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    • 80. 发明公开
    • Quarzglaskörper für ein optisches Bauteil und Verfahren zu seiner Herstellung
    • 用于光学元件的石英玻璃体及其制造方法
    • EP1101741A3
    • 2001-10-31
    • EP00123504.3
    • 2000-10-27
    • Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG
    • Uebbing, Bruno, Dr.Vydra, Jan, Dr.
    • C03C3/06C03B19/14C03C4/00
    • C03C4/0085C03B19/1453C03B2201/03C03B2201/04C03B2201/075C03C3/06C03C2201/06C03C2201/08C03C2201/23C03C2203/40Y10S65/08Y10S65/16Y10S501/905
    • Die Erfindung betrifft einen Quarzglaskörper für ein optisches Bauteil für die Übertragung ultravioletter Strahlung einer Wellenlänge von 250 nm und kürzer, insbesondere für eine Wellenlänge von 157 nm, sowie ein Verfahren zur Herstellung des Quarzglaskörpers, wobei feine Quarzglasteilchen durch Flammenhydrolyse einer Siliziumverbindung gebildet, abgeschieden und verglast werden. Die Eignung eines Quarzglases im Sinne hoher Grundtransmission und Strahlenbeständigkeit hängt von seinen strukturellen Eigenschaften, die durch lokale Stöchiometrieabweichungen verursacht sind, und von seiner chemischen Zusammensetzung ab. Der erfindungsgemäße Quarzglaskörper zeichnet sich durch eine uniforme (relative Änderung der Grundtransmission ≤ 1%) Grundtransmission im Wellenlängenbereich zwischen 155 nm und 250 nm (Durchstrahlungslänge 10 mm) von mindestens 80 %, geringem OH-Gehalt (kleiner 10 Gew.-ppm) und eine im wesentlichen von Sauerstoffdefektstellen freie Glasstruktur aus. Ein derartiger Quarzglaskörper wird mit einem Verfahren hergestellt, das den volumenmäßigen Einbau von Sauerstoff oder Wasserstoff in das Glasnetzwerk ermöglicht, indem der noch vor dem Verglasen eine Heißbehandlung in mindestens 2 Teilschritten im Temperaturbereich von 850°C bis 1600°Cerfolgt, wobei der letzte Teilschritt eine Sinterung in einem Temperaturbereich zwischen 1300°C und 1600 °C unter einer Atmosphäre, die Wasserstoff oder Sauerstoff oder eine Kombination dieser Stoffe als nicht zündfähiges Gemisch enthält, umfasst.
    • 本发明涉及一种石英玻璃体的光学部件,用于发送为250nm和更短的波长的紫外辐射,特别是对于157纳米的波长,并且用于制造石英玻璃体,其特征在于,石英玻璃的微粒形成的,沉积并通过硅化合物的火焰水解玻璃化的方法 是。 在高的基站传输和耐辐射性的意义上的石英玻璃的适用性取决于由本地Stöchiometrieabweichungen引起的,其化学成分及其结构特性。 根据本发明的石英玻璃体的特征在于均匀的(在基本传输相对变化≤1%)在155纳米和250纳米(传输长度10mm)的至少80%,低OH含量(小于10重量ppm)之间的波长范围基本透射和 基本上不含氧缺陷位点的玻璃结构。 这样的石英玻璃体由一种能够在玻璃网络中的氧气或氢气的体积掺入由釜之前的温度范围内的850℃内至少2个分步骤至玻璃化的热处理至1600℃Cerfolgt,最后一个子步骤中的制备 烧结包括:在1300℃和1600℃之间的温度范围内含有氢或氧或作为包含非可燃混合物,这些物质的组合的气氛下进行。