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1. 发明公开

EP2037324A2 Lithographic apparatus and method 审中-公开
标题翻译： Lithographische Vorrichtung und Verfahren
公开(公告)号：EP2037324A2
公开(公告)日：2009-03-18
申请号：EP08252915.7
申请日：2008-09-02
申请人： ASML Netherlands BV
发明人： van Dijk, Paulus Wilhelmus Leonardus , van Buel, Henricus Wilhelmus Maria , Keijsers, Gerardus Johannes Joseph , Onvlee, Johannes , van den Broek, Johannes Arie
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70775 , G03F7/707
摘要： A substrate carrier arranged to hold a substrate in position is disclosed. The substrate carrier (WC) has a transparent region (2) that extends through the substrate carrier from a side of the substrate carrier on which the substrate is to be held to an opposite side of the substrate carrier, the transparent region being substantially transparent to a signal used to determine the position of an edge of the substrate on the substrate carrier.
摘要翻译：公开了一种布置成将基板保持就位的基板载体。衬底载体（WC）具有透明区域（2），该透明区域（2）从衬底载体的衬底载体的一侧延伸穿过衬底载体，衬底载体将被保持在衬底载体的相对侧上，透明区域基本上透明到用于确定衬底在衬底载体上的边缘的位置的信号。

2. 发明公开

EP2037324A3 Lithographic apparatus and method 审中-公开
标题翻译：光刻设备和方法
公开(公告)号：EP2037324A3
公开(公告)日：2010-03-10
申请号：EP08252915.7
申请日：2008-09-02
申请人： ASML Netherlands BV
发明人： van Dijk, Paulus Wilhelmus Leonardus , van Buel, Henricus Wilhelmus Maria , Keijsers, Gerardus Johannes Joseph , Onvlee, Johannes , van den Broek, Johannes Arie
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70775 , G03F7/707
摘要： A substrate carrier arranged to hold a substrate in position is disclosed. The substrate carrier (WC) has a transparent region (2) that extends through the substrate carrier from a side of the substrate carrier on which the substrate is to be held to an opposite side of the substrate carrier, the transparent region being substantially transparent to a signal used to determine the position of an edge of the substrate on the substrate carrier.
摘要翻译：公开了一种布置成将衬底保持在适当位置的衬底载体。衬底载体（WC）具有透明区域（2），该透明区域（2）从衬底载体的将要保持衬底的一侧延伸穿过衬底载体到衬底载体的相反侧，透明区域基本上对用于确定基板边缘在基板载体上的位置的信号。

3. 发明公开

EP1918777A1 Lithographic apparatus and method 有权
标题翻译： Lithographische Vorrichtung und Verfahren
公开(公告)号：EP1918777A1
公开(公告)日：2008-05-07
申请号：EP07075929.5
申请日：2007-10-26
申请人： ASML Netherlands BV
发明人： Loopstra, Erik Roelof , Onvlee, Johannes
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00
CPC分类号： G03F7/70775 , G03F1/42 , G03F1/44 , G03F7/707 , G03F9/7011
摘要： In a lithographic apparatus, a slip of a patterning device relative to a support, the support constructed to support the patterning device, may be provided by measuring a position of the support relative to a first structure of the lithographic apparatus; measuring a position of the patterning device relative to a second structure of the lithographic apparatus; determining a correlation between the position of the patterning device and the position of the support from the measured position of the support, the measured position of the patterning device, and the mutual positions of the first and second structures; and deriving from the correlation a slip of the patterning device relative to the support. The structure may include a projection system to project a radiation beam patterned by the patterning device. The projection system may be connected to a frame, such as a metrology frame of the lithographic apparatus.
摘要翻译：在光刻设备中，可以通过测量支撑件相对于光刻设备的第一结构的位置来提供图案形成装置相对于支撑件的滑动，构造成支撑图案形成装置的支撑件; 测量所述图案形成装置相对于所述光刻设备的第二结构的位置; 从所述支撑体的测量位置，所述图案形成装置的测量位置以及所述第一和第二结构的相互位置确定所述图案形成装置的位置与所述支撑件的位置之间的相关性; 并且从相关性导出图案形成装置相对于支撑件的滑移。该结构可以包括投影系统以投射由图案形成装置图案化的辐射束。投影系统可以连接到诸如光刻设备的计量框架的框架。

4. 发明授权

EP1918777B1 Lithographic apparatus and method 有权
标题翻译：光刻设备和方法
公开(公告)号：EP1918777B1
公开(公告)日：2011-02-23
申请号：EP07075929.5
申请日：2007-10-26
申请人： ASML Netherlands BV
发明人： Loopstra, Erik Roelof , Onvlee, Johannes
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00
CPC分类号： G03F7/70775 , G03F1/42 , G03F1/44 , G03F7/707 , G03F9/7011

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