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2. 发明公开

EP0564789A1 Verfahren zur Werkstückbehandlung in einer Vakuumatmosphäre und Vakuumbhandlungsanlage 失效
标题翻译： Verfahren zurWerkstückbehandlung在einerVakuumatmosphäreund Vakuumbhandlungsanlage。
公开(公告)号：EP0564789A1
公开(公告)日：1993-10-13
申请号：EP93102336.0
申请日：1993-02-15
申请人： BALZERS AKTIENGESELLSCHAFT
发明人： Signer, Hans , Kügler, Eduard , Wellerdick, Klaus , Rudigier, Helmut , Haag, Walter
IPC分类号： H01J37/32 , C23C14/32 , C23C14/54 , A01H5/00 , A01H5/10
CPC分类号： H01J37/32431 , C23C14/32 , C23C14/54 , H01J2237/0206
摘要： Wenn bei Vakuumbehandlungsprozessen in der Behandlungsatmosphäre elektrische Ladungsträger an gegen den Behandlungsraum elektrisch isolierte Flächen getrieben werden, ergibt sich das Problem der elektrostatischen Aufladung solcher Flächen, bis hin zur Bildung von Durch- oder Ueberschlägen. Dieses Problem wird dadurch gelöst, dass ein Entladungspfad (8 1 ) über eine solche isolierende Fläche (4), den Behandlungsraum und eine Gegenelektrode (2a) intermittierend (16) geschlossen wird, womit eine Neutralisierung der an der Isolationsfläche (4) angesammelten Ladung erfolgt. Dabei bleiben die genannten Ladungsträger im Bereiche der Oberfläche (4) akkumuliert, so dass sich dieses Vorgehen insbesondere für lonenplattierverfahren eignet, bei dem der mit der genannten Ladungsbelegung einhergehende Materialtransport genutzt wird. Das genannte Vorgehen eignet sich weiter zum Betrieb derartig isolierender Flächen mit Gleichspannungen und umgeht das Vorsehen von Hochfrequenzgeneratoren zur Behebung der sich aufbauenden Ladungsbelegung.
摘要翻译：在真空处理方法的情况下，当电荷载体在处理气氛中被驱动到与处理空间电绝缘的表面时，产生这种服务变得静电充电直到发生故障或闪络的问题。通过经由这样的绝缘面（4），处理空间和相对电极（2a）间歇地（16）关闭排出路径（S1）来解决这个问题，导致积聚在绝缘表面（4）上的电荷）被中和。在这种情况下，所述电荷载体在表面（4）的区域中保持同化，因此在与所述电荷助洗剂同时使用材料输送的情况下，该方法特别适用于离子镀工艺。所述方法还适合于以这种方式与DC电压绝缘的表面的操作，并且避免提供用于补救电荷积聚的高频发生器。

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