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81. 发明授权

EP2878573B1 Système masse-ressort à faible débattement transverse 有权
标题翻译： Système集体重组 - 横向的，虚假的重新分配
公开(公告)号：EP2878573B1
公开(公告)日：2017-05-17
申请号：EP14195237.4
申请日：2014-11-27
申请人： COMMISSARIAT À L'ÉNERGIE ATOMIQUE ET AUX ÉNERGIES ALTERNATIVES
发明人： Boisseau, Sébastien , Chaillout, Jean-Jacques , Despesse, Ghislain , Duret, Alexandre-Benoit
IPC分类号： B81B3/00 , F03G3/00 , G01C9/00 , G01D5/12 , G01P15/08
CPC分类号： G01P15/0802 , B81B3/0021 , B81B3/0037 , B81B3/007 , B81B2203/0109 , B81B2203/0163 , F03G3/00 , G01C9/00 , G01D5/12 , H01L27/16

82. 发明公开

EP3141520A1 PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE PIÈCE MICROMÉCANIQUE HORLOGÈRE ET LADITE PIÈCE MICROMÉCANIQUE HORLOGÈRE 有权
标题翻译：制造定时器微机电零件的方法和称为微机电的钟表零件
公开(公告)号：EP3141520A1
公开(公告)日：2017-03-15
申请号：EP15184189.7
申请日：2015-09-08
申请人： Nivarox-FAR S.A.
发明人： Dubois, Philippe
IPC分类号： B81B3/00 , G04B15/14 , G04B17/22 , G04B19/12 , G04B31/08
CPC分类号： G04B31/08 , B81B3/007 , B81B3/0075 , B81B2201/035 , C23C14/22 , C23C16/45525 , G04B15/14 , G04B19/12
摘要： L'invention se rapporte à un procédé de fabrication d'une pièce micromécanique horlogère à partir d'un substrat à base de silicium (1), comprenant, dans l'ordre, les étapes de :
a) se munir d'un substrat à base de silicium (1),
b) former des pores (2) à la surface d'au moins une partie d'une surface dudit substrat à base de silicium (1) d'une profondeur d'au moins 10 µm, de préférence d'au moins 50 µm, et plus préférentiellement d'au moins 100 µm, lesdits pores étant agencés pour déboucher à la surface externe de la pièce micromécanique horlogère.
L'invention concerne également une pièce micromécanique horlogère comprenant un substrat à base de silicium (1) qui présente, à la surface d'au moins une partie d'une surface dudit substrat à base de silicium (1), des pores (2) d'une profondeur d'au moins 10 µm, de préférence d'au moins 50 µm, et plus préférentiellement d'au moins 100 µm, lesdits pores étant agencés pour déboucher à la surface externe de la pièce micromécanique horlogère
摘要翻译：本发明涉及一种用于由硅基衬底（1）制造制表微机械部件的方法，依次包括以下步骤：a）提供衬底硅基底（1），b）在所述硅基衬底（1）的至少一部分表面的至少一部分表面上形成深度至少为10μm的孔隙（2），优选至少50微米，更优选至少100微米，所述孔布置成通向钟表微机械部件的外表面。本发明还涉及一种制表微机械部件，其包括在所述硅基衬底（1）的至少一部分表面上具有孔（2）的硅基衬底（1）的深度为至少10μm，优选至少50μm，并且更优选至少100μm，所述孔布置成通向钟表微机械部件的外表面

83. 发明授权

EP1260019B1 MICRO-ELECTROMECHANICAL STRUCTURE RESONATOR AND METHOD OF MAKING IT 有权
标题翻译：用于生产微机电谐振器和过程
公开(公告)号：EP1260019B1
公开(公告)日：2016-11-30
申请号：EP01908666.9
申请日：2001-01-22
申请人： Intel Corporation
发明人： MA, Qing , CHENG, Peng
IPC分类号： H03H3/00 , H03H3/007 , G11B21/16 , G11B21/21
CPC分类号： H03H3/0077 , B81B3/007 , G11B5/484 , G11B21/16 , H03H9/24 , H03H9/2463 , H03H2009/0233

84. 发明公开

EP3037893A1 Composant micromécanique ou horloger à guidage flexible 有权
标题翻译：微机械部件或具有灵活的导丝观看
公开(公告)号：EP3037893A1
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：EP14199602.5
申请日：2014-12-22
申请人： Patek Philippe SA Genève
发明人： Musy, Jean-Pierre
IPC分类号： G04B17/04 , B81B3/00
CPC分类号： B81B3/007 , B81B2203/0163 , B81B2203/056 , G04B17/045
摘要： Le composant micromécanique ou horloger à guidage flexible selon l'invention comprend des première et deuxième parties rigides (2, 3) reliées par un système à bras élastiques (7, 8) agencé pour guider un déplacement de la deuxième partie rigide (3) par rapport à la première partie rigide (2) dans un plan déterminé. L'un au moins des bras élastiques (7, 8) comprend une âme (25) et un revêtement (26) fait dans un matériau ayant un module d'élasticité supérieur au matériau dans lequel est faite l'âme. L'âme (25) porte le revêtement (26) seulement sur ses deux faces (27, 28), ou l'une de ses deux faces (27, 28), qui sont parallèles au plan déterminé.

85. 发明公开

EP2857347A1 Optical deflecting mirror device having figure "8"-shaped rib and optical deflector 有权
标题翻译： Optische Ablenkspiegelvorrichtung mit Rippe在Form einer 8 und optischer Deflektor
公开(公告)号：EP2857347A1
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：EP14183759.1
申请日：2014-09-05
申请人： Stanley Electric Co., Ltd.
发明人： Yasuda, Yoshiaki
IPC分类号： B81B3/00 , G02B26/08 , G02B26/10
CPC分类号： G02B26/0833 , B81B3/007 , B81B2201/042 , B81B2203/058
摘要： An optical deflecting mirror device includes a circular or elliptical mirror (1a) with a reflective front surface, and a figure "8"-shaped reinforcement rib (1b, 1b') provided on a rear surface of the mirror (1a) symmetrically along a rocking axis (X) of the mirror (1a). The figure "8"-shaped reinforcement rib (1b, 1b') includes two ring-shaped reinforcement ribs (1b-1, 1b-2; 1b'-1, 1b'-2) coupled to each other along the rocking axis (X).
摘要翻译：光学偏转镜装置包括具有反射性前表面的圆形或椭圆形的反射镜（1a）以及设置在反射镜（1a）的后表面上的图形“8”形加强肋（1b，1b'），沿着镜（1a）的摆动轴（X）。图形“8”形加强筋（1b，1b'）包括沿摇摆轴线彼此联接的两个环形加强肋（1b-1,1b-2; 1b'-1,1b'-2） X）。

86. 发明授权

EP2524390B1 MIKROELEKTROMECHANISCHES HALBLEITERSENSORBAUELEMENT 有权转让
标题翻译：微机电半导体传感器元
公开(公告)号：EP2524390B1
公开(公告)日：2014-08-27
申请号：EP11700636.1
申请日：2011-01-10
申请人： ELMOS Semiconductor AG
发明人： DOELLE, Michael
IPC分类号： B81C1/00 , B81B3/00 , G01L9/00
CPC分类号： B81C1/00158 , B81B3/0018 , B81B3/0021 , B81B3/007 , B81B3/0072 , B81B3/0081 , B81B2201/0235 , B81B2201/0264 , B81B2203/0127 , B81C1/00626 , B81C99/0035 , B81C2201/019 , G01L9/0047 , H01L29/4916 , H01L29/84

87. 发明授权

EP2523896B1 MIKROELEKTROMECHANISCHES HALBLEITERBAUELEMENT UND VERFAHREN ZU SEINER HERSTELLUNG 有权转让
标题翻译：微电子力学半导体元件及其制造方法
公开(公告)号：EP2523896B1
公开(公告)日：2014-06-11
申请号：EP11700163.6
申请日：2011-01-10
申请人： ELMOS Semiconductor AG
发明人： SENF, Reinhard
IPC分类号： G01L9/00
CPC分类号： B81C1/00158 , B81B3/0018 , B81B3/0021 , B81B3/007 , B81B3/0072 , B81B3/0081 , B81B2201/0235 , B81B2201/0264 , B81B2203/0127 , B81C1/00626 , B81C99/0035 , B81C2201/019 , G01L9/0047 , H01L29/4916 , H01L29/84

88. 发明公开

EP2226620A3 Semiconductor Sensor and Method of Manufacturing the Same 有权转让
标题翻译：半导体传感器及其制造方法
公开(公告)号：EP2226620A3
公开(公告)日：2014-01-08
申请号：EP10153783.5
申请日：2010-02-17
申请人： Omron Corporation
发明人： Adachi, Yoshitaka , Inoue, Katsuyuki
IPC分类号： G01L9/06 , B81B3/00 , G01L9/00
CPC分类号： G01L9/0042 , B81B3/007 , B81B2201/0264 , B81B2203/0127 , G01L9/0048 , G01L9/0054
摘要： This invention provides a semiconductor sensor (21) whose diaphragm (25) is resistant to breakage and in which variations in sensor sensitivity are small. A recess (26) is formed in a bottom surface of an SOI substrate obtained by bonding a Si substrate (22) and a Si thin film (24) with a SiO 2 film (23) interposed therebetween. Part of the Si thin film (24) constitutes the diaphragm (25) functioning as a sensitive region. In a top outer circumference of the recess (26), the SiO 2 film (23) covers a bottom outer circumference of the diaphragm (25) such that a bottom surface of the diaphragm (25) is exposed in its region except the outer circumference at a top surface of the recess (26). The SiO 2 film (23) (reinforcement (23a) covering the bottom outer circumference of the diaphragm (25) tapers off at its bottom surface such that the film thickness gradually decreases from a side of the outer circumference of the diaphragm (25) toward the center of the diaphragm (25).

89. 发明授权

EP1330867B1 BETÄTIGUNGSELEMENT UND VERFAHREN ZU SEINER HERSTELLUNG 有权
标题翻译：控制元件及其制造方法
公开(公告)号：EP1330867B1
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：EP01982185.9
申请日：2001-10-31
申请人： Danfoss A/S
发明人： GRAVESEN, Peter , BENSLIMANE, Mohamed, Yahia
IPC分类号： H02N1/00 , B81B3/00
CPC分类号： H01L41/0986 , B81B3/007 , B81B2201/038 , H01L41/333 , H01L41/45 , H02N1/006 , H04R23/00

90. 发明授权

EP1757972B1 Micro-mirror device and array thereof 有权
标题翻译：微镜器件及它们的排列
公开(公告)号：EP1757972B1
公开(公告)日：2013-10-02
申请号：EP06291331.4
申请日：2006-08-18
申请人： LG Electronics, Inc.
发明人： Ji, Changhyeon
IPC分类号： G02B26/08
CPC分类号： G02B26/0841 , B81B3/007 , B81B2201/042

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