会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 72. 发明公开
    • High current MOS transistor integrated bridge structure optimising conduction power losses
    • Hochstrom-MOS晶体管enthaltende integrierteBrückenstrukturmit optimiertenÜbertragungsleistungsverlusten。
    • EP0544047A1
    • 1993-06-02
    • EP91830512.9
    • 1991-11-25
    • SGS-THOMSON MICROELECTRONICS S.r.l.CONSORZIO PER LA RICERCA SULLA MICROELETTRONICA NEL MEZZOGIORNO
    • Paparo, MarioAiello, Natale
    • H01L27/088H01L21/76
    • H02M7/219H01L21/761H01L27/088H02M2007/2195Y02B70/1408
    • The structure comprises at least arms (1, 2) each formed from a first and a second MOS transistor (M3, M1; M4, M2). Its integrated monolithic construction provides for a type N++ substrate (3) forming a positive potential output terminal (K1) which is overlaid by a type N-epitaxial layer (4). For each of the first transistors (M3; M4) this comprises a type P, P+ insulating region (13, 25; 14, 26) containing a type N+ enriched drain region (15; 16), a type N drain region (19; 20) and, in succession, a type P body region (21; 22) and a pair of type N+ source regions (23; 24) forming a negative potential output terminal (A1) respectively. For each of the second transistors (M1, M2) the structure comprises a type N+ enriched drain region (5, 6) containing a type N drain region (31, 32) and in succession a type P body region (9; 10) and a pair of type N+ regions (11; 12) forming corresponding alternating current inputs (A3, A4) respectively.
    • 该结构至少包括由第一和第二MOS晶体管(M3,M1; M4,M2)形成的臂(1,2)。 其集成的单片结构提供了形成由N型外延层(4)覆盖的正电位输出端子(K1)的N + +衬底(3)。 对于第一晶体管(M3; M4)中的每一个,其包括包含富含N +型漏极区(15; 16)的类型P,P +绝缘区(13,25; 14,26),N型漏极区(19; 20),并且分别连接形成负电位输出端子(A1)的P型体区域(21; 22)和一对N +源极区域(23; 24)。 对于每个第二晶体管(M1,M2),该结构包括含有N型漏极区域(31,32)的N + +型漏极区域(5,6),并且连续地包含P型体区域(9; 10)和 分别形成相应的交流电输入(A3,A4)的一对N +型区域(11; 12)。
    • 80. 发明公开
    • Halbleiternetzteil
    • 安森美半导体电源
    • EP2645559A3
    • 2017-05-10
    • EP12000376.9
    • 2012-01-20
    • Aizo AGAizo Group AG
    • Bröckmann, EckardDeckers, VolkerHofmann, RalfKemmler, Wolfgang
    • H02M7/217H02M7/12H02M7/219
    • H02M7/217H02M7/125H02M7/2176H02M2007/2195Y02B70/1408
    • Die Erfindung betrifft eine Elektronische Schaltung zur Versorgung von weiteren elektronischen Schaltungen welche zwischen Eingangsseite und Ausgangsseite eine Schaltung umfasst unter einem Zusammenwirken, von einer Ladekapazität (CLoad) mindestens einem Transistor (TLoad), eine Stromquelle (CM), einer Steuerungsschaltung (201, 202, 203), Vorwiderständen, Dioden, wobei zur Vermeidung mechanischer Bauelemente zwischen dem in Basisschaltung betriebenen Transistor (TLoad) und der Eingangsspannung eine Diode D 1 angeordnet ist und wobei die Sourceseite des Transistors (TLoad) mit der Stromquelle CM verbunden ist und die Stromquelle mit der Ladekapazität CLoad verbunden ist, und wobei an der Ladekapazität (CLoad) eine geregelte Spannung bereitgestellt wird und wobei die Steuerschaltung die Stromquelle CM mit Regelinformationen versorgt und wobei diese Stromquelle CM, wenn die geregelte Spannung an der Ladekapazität CLoad einen oberen Schwellwert überschreitet, diese Ladekapazität CLoad zusammen mit dem Transistor (TLoad) mit Hilfe der Steuerschaltung ST1 abregelt, und wenn diese geregelte Spannung an der Ladekapazität CLoad eine untere Schwelle unterschreitet, die Ladekapazität CLoad auflädt.
    • 本发明涉及一种用于设置在电路的输入侧和输出侧之间的进一步的电子电路的供电的电子电路包括至少一个共同的操作,负载能力(CLOAD)的一个晶体管(t加载),电流源(CM),控制电路(201,202, 203)中,串联电阻器,二极管,(为避免输入电压从动基部晶体管t加载之间的机械部件)和一个二极管d 1,并且其中所述晶体管(t加载的源极侧)被连接到电流源CM,并与电源 装载容量CLOAD连接,并且其中,在所述充电容量(CLOAD),经调节的电压提供,并且其中所述控制电路中,电流源CM的控制信息供给所述电流源当在负载电容C负载调节电压超过CM上阈值时,该充电容量CLO 广告进入动作一起由控制电路ST1手段的晶体管(t加载),并且如果在充电电容器CLOAD此调节后的电压下降到低于下阈值时,充电容量充电CLOAD。