专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明公开

CN105829116A 零部件制造方法、零部件制造装置和零部件无效
公开(公告)号：CN105829116A
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：CN201480069665.6
申请日：2014-12-22
申请人：阪本顺
发明人：阪本行
IPC分类号： B41M1/40 , B41F17/14 , B41F17/34 , B41M1/34
CPC分类号： B41N1/16 , B41C1/06 , B41F7/04 , B41F17/18 , B41F17/22 , B41F17/26 , B41M1/06 , B41M1/10 , B41M1/34 , B41M1/40 , B41N10/00
摘要：零部件制造方法是通过将油墨(I)转印到被转印体(17)上来基于被转印体(17)制造出零部件(19)的方法。零部件制造方法包含工序(S1)和工序(S3)。工序(S1)中，将油墨(I)从印刷版(3)上转移到转印体(5)上。工序(S3)中，将转印体(5)压抵到被转印体(17)上来由弹性变形了的转印体(5)覆盖被转印体(17)的侧面(E)。转印体(5)含有弹性体。在印刷版(3)上形成附着油墨(I)的图案(21a)。以从图案(21a)上转移到转印体(5)上的油墨(I)覆盖被转印体(17)的侧面(E)的全部或者一部分的方式，形成图案(21a)。

2. 发明授权

CN103009854B 热转印印刷片制作装置、制作方法以及热转印印刷片失效
公开(公告)号：CN103009854B
公开(公告)日：2015-01-28
申请号：CN201210363869.3
申请日：2012-09-26
申请人：卡西欧电子工业株式会社 , 卡西欧计算机株式会社
发明人：佐野智文 , 金村俊明 , 三井乡史
IPC分类号： B41M5/382
CPC分类号： B41C1/06 , B41M3/12 , B41M5/0256 , B41M5/03 , G03G15/00
摘要：一种热转印印刷片制作装置。从供纸盒向传送带提供具有剥离性表面的剥离性片材。通过第一图像形成部，使图像的正像通过电子拍照方式在感光体上显影，并作为镜像被转印到上述剥离性片材上。通过第二图像形成部，使作为转印基材的膜形状的热塑性树脂像在感光体上显影，并重叠转印到上述剥离性片材上。接着，对上述镜像和上述膜形状的热塑性树脂像进行定影，热转印印刷片的制作完成。通过加热压力机，通过上述热塑性树脂像向衬衫等被转印介质转印上述正像，由此，能够不使用带粘着剂的剥离纸而使标签树脂本身（上述热转印印刷片）热熔融并粘合于印刷对象物。

3. 发明公开

CN103009854A 热转印印刷片制作装置、制作方法以及热转印印刷片失效
公开(公告)号：CN103009854A
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN201210363869.3
申请日：2012-09-26
申请人：卡西欧电子工业株式会社 , 卡西欧计算机株式会社
发明人：佐野智文 , 金村俊明 , 三井乡史
IPC分类号： B41M5/382
CPC分类号： B41C1/06 , B41M3/12 , B41M5/0256 , B41M5/03 , G03G15/00
摘要：一种热转印印刷片制作装置。从供纸盒向传送带提供具有剥离性表面的剥离性片材。通过第一图像形成部，使图像的正像通过电子拍照方式在感光体上显影，并作为镜像被转印到上述剥离性片材上。通过第二图像形成部，使作为转印基材的膜形状的热塑性树脂像在感光体上显影，并重叠转印到上述剥离性片材上。接着，对上述镜像和上述膜形状的热塑性树脂像进行定影，热转印印刷片的制作完成。通过加热压力机，通过上述热塑性树脂像向衬衫等被转印介质转印上述正像，由此，能够不使用带粘着剂的剥离纸而使标签树脂本身（上述热转印印刷片）热熔融并粘合于印刷对象物。

4. 发明授权

CN100354754C 聚合物薄膜图案成形方法及其应用失效
公开(公告)号：CN100354754C
公开(公告)日：2007-12-12
申请号：CN00807451.8
申请日：2000-05-12
申请人：薄膜电子有限公司
发明人： O·因加奈斯 , T·奈贝里 , T·格兰伦德
IPC分类号： G03F7/00 , B41M1/06
CPC分类号： H01L51/0023 , B41C1/06 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , H01L51/0017 , H01L51/0037
摘要：一种在材料表面形成涂层的聚合物薄膜的图案成形方法，按此法，在该表面沉积上聚合物薄膜，图案成形过程是：在该表面上加盖由弹性体材料制成的印模，达到与薄膜表面共形接触，于是薄膜与由至少1条凹痕形成的弹性体印模1个或多个凸起要素相接触的部分，便附着到这1个或多个凸起要素上，并随同印模一起从该材料表面去掉。一种将图案聚合物薄膜转移到材料表面上的方法，按此法，在印模表面上沉积聚合物薄膜，加盖该印模，达到与材料表面共形接触，使得聚合物薄膜从由弹性体印模至少1条凹痕形成的1个或多个凸起要素转移到其上，于是，当从其上拿掉印模时便在材料表面留下聚合物的图案薄膜。用于在金层上图案成形一种聚合物薄膜形式刻蚀光刻胶的应用。

5. 发明公开

CN1350659A 聚合物薄膜图案成形方法及其应用失效
公开(公告)号：CN1350659A
公开(公告)日：2002-05-22
申请号：CN00807451.8
申请日：2000-05-12
申请人：薄膜电子有限公司
发明人： O·因加奈斯 , T·奈贝里 , T·格兰伦德
IPC分类号： G03F7/00 , B41M1/06 , B81C1/00
CPC分类号： H01L51/0023 , B41C1/06 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , H01L51/0017 , H01L51/0037
摘要：一种在材料表面形成涂层的聚合物薄膜的图案成形方法,按此法,在该表面沉积上聚合物薄膜,图案成形过程是:在该表面上加盖由弹性体材料制成的印模,达到与薄膜表面共形接触,于是薄膜与由至少1条凹痕形成的弹性体印模1个或多个凸起要素相接触的部分,便附着到这1个或多个凸起要素上,并随同印模一起从该材料表面去掉。一种将图案聚合物薄膜转移到材料表面上的方法,按此法,在印模表面上沉积聚合物薄膜,加盖该印模,达到与材料表面共形接触,使得聚合物薄膜从由弹性体印模至少1条凹痕形成的1个或多个凸起要素转移到其上,于是,当从其上拿掉印模时便在材料表面留下聚合物的图案薄膜。用于在金层上图案成形一种聚合物薄膜形式刻蚀光刻胶的应用。

6. 发明公开

EP1192505A1 METHODS FOR PATTERNING POLYMER FILMS, AND USE OF THE METHODS 有权
标题翻译：方法构建聚合物层和过程中的应用
公开(公告)号：EP1192505A1
公开(公告)日：2002-04-03
申请号：EP00927984.5
申请日：2000-05-12
申请人： Thin Film Electronics ASA
发明人： INGANÄS, Olle , NYBERG, Tobias , GRANLUND, Tomas
IPC分类号： G03F7/00 , B41M1/06 , B81C1/00
CPC分类号： H01L51/0023 , B41C1/06 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , H01L51/0017 , H01L51/0037
摘要： In a method for patterning a polymer film forming a coating on a material surface, a thin film of polymer is deposited on the surface and the patterning takes place by applying to the material surface a stamp made of an elastomeric material in conformal contact with the surface of the thin film, such that portions thereof contacting one or more protruding elements of the elastomeric stamp formed by one or more indentations thereof, are attached to the protruding element or elements and removed from the material surface with the stamp. In a method for transferring a patterned polymer film onto a material surface, a thin film polymer is deposited on a stamp surface and the stamp is applied in conformal contact with the material surface, such that thin film of polymer is transferred thereto from one or more protruding elements of the elastomeric stamp formed by at least one indentation thereof, thus leaving a patterned thin film of polymer on the material surface when removing the stamp therefrom. Use for patterning an etched resist in the form of a thin film of polymer on a gold layer.

7. 发明申请

WO2015093617A1 部材製造方法、部材製造装置、及び部材审中-公开
标题翻译：用于生产会员的方法，用于生产会员的装置和会员
公开(公告)号：WO2015093617A1
公开(公告)日：2015-06-25
申请号：PCT/JP2014/083918
申请日：2014-12-22
申请人：阪本順
发明人：阪本　行
IPC分类号： B41M1/40 , B41F17/14 , B41F17/34 , B41M1/34
CPC分类号： B41N1/16 , B41C1/06 , B41F7/04 , B41F17/18 , B41F17/22 , B41F17/26 , B41M1/06 , B41M1/10 , B41M1/34 , B41M1/40 , B41N10/00
摘要：　部材製造方法は、被転写体（１７）にインク（Ｉ）を転写することにより、被転写体（１７）から部材（１９）を製造する。部材製造方法は、工程（Ｓ１）と、工程（Ｓ３）とを含む。工程（Ｓ１）では、印刷版（３）から転写体（５）へインク（Ｉ）を転移する。工程（Ｓ３）では、転写体（５）を被転写体（１７）に押し付け、弾性変形した転写体（５）によって被転写体（１７）の側面（Ｅ）を覆う。転写体（５）は弾性体を含む。印刷版（３）には、インク（Ｉ）が付着されるパターン（２１ａ）が形成される。パターン（２１ａ）は、パターン（２１ａ）から転写体（５）に転移されたインク（Ｉ）が被転写体（１７）の側面（Ｅ）の全部又は一部を覆うように形成される。
摘要翻译：用于制造构件的方法通过将墨（I）转印到转印体（17）上而从转印体（17）产生构件（19）。制造构件的方法包括步骤（S1）和步骤（S3）。在步骤（S1）中，油墨（I）从印版（3）转印到转印体（5）。在步骤（S3）中，转印体（5）被按压在转印体（17）上，转印体（17）的侧面（E）被弹性变形的转印体（5）覆盖。转印体（5）包括弹性体。在印版（3）上形成有油墨（I）附着的图案（21a）。图案（21a）形成为使得从图案（21a）转印到转印体（5）的墨（I）覆盖转印对象（17）的侧表面（E）的全部或部分。

8. 发明申请

WO2019038595A1 WIEDERBESCHREIBBARE DRUCKPLATTE 审中-公开
公开(公告)号：WO2019038595A1
公开(公告)日：2019-02-28
申请号：PCT/IB2018/001058
申请日：2018-08-19
申请人： HESCOAT GMBH
发明人： HESSE, Heiko
IPC分类号： B41N1/00 , B41N3/00 , B41C1/00 , B41C1/05 , B41C1/06 , B41C1/10 , B41C1/18
CPC分类号： B41N1/003 , A61F13/00004 , A61F2013/00217 , B08B17/02 , B29C33/64 , B41C1/003 , B41C1/02 , B41C1/05 , B41C1/06 , B41C1/1041 , B41C1/18 , B41C2210/16 , B41N1/22 , B41N3/006 , C08G77/62 , C09D183/00 , C09D183/04 , C09D183/16
摘要： Die Erfindung umfasst eine wiederbeschreibbare Druckplatte (1) umfassend einen Träger (5) und eine Beschichtung (2), wobei auf die Beschichtung die Druckfarbe (7) aufgetragen wird, und die Beschichtung visko-elastisch gelartig ist und wenigstens eine Silikonverbindung (8, 8') und zusätzlich wenigstens eine visko- elastische Silikonverbindung (9, 9') und/oder zusätzlich wenigstens ein Lösungsmittel (9, 9') enthält, sowie die Verwendung einer wiederbeschreibbaren Druckplatte, und Verfahren zur Herstellung einer solchen wiederbeschreibbaren Druckplatte, sowie ein Verfahren zur Wiederherstellung einer wiederbeschreibbaren Druckplatte.

10. 发明专利

JP2007086781A Method for thermal development of photosensitive element using development medium having support 有权
标题翻译：使用支持发展中介的感光元件热发展方法
公开(公告)号：JP2007086781A
公开(公告)日：2007-04-05
申请号：JP2006251511
申请日：2006-09-15
申请人： E I Du Pont De Nemours & Co , イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニーE.I.Du Pont De Nemours And Company
发明人： DUDEK DIETMAR , HACKLER MARK A , MCMILLEN ROBERT A , BANKE ALLAN
IPC分类号： G03F7/34 , B41C1/055 , B41N1/12 , G03F7/00 , G03F7/004
CPC分类号： B41C1/055 , B41C1/06 , G03F7/36
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for thermally developing a photosensitive element to form a relief pattern. SOLUTION: The method includes a step of heating a composition layer of the photosensitive element to cause a portion of the composition layer to liquefy, and a step of providing a development medium under tension to the photosensitive element to absorb the liquefied composition. The development medium includes an absorbent material and a support, the combination of which minimizes stretch and distortion of the absorbent material and can impede the migration of the liquefied composition through the absorbent material. COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式