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11. 发明公开

EP1223172A3 Verfahren zur Herstellung von reinem Triethylendiamin (TEDA) 有权
标题翻译：维他命Zur Herstellung von reinem Triethylendiamin（TEDA）
公开(公告)号：EP1223172A3
公开(公告)日：2002-07-24
申请号：EP01129790.0
申请日：2001-12-14
申请人： BASF AKTIENGESELLSCHAFT
发明人： Lang, Ortmund , Rumpf, Bernd, Dr. , Frauenkron, Matthias, Dr. , Funhoff, Dirk, Dr. , Manderbach, Thomas, Dr. , Stein, Bernd, Dr.
IPC分类号： C07D487/08
CPC分类号： C07D487/08
摘要： Herstellung von reinem Triethylendiamin (TEDA), wobei man TEDA aus einer Mischung enthaltend ein Lösungs- oder Verdünnungsmittel, wobei das Lösungs- oder Verdünnungsmittel bei Normaldruck einen Siedepunkt im Bereich von 175 bis 250 °C aufweist, verdampft, das dampfförmige TEDA in ein flüssiges Lösungsmittel einleitet und anschließend das TEDA aus der so erhaltenen Lösung auskristallisiert.
摘要翻译：本发明涉及通过从包含溶剂或稀释剂的混合物中蒸发TEDA来制备纯三亚乙基二胺（TEDA），其中溶剂或稀释剂的沸点在大气压下为175-250℃，通过蒸气将TEDA形成液体溶剂，随后将TEDA从所得溶液中结晶。

12. 发明授权

EP0762206B1 Positivarbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefstrukturen 失效
标题翻译：用于生产浮雕结构的正性工作的辐射敏感混合物和过程
公开(公告)号：EP0762206B1
公开(公告)日：2002-01-30
申请号：EP96114059.7
申请日：1996-09-03
申请人： BASF AKTIENGESELLSCHAFT
发明人： Schwalm, Reinhold, Dr. , Funhoff, Dirk, Dr. , Binder, Horst
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039
CPC分类号： G03F7/039 , G03F7/0045 , Y10S430/106

13. 发明授权

EP0520265B1 Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch mit Disulfonsäurespendern 失效
标题翻译：与Disulfonsäurespendern的正型辐射敏感混合物
公开(公告)号：EP0520265B1
公开(公告)日：1999-11-17
申请号：EP92109980.0
申请日：1992-06-13
申请人： BASF Aktiengesellschaft
发明人： Schwalm, Reinhold, Dr. , Binder, Horst , Funhoff, Dirk, Dr. , Roser, Joachim, Dr. , Funhoff, Angelika, Dr.
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/039

14. 发明授权

EP0540965B1 Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern 失效
标题翻译：用于制造浮雕图案的正型辐射敏感混合物和过程
公开(公告)号：EP0540965B1
公开(公告)日：1999-06-09
申请号：EP92118250.7
申请日：1992-10-24
申请人： BASF Aktiengesellschaft
发明人： Binder, Horst , Schwalm, Reinhold, Dr. , Funhoff, Dirk, Dr.
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0045 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/122

15. 发明公开

EP0762207A3 Positivarbeitendes strahlenempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefstrukturen 失效
标题翻译：用于生产浮雕结构的正性工作的辐射敏感混合物和过程
公开(公告)号：EP0762207A3
公开(公告)日：1997-06-25
申请号：EP96114061.3
申请日：1996-09-03
申请人： BASF AKTIENGESELLSCHAFT
发明人： Schwalm, Reinhold, Dr. , Funhoff, Dirk, Dr. , Binder, Horst
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/039 , Y10S430/106 , Y10S430/111
摘要： Die Erfindung betrifft ein positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch, das im wesentlichen besteht aus
(a 1 ) mindestens einem säurelabile Gruppierungen enthaltenden, in Wasser unlöslichen, organischen polymeren Bindemittel, das durch Einwirkung von Säure in wäßrig-alkalischen Lösungen löslich wird, oder
(a 2.1 ) einem in Wasser unlöslichen, in wäßrig-alkalischen Lösungen löslichen polymeren Bindemittel und (a 2.2 ) einer niedermolekularen organischen Verbindung, deren Löslichkeit in einem wäßrig-alkalischen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird, (b) mindestens einer organischen Verbindung, welche unter Einwirkung von aktinischer Strahlung eine Säure erzeugt, sowie gegebenenfalls (c) einer oder mehreren weiteren von (b) verschiedenen organischen Verbindungen, wobei mindestens eine der Komponenten (a 1 ), (a 2.1 ), (a 2.2 ), (b) und (c) eine Gruppierung der allgemeinen Formel (I) -O ⊖ N ⊕ R 4 gebunden enthält, oder Komponente (c) der Formel (II)
entspricht. Das strahlungsempfindliche Gemisch eignet sich zur Herstellung von Reliefstrukturen.

16. 发明公开

EP0467177A1 Mit Carbonylamino-N-alkancarbonsäure-Gruppen substituierte Vinylaromaten und ihre Verwendung 失效
标题翻译： Mit羰基氨基-N-烷烃羰基取代基Vinylaromaten und ihre Verwendung。
公开(公告)号：EP0467177A1
公开(公告)日：1992-01-22
申请号：EP91111279.5
申请日：1991-07-06
申请人： BASF Aktiengesellschaft
发明人： Funhoff, Dirk, Dr. , Roser, Joachim, Dr. , Schulz, Guenther, Dr.
IPC分类号： C07C233/83 , G03F7/039
CPC分类号： C07D257/04 , C07C233/83 , C07C233/87 , C07C237/22 , C07C279/14 , C07C323/59 , C07D207/16 , C07D209/20 , C07D209/88 , C07D333/38 , C08F12/26 , G03F7/021
摘要： Die neuen, mit Carbonylamino-N-alkancarbonsäure-Gruppen substituierten Vinylaromaten der allgemeinen Formel I

worin der Index und die Variablen die in den Ansprüchen und in der Beschreibung näher erläuterte Bedeutung haben, können in der Reprographie verwendet werden. Vorzugsweise dienen sie der Herstellung neuer, mit Carbonylamino-N-alkancarbonsäure-Gruppen substituierter Vinylaromat-(Co)-Polymerisate, welche für die Herstellung lichtempfindlicher Aufzeichnungsschichten (B) von lichtempfindlichen Aufzeichnungselementen verwendet werden können. Die neuen lichtempfindlichen Aufzeichnungselemente, deren neue lichtempfindliche Aufzeichnungsschichten (B) diese neuen Vinylaromat-(Co)Polymerisate enthalten oder hieraus bestehen, liefern durch bildmäßiges Belichten mit aktinischem Licht und Auswaschen (Entwickeln) mit wäßrig-alkalischen Entwicklerlösungsmitteln alkaliresistente Druckplatten und Photoresiste. Darüber hinaus eignen sich die neuen lichtempfindlichen Aufzeichnungselemente noch für die Herstellung positiver Abbildungen von Negativvorlagen.
摘要翻译：由羰基氨基-N-链烷羧酸基团和通式I 取代的新型乙烯基芳烃，其中索引和变量具有权利要求和说明书中详细解释的含义，可用于复制。它们优选用于制备被羰基氨基-N-烷烃羧酸基团取代并可用于制备光敏记录元件的光敏记录层（B）的新型乙烯基芳族（共）聚合物。新型感光记录层（B）含有这些新型乙烯基芳族（共）聚合物或其组成的新型感光记录元件，当用光化学光照成像曝光并用含水碱性显影剂洗涤（显影）时，得到耐碱印刷板和光致抗蚀剂。新颖的光敏记录元件也适用于产生负像的正像。

17. 发明公开

EP0762206A3 Positivarbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefstrukturen 失效
标题翻译：用于生产浮雕结构的正性工作的辐射敏感混合物和过程
公开(公告)号：EP0762206A3
公开(公告)日：1997-06-25
申请号：EP96114059.7
申请日：1996-09-03
申请人： BASF AKTIENGESELLSCHAFT
发明人： Schwalm, Reinhold, Dr. , Funhoff, Dirk, Dr. , Binder, Horst
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039
CPC分类号： G03F7/039 , G03F7/0045 , Y10S430/106
摘要： Die Erfindung betrifft ein positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch im wesentlichen bestehend aus
(a) mindestens einem säurelabile Gruppierungen enthaltenden Polymeren, das in Wasser unlöslich, durch Einwirkung von Säure in wäßrig-alkalischen Lösungen löslich wird, (b) mindestens einer organischen Verbindung, welche unter Einwirkung von aktinischer Strahlung eine Säure erzeugt, sowie (c) mindestens einer weiteren von (b) verschiedenen organischen Verbindung, wobei
das Polymere (a) Einheiten der Formeln (I), (II) und (III)
eingebaut enthält,
und die organische Verbindung (b) ein Sulfoniumsalz der Formel (IV) ist. Das strahlungsempfindliche Gemisch eignet sich zur Herstellung von Reliefstrukturen mit verbessertem Kontrast.

18. 发明公开

EP0762207A2 Positivarbeitendes strahlenempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefstrukturen 失效
标题翻译： Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefstrukturen
公开(公告)号：EP0762207A2
公开(公告)日：1997-03-12
申请号：EP96114061.3
申请日：1996-09-03
申请人： BASF AKTIENGESELLSCHAFT
发明人： Schwalm, Reinhold, Dr. , Funhoff, Dirk, Dr. , Binder, Horst
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/039 , Y10S430/106 , Y10S430/111
摘要： Die Erfindung betrifft ein positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch, das im wesentlichen besteht aus

(a 1 ) mindestens einem säurelabile Gruppierungen enthaltenden, in Wasser unlöslichen, organischen polymeren Bindemittel, das durch Einwirkung von Säure in wäßrig-alkalischen Lösungen löslich wird, oder

(a 2.1 ) einem in Wasser unlöslichen, in wäßrig-alkalischen Lösungen löslichen polymeren Bindemittel und
(a 2.2 ) einer niedermolekularen organischen Verbindung, deren Löslichkeit in einem wäßrig-alkalischen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird,

(b) mindestens einer organischen Verbindung, welche unter Einwirkung von aktinischer Strahlung eine Säure erzeugt, sowie gegebenenfalls
(c) einer oder mehreren weiteren von (b) verschiedenen organischen Verbindungen,
wobei mindestens eine der Komponenten (a 1 ), (a 2.1 ), (a 2.2 ), (b) und (c) eine Gruppierung der allgemeinen Formel (I) -O ⊖ N ⊕ R 4 gebunden enthält, oder Komponente (c) der Formel (II)
entspricht.
Das strahlungsempfindliche Gemisch eignet sich zur Herstellung von Reliefstrukturen.
摘要翻译：正面工作的辐射敏感混合物。是基于（a）（a-1）水不溶物。具有酸不稳定gps的有机聚合物粘合剂，使其溶于水溶液。碱性溶胶通过酸或（a-2.1）的水溶性作用。聚合物粘合剂，其可溶于水溶液。碱性溶胶和（a-2.2）低摩尔。有机cpd，其在水溶液中更易溶解。碱性显影剂通过酸的作用; （b）有机光酸; 并选择。（c）有机cpd。（b）以外。（a-1），（a-2.1），（a-2.2），（b）和（c）中的至少一个含有gp。式（Ⅳ）化合物其中R 1（ⅰ）或（c）具有式-O-CO-Ä（CH2-n-CH2-N + R3（Ⅱ）），其中R = -6 C烷基; n = 1-6。

19. 发明公开

EP0637899A1 Elektrolumineszierende Anordnung 失效转让
标题翻译： Elektrolumineszierende Anordnung。
公开(公告)号：EP0637899A1
公开(公告)日：1995-02-08
申请号：EP94111826.7
申请日：1994-07-29
申请人： BASF Aktiengesellschaft
发明人： Funhoff, Dirk, Dr. , Siemensmeyer, Karl, Dr. , Häussling, Lukas, Dr. , Etzbach, Karl-Heinz, Dr. , Haarer, Dietrich, Prof. Dr. , Simmerer, Juergen
IPC分类号： H05B33/14 , H05B33/10
CPC分类号： H05B33/14 , H01L51/004 , H01L51/005 , H01L51/0053 , H01L51/0059 , H01L51/0062 , H01L51/007 , H01L51/0078 , H01L51/50 , H05B33/10 , Y10S428/917
摘要： Die Erfindung betrifft eine elektrolumineszierende Anordnung, enthaltend eine oder mehrere organische Schichten, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens eine der Schichten durch thermische oder strahlungsinduzierte Vernetzung erhalten wird und daß pro Schicht mindestens eine ladungstransportierende Verbindung enthalten ist. Die erfindungsgemäßen Anordnungen eignen sich z.B. sehr gut zur Herstellung von Displays.
摘要翻译：本发明涉及一种电致发光装置，其包括一个或多个有机层，其特征在于，通过热或辐射诱导的交联获得至少一个层，并且每层包含至少一个电荷传输连接（化合物）。根据本发明的装置例如非常适合于生产显示器。

20. 发明公开

EP0540965A1 Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern 失效
标题翻译：正性工作的辐射敏感混合物及其生产方法浮雕图案。
公开(公告)号：EP0540965A1
公开(公告)日：1993-05-12
申请号：EP92118250.7
申请日：1992-10-24
申请人： BASF Aktiengesellschaft
发明人： Binder, Horst , Schwalm, Reinhold, Dr. , Funhoff, Dirk, Dr.
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0045 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/122
摘要： Die Erfindung betrifft ein positiv arbeitendes UV - strahlungsempfindliches Gemisch, enthaltend

(a1) ein säurelabile Ether-, Ester- oder Carbonatgruppen enthaltendes organisches Bindemittel, oder
(a2) ein in Wasser unlösliches, in wäßrig - alkalischen Lösungen lösliches polymeres Bindemittel und

(a2.1) eine organische Verbindung, deren Löslichkeit in einem wäßrigalkalischen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird, oder
(a2.2) eine organische Verbindung, deren Löslichkeit in einem wäßrigalkalischen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird und die mindestens eine durch Säure spaltbare Gruppierung sowie zusätzlich eine Gruppierung, die unter Einwirkung von Strahlung eine Säure bildet, enthält oder ein Gemisch der organischen Verbindungen (a2.1) und (a2.2) und

(b) einen Arylsulfonsäureester.

Dieses strahlungsempfindliche Gemisch eignet sich zur Herstellung von Reliefmustern.
摘要翻译：本发明涉及一种正UV辐射敏感的组合物的有机粘合剂含有酸不稳定醚，酯或碳酸酯基团，或（a2）的水不溶性聚合粘合剂可溶于碱性溶液和wässrige（A2.1）的含有（a1）的有机化合物由酸，或（A2.2）到有机化合物由酸的影响增加，且其含有至少一个基团可裂解通过在谁的碱性显影剂到wässrige溶解度的影响增加谁的在碱性显影剂中以wässrige溶解度酸和另外一组辐射的影响，或有机化合物（A2.1）和（A2.2）和b），以芳基磺酸酯的混合物在酸的形式。该辐射敏感性组合物是适合于形成浮雕图案。

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