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    • 93. 发明公开
    • X-RAY DIFFRACTION MICROSCOPE AND X-RAY DIFFRACTION MEASUREMENT METHOD USING X-RAY DIFFRACTION MICROSCOPE
    • 自行车
    • EP1672361A1
    • 2006-06-21
    • EP04773156.7
    • 2004-09-09
    • National Institute for Materials Science
    • SAKURAI, KenjiMIZUSAWA, Tazuko
    • G01N23/207G21K7/00
    • G01N23/207G01N23/20G21K7/00
    • An X-ray diffraction microscope apparatus (1) has an X-ray generating apparatus (2), a sample stage (3), a collimator (4) serving to suppress angle divergence, a two-dimensional X-ray detector (5) having an energy resolving power, an image processing apparatus, and an image recording and displaying apparatus (6). An angle divergence of diffracted X-rays is suppressed by moving a sample (7) and the two-dimensional X-ray detector (5) as close as possible via the collimator (4). The diffracted X-rays are measured and imaged in a state in which the two-dimensional X-ray detector (5) and the sample stage (3) are at a standstill without being moved. Accordingly, it is possible to provide an X-ray diffraction microscope apparatus which can acquire an image in an extremely short time, and can image a difference of an inhomogeneous sample, a material in which different crystal structures exist in one sample or a sample in which textures having different directions are contained and an X-ray diffraction measuring method using the X-ray diffraction microscope apparatus.
    • X射线衍射显微镜装置(1)具有X射线产生装置(2),样品台(3),用于抑制角度发散的准直器(4),二维X射线检测器(5) 具有能量分辨能力,图像处理装置和图像记录和显示装置(6)。 通过准直器(4)将样品(7)和二维X射线检测器(5)尽可能靠近移动来抑制衍射X射线的角度发散。 在二维X射线检测器(5)和样品台(3)处于静止状态而不被移动的状态下,测量并成像衍射的X射线。 因此,可以提供能够在极短时间内获取图像的X射线衍射显微镜装置,并且可以对不均匀样品,在一个样品或样品中存在不同晶体结构的材料进行成像 包含具有不同方向的纹理和使用X射线衍射显微镜装置的X射线衍射测量方法。
    • 94. 发明公开
    • Vorrichtung und Verfahren zur Röntgenanalyse mit zweidimensionalem Array-Detektor
    • Vorrichtung und Verfahren zurRöntgenanalysemit zweidimensionalem Array-Detektor
    • EP1598663A2
    • 2005-11-23
    • EP05009958.9
    • 2005-05-06
    • Bruker AXS GmbH
    • Gerndt, Ekkehard, Dr.Jacob, Michael
    • G01N23/207
    • G01N23/207
    • Ein Verfahren zum Betrieb eines Röntgenanalysegerätes mit einer Quelle (17) für Röntgenstrahlung, einem zu untersuchenden Objekt (19), das mit der Röntgenstrahlung beleuchtet wird, und einem flächigen zweidimensionalen Array-Detektor mit Pixel-Elementen (7) zum ortsaufgelösten Nachweis der von dem Objekt (19) ausgehenden Röntgenstrahlung, wodurch ein Datensatz, insbesondere in Form eines digitalisierten Diffraktogramms und/oder Spektrums erhalten wird, ist durch folgende Schritte gekennzeichnet:

      (a) Aufnahme eines ersten Datensatzes (11) in einer ersten relativen räumlichen Position (P1) von Quelle (17), Objekt (19) und Detektor;
      (b) Verschieben und/oder Drehen des Detektors in der Detektorfläche relativ zu Quelle (17) und Objekt (19), wobei die relative Position von Quelle (17) und Objekt (19) nicht verändert wird;
      (c) Aufnahme eines zweiten Datensatzes (11) in der nach Schritt (b) verschobenen Position (P2);
      (d) Überlagern der aufgenommenen Datensätze (11) zu einem Gesamtdatensatz (13), wobei die Pixel der aufgenommenen Datensätze entsprechend ihrer tatsächlichen relativen Position zu Quelle (17) und Objekt (19) kombiniert werden.

      Das erfindungsgemäßen Verfahren beziehungsweise das erfindungsgemäße Röntgenanalysegerät mit Mitteln zum Durchführen dieses Verfahrens ermöglicht auf einfache Weise eine Verringerung der aufgrund von schadhaften oder mit 0 gewichteten Pixel-Elementen entstehenden toten Pixel im Datensatz. Ebenso können bei der Verwendung von aus mehreren Sensorchips zusammengesetzten Einzeletektoren störende Einflüsse der Randbereiche bei der Erstellung von Datensätzen vermieden werden. Darüber hinaus ergibt sich ein vergrößerter Aufnahmebereich und bei geeigneter Wahl der Verschiebung der Sensorchips eine verbesserte Ortsauflösung der Messung.
    • 用于使用具有X射线源(17)和具有像素元件(7)的平坦二维阵列检测器来操作X射线分析机的过程包括获得第一数据集,其中被检查物体在相对于 物体和检测器。 然后检测器相对于源移动,并且获得第二数据集。 然后使用两个数据集来获得公共数据集并且组合像素。
    • 99. 发明公开
    • Analyser system having sample exchanger
    • 分析仪自动进样器
    • EP1073092A3
    • 2004-04-07
    • EP00114140.7
    • 2000-07-11
    • Rigaku Industrial Corporation
    • Sumii, KoushiKasai, Kiyotaka
    • G01N35/00
    • G01N23/207
    • In an analyzer system having a sample exchanger, being easy in handling of samples, comprising an analyzer apparatus (51) for analyzing a sample (S); a sample table (2) for holding a plurality of the samples thereon; and a transfer means (3) for taking out the sample (S) from the sample table (2) into the analyzer apparatus (51), wherein the sample table (2) comprises: a base (21), and a tray (24) for holding the sampels thereon, being supported so that it can be pulled out in a front direction (F) of the base (21). With this, it is possible for an operator to handle the sample (S) easily, in particular the samples (S) which are located in deep on the sample table (2) so that there is difficulty to handle them, by pulling out the tray (24) in the front direction (F) from the base (21), without necessity of standing up, for example, while sitting on a chair. Also, it is possible to separate the tray (24) from the base (21) so as to carry it in a front of a computer (53) as the controller of the analyzer apparatus (51), thereby enabling to input ID data relating to the samples (S) while mounting or installing the samples (S) onto the tray (24), so as to prevent from erroneous inputting thereof.
    • 100. 发明公开
    • Stress measurement method using x-ray diffraction analysis
    • Verfahren zur Messung机械师Spannungen手套Röntgenbeugungsanalyse
    • EP1394533A2
    • 2004-03-03
    • EP03019383.3
    • 2003-08-27
    • Rigaku Corporation
    • Yokoyama, RyouichiEndo, Kamihisa
    • G01N23/20G01L1/25G01B15/06
    • G01N23/207H01L21/31691
    • A stress of a c-axis-oriented specimen (10) of a tetragonal polycrystal is measured using X-ray diffraction under the assumption of a plane stress state. An X-ray optical system is set in the location of φ = 0°, 45° or 90°. An X-ray (16) diffracted at a crystal plane (the direction of the normal thereto is the direction of an angle of ψ) with the Miller indices (hk1) is detected. A diffraction angle θ in a strain state is measured in the vicinity of a Bragg's angle θ 0 in a non-strain state. Strains s with respect to a plurality of ψ are calculated from the difference between the measurement values θ and the Bragg's angle θ 0 . Specific stress calculation formulae are determined with respect to the tetragonal system having the Laue symmetry 4/mmm. The stress is calculated from the slope of the linear line of plotted measurement results.
    • 在假设平面应力状态下,使用X射线衍射测量四方晶体的c轴取向试样(10)的应力。 X射线光学系统设置在phi = 0°,45°或90°的位置。 检测在米勒指数(hk1)处在晶面(法线方向为角度方向)的衍射的X射线(16)。 衍射角&thetas; 在非应变状态下在布拉格角度θ附近测量应变状态。 相对于多个psi的菌株根据测量值和差异之间的差计算; 和布拉格的角度和角度; 0。 相对于具有Laue对称性4 / mmm的四方系统确定比应力计算公式。 应力由绘制的测量结果的线性斜率计算。