在大气压力范围内的沸点，蒸发TEDA，气态TEDA成液体溶剂启动，然后从这样获得的TEDA溶液中结晶。

10. 发明授权

EP0616258B1 Strahlungsempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefstrukturen mit verbessertem Kontrast 失效
标题翻译：用于生产浮雕结构具有改进的对比度的辐射敏感混合物和过程
公开(公告)号：EP0616258B1
公开(公告)日：1997-05-21
申请号：EP94102859.9
申请日：1994-02-25
申请人： BASF Aktiengesellschaft
发明人： Funhoff, Dirk, Dr. , Schwalm, Reinhold, Dr. , Binder, Horst
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039
CPC分类号： G03F7/039 , C08K5/375 , C08K5/42 , C09D125/02 , C09D125/18 , C09D143/04 , G03F7/0045 , Y10S430/111 , Y10S430/122 , C08L2666/28

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