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1. 发明公开

CN101195311A 印刷版、用于该印刷版的制造方法以及使用其的液晶显示装置无效
公开(公告)号：CN101195311A
公开(公告)日：2008-06-11
申请号：CN200710193326.0
申请日：2007-12-03
申请人： NEC液晶技术株式会社
发明人：安田亨宁
IPC分类号： B41N1/06 , B41N3/08 , B41C1/02 , B41C1/06 , H01L27/12 , H01L21/84 , G02F1/1335 , G02F1/1362
CPC分类号： B41N1/06 , B41C1/00 , B41C1/02 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002
摘要：本发明提供了一种用于胶版印刷的印刷版。所述印刷版包括基板和形成在所述基板上多个凹入的印刷版图案。至少一个辅助图案位于凹入的印刷版图案的至少一个的底部上，并且远离凹入的印刷版图案的侧面。因此，即使功能图案中出现多个内部空隙部分，但是其面积非常小并且每一个内部空隙部分都被隔离。

2. 发明授权

CN101808808B 微细形状转印片的制造方法和制造装置有权
公开(公告)号：CN101808808B
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：CN200880108724.0
申请日：2008-09-22
申请人：东丽株式会社
发明人：平井裕磨 , 箕浦洁 , 野村文保
IPC分类号： B41C1/06 , B29C59/02 , B29C33/38 , B29C33/42 , B29C43/02 , B29C43/36 , H01L21/027
CPC分类号： B29C33/428 , B29C35/041 , B29C37/006 , B29C43/003 , B29C43/021 , B29C43/58 , B29C59/022 , B29C2033/426 , B29C2035/1616 , B29C2043/025 , B29C2043/5808 , B29C2059/023 , B29K2101/12
摘要：本发明涉及一种微细形状转印片的制造方法，其是在压印模具与中间基材之间设置由热塑性树脂制成的片状基材、通过一对加压板加压在该片状基材上形成压印模具微细凹凸形状的制造方法，当该加压板的加压力变为最大时，该压印模具的赋形面内存在赋形压力差，并且该赋形面内存在最大赋形压力部分，而且加压使得赋形压力取极小值的部位不在赋形面内。按照本发明可以得到没有空气滞留不良且均匀高精度的转印成型状态。

3. 发明公开

CN101124089A 纳米级电子光刻失效
公开(公告)号：CN101124089A
公开(公告)日：2008-02-13
申请号：CN200580002142.0
申请日：2005-01-12
申请人：加利福尼亚大学董事会
发明人：陈勇
IPC分类号： B41D7/00 , B41C1/06 , B41F9/00 , B41F33/00 , H05C1/04 , B05D1/00 , B05D3/00 , H01T14/00 , H05H1/48
CPC分类号： B82Y10/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03G13/28 , G03G13/283 , G03G13/286
摘要：一种纳米级光刻方法，其中将具有导电表面和绝缘表面的图案的可再用导电掩模设置在衬底上，该衬底表面包含位于埋入的导电层上的电响应抗蚀剂层。当在导电掩模和埋入的导电层之间施加电场时，在邻近掩模的导电区域的部分中，改变抗蚀剂层。根据从掩模转移的图案，对衬底表面进行选择性处理，改变掩模去除以除去部分抗蚀剂层。衬底可以是目标衬底，或者衬底可以用于另一个衬底的光刻掩模步骤。在本发明的一个方案中，施加电荷的电极可以分为例如多个行和列，其中可以产生任何想得到的图案而不需要制造特定的掩模。

4. 发明授权

CN101124089B 纳米级电子光刻失效
公开(公告)号：CN101124089B
公开(公告)日：2011-02-09
申请号：CN200580002142.0
申请日：2005-01-12
申请人：加利福尼亚大学董事会
发明人：陈勇
IPC分类号： B41D7/00 , B41C1/06 , B41F9/00 , B41F33/00 , H05C1/04 , B05D1/00 , B05D3/00 , H01T14/00 , H05H1/48
CPC分类号： B82Y10/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03G13/28 , G03G13/283 , G03G13/286
摘要：一种纳米级光刻方法，其中将具有导电表面和绝缘表面的图案的可再用导电掩模设置在衬底上，该衬底表面包含位于埋入的导电层上的电响应抗蚀剂层。当在导电掩模和埋入的导电层之间施加电场时，在邻近掩模的导电区域的部分中，改变抗蚀剂层。根据从掩模转移的图案，对衬底表面进行选择性处理，改变掩模去除以除去部分抗蚀剂层。衬底可以是目标衬底，或者衬底可以用于另一个衬底的光刻掩模步骤。在本发明的一个方案中，施加电荷的电极可以分为例如多个行和列，其中可以产生任何想得到的图案而不需要制造特定的掩模。

5. 发明公开

CN1231636A 使用丝网印刷的陶瓷品浮雕装饰失效
公开(公告)号：CN1231636A
公开(公告)日：1999-10-13
申请号：CN97198238.4
申请日：1997-09-11
申请人：查特派克公司
发明人：诺曼·P·德巴斯蒂亚尼 , 理查德·R·卡尔森
IPC分类号： B41C1/06 , B41M1/12
CPC分类号： B41M1/12 , B41M3/12 , B44C1/1712
摘要：本发明为规模生产浮雕装饰陶瓷品的一种工艺。该工艺用专门技术把浮雕件丝网印刷到一转印贴花纸(13)上,该贴花纸一般已印制有普通两维主设计花纹(19)。该新工艺包括其中有不收敛穿孔(32)的极厚丝网印刷模板(31)。陶瓷油墨配制成其粘度超过一百万cps。该油墨抗流动,用一缓慢移动的刮板(42)将其压入模板穿孔中。所印刷的浮雕件由该贴花纸转印到一陶瓷品(10)上后用公知的窑烧熔合到该陶瓷品上。该浮雕件(12,45)以三维明显凸起在该陶瓷品上。

6. 实用新型

CN214792227U 一种制版专用的晾晒装置有权
公开(公告)号：CN214792227U
公开(公告)日：2021-11-19
申请号：CN202120202739.6
申请日：2021-01-25
申请人：张家港精工包装彩印有限公司
发明人：陈震
IPC分类号： F26B9/06 , F26B21/00 , F26B23/00 , F26B25/00 , B41C1/06
摘要：本申请涉及一种制版专用的晾晒装置，应用在制版设备的领域，其包括烘干箱体，烘干箱体的侧壁上铰接有箱门，烘干箱体与箱门相邻的一侧壁下部设有进风口，烘干箱体与箱门相邻的另一侧壁上部设有出风口，进风口内安装有送风机，烘干箱体的内壁位于送风机的出风端设置有加热管，烘干箱体的内部间隔设置有若干层用于放置网版的烘干架，烘干箱体的内部位于若干烘干架的下方设置有集液槽，烘干箱体的内顶壁由周侧朝中部向下拱起形成下拱面，烘干箱体的内部位于若干烘干架的上方设置有接液盆。本申请具有网版烘干过程中蒸发的水汽凝结在下拱面上形成水珠可回滴至接液盆内，提高网版烘干效率的效果。

7. 实用新型

CN201592540U 制版机的进版装置失效
公开(公告)号：CN201592540U
公开(公告)日：2010-09-29
申请号：CN200920352593.2
申请日：2009-12-30
申请人：潍坊华光精工设备有限公司
发明人：刘从云 , 祁凯 , 赵丰收
IPC分类号： B41C1/06
摘要：本实用新型公开了一种制版机的进版装置，包括连接在支撑横梁上的进版主动轮总成，进版主动轮总成由驱动电机、与驱动电机动力连接的传动轴以及与传动轴动力连接的主动轮组成，主动轮通过单向离合器连接在传动轴上。该进版装置结构简单，不会对版材造成拉伤和表面磨损。

8. 发明公开

EP0928245A4 RELIEF DECORATING OF CERAMIC ARTICLES USING SCREEN PRINTING PROCESSES 失效
标题翻译：救生员德克马尔·卡梅西森·安东尼·德里奇·斯坦福德
公开(公告)号：EP0928245A4
公开(公告)日：2000-02-02
申请号：EP97945255
申请日：1997-09-11
申请人： CHARTPAK INC
发明人： DE BASTIANI NORMAN P , CARLSON RICHARD R
IPC分类号： B41F15/34 , B41C1/06 , B41M1/12 , B41M3/12 , B44C1/17 , B44C1/14 , C04B41/45
CPC分类号： B41M1/12 , B41M3/12 , B44C1/1712
摘要： This invention is a process for a production basis relief decorating of ceramic articles. The process provides for a special technique for screen printing of relief features onto the surface of a transfer decal sheet (13), typically a decal sheet that has previously been printed with a conventional, two-dimensional primary design (19). The new process includes a screen printing stencil (31) of unusual thickness characterized by having non-convergent through openings (32). Ceramic inks are formulated to heavy viscosity in excess of one million cps. The ink is flow resistant in character, and is forced through the stencil openings by a slow moving squeegee (42). The printed design is transferred to a ceramic article (10) for the decal sheet, and is then fused to the ceramic article by kiln firing in the usual way. The relief design elements (12, 45) stand out prominently in three dimensions on the ceramic article.
摘要翻译：一种用于陶瓷制品的生产基础消除装饰的方法。代替常规的手动应用浮雕特征，该方法提供了一种用于将浮雕特征丝网印刷到转印贴花纸的表面上的特殊技术，通常是先前已经印有常规二维原始纸的贴花纸设计。新工艺包括不均匀厚度的至少0.015“至多达0.125”的丝网印刷模板，其特征在于具有不受限制的非会聚通孔。陶瓷油墨被配制成重的粘度，具有与花生酱相当的特征，其粘度超过100万厘泊。油墨具有流动性，并通过慢速移动的刮板被迫穿过模板孔。刮板的作用是在提取模板之前提供油墨与转印贴纸的表面的更长的驻留时间。将印刷设计从贴花片转移到陶瓷制品中，然后以通常的方法通过窑烧制将其熔合到陶瓷制品上。浮雕设计元素在陶瓷制品上三维突出。通过本发明的实践可以实现非凡的生产经济。

9. 发明公开

EP1219417A3 Maskenerstellung zur Herstellung einer Druckform 有权
标题翻译：创建用于生产印版的面具
公开(公告)号：EP1219417A3
公开(公告)日：2003-12-10
申请号：EP01129903.9
申请日：2001-12-15
申请人： MAN Roland Druckmaschinen AG
发明人： Schneider, Josef, Dr. , Schuster, Alfons , Stamme, Rainer , Schönert, Michael
IPC分类号： B41C1/10 , B41C1/02 , B41C1/06 , B41C1/14
CPC分类号： G03F1/68 , B41C1/1091
摘要： Um den Ablauf einer Maskenerstellung, insbesondere zur Herstellung einer Druckform 1, zu vereinfachen und gleichzeitig die Güte der mittels einer Maske hergestellten Druckform 1 zu verbessern, ist die Verwendung des laserinduzierten Thermotransfers vorgesehen, wobei bei der Maskenerstellung mittels einer Thermotransferfolie 5 und einer Laser-Bebilderungseinheit 6 die Strukturinformation 5c der Maske auf die Oberfläche eines Druckformträgers direkt aufgebracht wird, so dass mittels der aufgebrachten Strukturinformation 5c eine Differenzierung hinsichtlich Bildstellen und Nicht-Bildstellen direkt zur Herstellung einer Druckform 1 vorgenommen werden kann

10. 发明申请

WO2005070167A3 NANOSCALE ELECTRIC LITHOGRAPHY 审中-公开
公开(公告)号：WO2005070167A3
公开(公告)日：2007-05-31
申请号：PCT/US2005000901
申请日：2005-01-12
申请人： UNIV CALIFORNIA , CHEN YONG
发明人： CHEN YONG
IPC分类号： B41D7/00 , B05D1/00 , B05D3/00 , B41C1/06 , B41F9/00 , B41F33/00 , G03F7/00 , H01T14/00 , H05C1/04 , H05H1/48
CPC分类号： B82Y10/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03G13/28 , G03G13/283 , G03G13/286
摘要： A nanoscale lithographic method in which a reusable conductive mask, having a pattern of conductive surfaces and insulating surfaces, is positioned upon a substrate whose surface contains an electrically responsive resist layer over a buried conductive layer. When an electric field is applied between the conductive mask and buried conductive layer, the resist layer is altered in portions adjacent the conductive areas of the mask. Selective processing is performed on the surface of the substrate, alter mask removal, to remove portions of the resist layer according to the pattern transferred from the mask. The substrate may be a target substrate, or the substrate may be utilized for a lithographic masking step of another substrate. In one aspect of the invention the electrodes to which the charge is applied are divided, such as into a plurality of rows and columns wherein any desired pattern may be created without the need to fabricate specific masks.
摘要翻译：一种纳米级光刻方法，其中具有导电表面和绝缘表面图案的可重复使用的导电掩模位于其表面在掩埋导电层上包含电响应抗蚀剂层的基底上。当在导电掩模和掩埋导电层之间施加电场时，抗蚀剂层在与掩模的导电区域相邻的部分中改变。在基板的表面上进行选择性处理，改变掩模去除，以根据从掩模转印的图案去除抗蚀剂层的部分。衬底可以是目标衬底，或者衬底可以用于另一衬底的光刻掩模步骤。在本发明的一个方面，施加电荷的电极被分割成多个行和列，其中可以创建任何期望的图案，而不需要制造特定的掩模。

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