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1. 发明授权

US06324255B1 X-ray irradiation apparatus and x-ray exposure apparatus 有权
标题翻译： X射线照射装置和X射线曝光装置
公开(公告)号：US06324255B1
公开(公告)日：2001-11-27
申请号：US09372596
申请日：1999-08-12
申请人： Hiroyuki Kondo , Noriaki Kandaka
发明人： Hiroyuki Kondo , Noriaki Kandaka
IPC分类号： H05G200
CPC分类号： H05G2/003 , B82Y10/00 , G03F7/70033 , G03F7/7085 , H05G2/008
摘要： An x-ray irradiation apparatus and x-ray exposure apparatus provide improved x-ray generation. The x-ray irradiation apparatus includes a target material feed-out device to provide a target material in a feed-out direction to a specified target position and a laser to provide laser light to the specified target position to cause the target material to emit x-rays. In some configurations, an x-ray generation position control device may be used to determine and control a position of x-ray generation, a rotary mechanism may be operatively connected to the target material feed-out device to axially rotate the target material feed-out device about the feed-out direction, and/or a target feed-out control device may be used to detect and control the position of the target material feed-out device.
摘要翻译： X射线照射装置和X射线曝光装置提供改善的x射线产生。 X射线照射装置包括：目标材料送出装置，用于在指定目标位置的送出方向上提供目标材料;以及激光器，用于向指定的目标位置提供激光以使靶材料发射x 数字在一些配置中，可以使用x射线产生位置控制装置来确定和控制X射线产生的位置，旋转机构可以可操作地连接到目标材料送出装置以轴向旋转靶材料馈送装置，可以使用关于送出方向的出料装置和/或目标送出控制装置来检测和控制目标材料送出装置的位置。

2. 发明授权

US06714624B2 Discharge source with gas curtain for protecting optics from particles 有权
标题翻译：带气幕的放电源用于保护光学元件免受颗粒污染
公开(公告)号：US06714624B2
公开(公告)日：2004-03-30
申请号：US09956275
申请日：2001-09-18
申请人： Neal R. Fornaciari , Michael P. Kanouff
发明人： Neal R. Fornaciari , Michael P. Kanouff
IPC分类号： H05G200
CPC分类号： H05G2/003 , B82Y10/00 , G03F7/70033 , G03F7/70908 , H05G2/005
摘要： A gas curtain device is employed to deflect debris that is generated by an extreme ultraviolet and soft x-ray radiation discharge source such as an electric discharge plasma source. The gas curtain device projects a stream of gas over the path of the radiation to deflect debris particles into a direction that is different from that of the path of the radiation. The gas curtain can be employed to prevent debris accumulation on the optics used in photolithography.
摘要翻译：气幕装置用于偏转由诸如放电等离子体源的极紫外和软X射线放射源产生的碎片。气幕装置在辐射路径上投射气流以使碎片颗粒偏转到与辐射路径不同的方向。可以使用气幕来防止在光刻中使用的光学器件上的碎片积聚。

3. 发明授权

US06275565B1 Laser plasma light source and method of generating radiation using the same 失效
标题翻译：激光等离子体光源和使用其产生辐射的方法
公开(公告)号：US06275565B1
公开(公告)日：2001-08-14
申请号：US09700720
申请日：2000-11-28
申请人： Toshihisa Tomie
发明人： Toshihisa Tomie
IPC分类号： H05G200
CPC分类号： H05G2/001
摘要： A solid target (11) is formed with a cavity (12). The inner wall of the solid target at the cavity is ablated by ablation pulsed laser beams (13). The solid target is left standing until a highly densified portion (15) of a vaporized substance (14) is formed in the space within the cavity (14), and the highly densified portion (15) is then irradiated with heating pulsed laser beams (17), thereby forming high-temperature plasma (18) for generating radiation rays (19). As a result, good-quality radiation rays accompanied by a minimal amount of debris can be generated.
摘要翻译：固体靶（11）形成有空腔（12）。通过消融脉冲激光束（13）消除腔体处的固体靶的内壁。将固体靶留置直到在空腔（14）内的空间中形成蒸发物质（14）的高度致密部分（15），然后用加热的脉冲激光束（15）照射高致密部分（15） 17），从而形成用于产生辐射线（19）的高温等离子体（18）。因此，可以产生伴随有最少量碎片的优质辐射线。

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