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    • 2. 发明公开
    • Three dimensional plating or etching process and masks therefor
    • Plattierungs- undÄtzverfahrenin drei Dimensionen und Maske。
    • EP0443097A1
    • 1991-08-28
    • EP90121226.6
    • 1990-11-06
    • Carl Baasel Lasertechnik GmbH
    • Mettler, John H.
    • G03F1/00
    • G03F1/68H05K1/0284H05K3/0002H05K3/0082H05K2203/056H05K2203/085H05K2203/107Y10T156/1028
    • In a process for plating or etching metalization patterns on the surface of a three dimensional substrate, a flexible plastic mask (200) is fabricated by first coating the surface of a thin plastic sheet with vacuum formable ink (20). The mask (200) is then molded into the shape of the surface (22) into which the pattern is to be formed. A low power YAG laser is used to remove areas of the ink through which light is to be allowed to pass (26). This mask may then be used in either a print and plate process or a print and etch process by drawing the mask into intimate contact with the workpiece by applying a vacuum between the mask (200) and the workpiece (204). The workpiece (204) may then be exposed to light through the clear areas of the mask (200).
    • 在三维基板的表面上电镀或蚀刻金属化图案的方法中,通过首先用真空成形墨水(20)涂覆薄塑料片的表面来制造柔性塑料掩模(200)。 然后将掩模(200)模制成其中将形成图案的表面(22)的形状。 低功率YAG激光器用于去除光线通过的墨水区域(26)。 然后可以通过在掩模(200)和工件(204)之间施加真空,将掩模通过拉伸掩模与工件的紧密接触而在印刷和印版工艺或印刷和蚀刻工艺中使用该掩模。 然后可以将工件(204)暴露于通过掩模(200)的透明区域的光。
    • 8. 发明公开
    • Laserbearbeitungsgerät mit Beobachtungseinrichtung
    • Laserbearbeitungsgerätmit Beobachtungseinrichtung
    • EP1206997A2
    • 2002-05-22
    • EP01127214.3
    • 2001-11-16
    • Carl Baasel Lasertechnik GmbH
    • Bauer, WolfgangLanghans, Lutz, Dr.Renner, Thomas, Dr.
    • B23K26/02
    • B23K26/032
    • Die Erfindung bezieht sich auf ein Laserbearbeitungsgerät, insbesondere ein Laserschweißgerät, mit einer Laserstrahlquelle (2) zum Erzeugen eines Laserstrahls (LS) und mit einer schwenkbaren Fokussiereinheit (8) zum Schwenken des Laserstrahls (LS) um zwei Drehachsen (x,y) und zum Fokussieren des Laserstrahls (LS) in einem Fokus (F). Im Strahlengang des Laserstrahls (LS) ist zwischen der Laserstrahlquelle (2) und der Fokussiereinheit (8) ein dichroitischer Spiegel (4) angeordnet, dem eine Beobachtungseinrichtung (20) derart zugeordnet ist, dass deren optische Achse (22) mit der Achse (24) des sich in Ausbreitungsrichtung des Laserstrahls (LS) gesehen nach dem dichroitischen Spiegel (4) ausbreitenden Laserstrahls (LS) zusammenfällt.
    • 激光处理装置包括用于产生激光束(LS)的激光束源(2)和用于使激光束绕两个旋转轴线(x,y)偏离并用于将激光束聚焦在焦点中的枢转聚焦单元(8) 点(F)。 在激光束源和聚焦单元之间的光束路径中布置二向色镜(4)。 观察装置(20)靠近反射镜设置,反射镜的光轴(22)与扩散区域中激光束的轴线(24)重合。 优选特征:聚焦单元包括围绕彼此正交的轴线(x,y)倾斜的偏转镜(82)。