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    • 73. 发明公开
    • Alkalischer Reiniger.
    • 碱性清洁剂。
    • EP0206222A2
    • 1986-12-30
    • EP86108247
    • 1986-06-17
    • PARKER CHEMICAL CO
    • KING PETER F
    • C11D7/14C11D1/72C11D3/075C11D3/08C11D7/16C11D7/26C11D7/60C23G1/19C23G1/20
    • C23G1/19C11D1/72C11D1/721C11D1/825C11D3/06C11D3/08C23G1/20
    • Die Erfindung betrifft einen alkalischen Reiniger, insbesondere für Metalloberflächen, wie Schwarzblech oder Weißblech, mit a) 0,5 bis 25 Gew.-Teilen Alkalisilikat b) 0,1 bis 3 Gew.-Teilen Alkaliphosphat c) 0,1 bis 3 Gew.-Teilen Komplexbildner d) 0,05 bis 1,5 Gew.-Teilen äthoxiliertem, geradkettigem Alkohol e) 0,05 bis 1,5 Gew.-Teilen Chloridderivat eines nichtionogenen Tensids der Gruppe polyäthoxilierter Phenole, polyäthoxilierte aliphatische Alkohole und Mischungen hiervon. Er enthält vorzugsweise als Komponente a) Alkalimetasilikat, als Komponente b) Alkalipolyphosphate, als Komponente c) Alkaligluconat, als Komponente d) einen Alkohol mit 8 bis 18 C-Atomen in der alkoholischen Gruppierung und 7 bis 11 Mol Äthylenoxid und als Komponente e) eine Verbindung der Formel
    • 本发明涉及一种碱性清洁剂,特别是用于金属表面如黑钢板或镀锡钢板,碱金属硅酸盐B)0.1〜3重量份的碱金属磷酸盐的C)0.1重量和a)0.5〜25重量份至第三 通过络合ð份)0.05至1.5重量份äthoxiliertem,直链醇E)0.05〜1.5重量份的组polyäthoxilierter酚,polyäthoxilierte脂族醇以及它们的混合物的非离子表面活性的酰氯衍生物的。 它优选包含作为组分a)碱性硅酸盐,作为组分b)碱金属多磷酸盐,作为组分c)Alkaligluconat,作为组分d),其具有在醇部分8至18个碳原子和环氧乙烷7-11摩尔和醇,如组分e)一 式的化合物
    • 75. 发明公开
    • CLEANING FORMULATIONS FOR REMOVING RESIDUES ON SURFACES
    • REINIGUNGSFORMULIERUNGEN ZUR ENTFERNUNG VONRÜCKSTÄNDENAUFOBERFLÄCHEN
    • EP3060642A1
    • 2016-08-31
    • EP14855311.8
    • 2014-09-15
    • FujiFilm Electronic Materials USA, Inc.
    • DORY, ThomasDU, BingTAKAHASHI, TomonoriKNEER, Emil A.
    • C11D7/60
    • This disclosure relates to a cleaning composition that contains 1) at least one chelating agent, the chelating agent being a polyaminopolycarboxylic acid; 2) at least one organic solvent selected from the group consisting of water soluble alcohols, water soluble ketones, water soluble esters, and water soluble ethers; 3) at least one monocarboxylic acid containing a primary or secondary amino group and at least one additional basic group containing nitrogen; 4) at least one metal corrosion inhibitor, the metal corrosion inhibitor being a substituted or unsubstituted benzotriazole; and 5) water. This disclosure also relates to a method of using the above composition for cleaning a semiconductor substrate.
    • 本公开涉及一种清洁组合物,其包含1)至少一种螯合剂,所述螯合剂是聚氨基多羧酸; 2)至少一种选自水溶性醇,水溶性酮,水溶性酯和水溶性醚的有机溶剂; 3)至少一种含有伯或仲氨基的单羧酸和至少一个含氮的另外的碱性基团; 4)至少一种金属腐蚀抑制剂,金属缓蚀剂为取代或未取代的苯并三唑; 和5)水。 本公开还涉及使用上述组合物来清洁半导体衬底的方法。