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    • 4. 发明公开
    • Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch mit Disulfonsäurespendern
    • 积极主义者(Strahlungsempfindliches)Gemisch mitDisulfonsäurespendern。
    • EP0520265A2
    • 1992-12-30
    • EP92109980.0
    • 1992-06-13
    • BASF Aktiengesellschaft
    • Schwalm, Reinhold, Dr.Binder, HorstFunhoff, Dirk, Dr.Roser, Joachim, Dr.Funhoff, Angelika, Dr.
    • G03F7/039G03F7/004
    • G03F7/039
    • Die Erfindung betrifft ein positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch, enthaltend

      (a1) ein säurelabile Ether-, Ester- oder Carbonatgruppen enthaltendes organisches Bindemittel, oder
      (a2) ein in Wasser unlösliches, in wäßrig-alkalischen Lösungen lösliches polymeres Bindemittel und
      (a2.1) eine organische Verbindung, deren Löslichkeit in einem wäßrig-alkalischen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird, oder
      (a2.2) eine organische Verbindung, deren Löslichkeit in einem wäßrig-alkalischen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird und die mindestens eine durch Säure spaltbare Gruppierung sowie zusätzlich eine Gruppierung, die unter Einwirkung von Strahlung eine starke Säure bildet, enthält oder ein Gemisch der organischen Verbindungen (a2.1) und (a2.2) und
      (b) ein Disulfon der allgemeinen Formel



              R¹-SO₂-SO₂-R²



      worin R¹ und R² für, gegebenenfalls substituiertes, Alkyl, Cycloalkyl, Aryl, Aralkyl oder Heteroaryl mit bis zu 12 Kohlenstoffatomen stehen.

      Dieses strahlungsempfindliche Gemisch eignet sich zur Herstellung von Reliefmustern.
    • 本发明涉及一种正性辐射敏感性组合物,其含有(a1)含有醚,酯或碳酸酯基团的酸不稳定有机粘合剂,或(a2)可溶于碱性水溶液的水不溶性聚合物粘合剂,和 a2.1)其在碱性显影剂中的溶解度通过暴露于酸而增加的有机化合物,或(a2.2)其在碱性显影剂中的溶解度在暴露于酸中并且含有至少一种酸的有机化合物 另外,在暴露于辐射时形成强酸的分组,或有机化合物(a2.1)和(a.2.2)的混合物和(b)通式R 1的二元环, 1 -SO 2 -SO 2 -R 2其中R 1和R 2是任选取代的含有至多12个碳原子的烷基,环烷基,芳基,芳烷基或杂芳基。 所述辐射敏感组合物适于制备浮雕图案。