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1. 发明申请

WO2016156601A1 CHARGIERUNG VON WERKSTÜCKEN IN EINER BESCHICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：充电所加工的零件涂装线
公开(公告)号：WO2016156601A1
公开(公告)日：2016-10-06
申请号：PCT/EP2016/057279
申请日：2016-04-01
申请人： CEMECON AG
发明人： KÖLKER, Werner , MAY, Walter
IPC分类号： C23C14/50 , C23C16/458 , B05B13/02
CPC分类号： C23C16/4583 , B05B13/0221 , B05B13/0242 , C23C14/50 , C23C16/50
摘要： Beschrieben ist eine Chargiervorrichtung für Werkstücke (16) in einer Beschichtungsanlage (10) sowie ein Verfahren zum Chargieren der Werkstücke 16. Ein aufrecht angeordneter Ständer (22) weist in einer nach Außen weisenden Fläche (44) eine Anzahl von übereinander angeordneten Öffnungen (24) auf. Eine Anzahl von Einsatzhülsen (30) ist zur Aufnahme in den Öffnungen (24) vorgesehen, wobei die Einsatzhülsen (30) jeweils einen Schaft (32) und eine Haltestruktur (24) aufweisen, sowie eine Bohrung (26) zur Aufnahme eines Werkstücks (16). Die Öffnungen (24) und die Schäfte (32) der Einsatzhülsen (30) sind so ausgebildet, dass die Einsatzhülsen (30) durch die Öffnungen (24) hindurch steckbar sind. Die Öffnungen (24) und die Haltestrukturen (34) sind so ausgebildet, dass sich ein haltender Eingriff zwischen den Einsatzhülsen (30) und den Öffnungen (24) ergibt.
摘要翻译：本发明涉及一种用于在一个涂覆设备的工件（16）的充电装置（10），以及充电工件16.一种直立布置支架（22）具有，以面对的外表面（44）的数叠置开口的方法（24）上。被提供（30）一种数插入套筒中的开口（24），要被接收，其中，所述插入件套管（30），每个具有用于接收工件的柄（32）和支撑结构（24）和孔（26）（16 ）。所述开口（24）和所述插入套管（30）的柄部（32）被形成为使得所述插入管（30）通过开口（24）穿过其中是可插入的。形成开口（24）和所述保持结构（34），从而获得该插入套管（30）和所述开口（24）之间的保持接合。

2. 发明申请

WO2009132822A2 VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM VORBEHANDELN UND BESCHICHTEN VON KÖRPERN 审中-公开
标题翻译： DEVICE AND METHOD FOR预处理和包覆体
公开(公告)号：WO2009132822A2
公开(公告)日：2009-11-05
申请号：PCT/EP2009/003082
申请日：2009-04-28
申请人： CEMECON AG , CREMER, Rainer , MAY, Walter
发明人： CREMER, Rainer , MAY, Walter
IPC分类号： H01J37/34 , C23C14/35 , C23C14/34
CPC分类号： H01J37/3408 , C23C14/14 , C23C14/352 , H01J37/3444 , H01J37/3467 , H01J37/3473
摘要： Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Vorbehandeln und Beschichten von Körpern durch Magnetronzerstäuben. In einer Vakuumkammer mit metallischer Kammerwandung (26) sind Magnetrons mit Sputter-Targets angeordnet, von denen mindestens eines ein HPPMS-Magnetron ist, dem elektrische Pulse zugeführt werden, indem ein Kapazitätselement (6) durch ein Schaltelement (5) mit dem Sputter-Target des HPPMS-Magnetron verbunden wird. Um eine effektive Vorbehandlung und Beschichtung von Substraten zu ermöglichen, ist gemäß einem ersten Aspekt vorgesehen, dass das Schaltelement an der Kammerwandung angeordnet ist. Gemäß einem zweiten Aspekt ist ein Elektrodenpaar vorgesehen, von dem eine erste Elektrode ein HPPMS-Magnetron (1) ist und die erste und die zweite Elektrode so angeordnet sind, dass ein an einem Substrattisch (4) aufgenommener Körper (11) zwischen den aktiven Flächen des Elektrodenpaares angeordnet ist oder durch den Zwischenraum der aktiven Flächen des Elektrodenpaares bewegt wird. Als dritter Aspekt ist ein Verfahren vorgesehen, bei dem in einem Ätzschritt eine negative Bias-Spannung an dem Körper angelegt wird und der Körper durch Beschuss mit Metallionen geätzt wird und anschließend die Bias-Spannung kontinuierlich abgesenkt wird, so dass von den Sputter-Targets abgesputtertes Material zu einem Schichtaufbau auf dem Körper führt.
摘要翻译：本发明涉及一种装置和用于处理前和涂层制品通过磁控溅射的方法。在真空室中与磁控管的金属室壁（26）被布置成与溅射靶，其中之一是至少一种HPPMS磁控管，通过电容元件（6）由开关元件（5）与所述溅射靶供给到电脉冲 HPPMS磁控管连接。为了允许有效的预处理和底物的涂层，在第一方面中提供，所述开关元件被布置在所述腔室壁上。根据第二个方面，提供一对电极，其中第一电极是HPPMS磁控管（1）和所述第一和第二电极被布置为使得所述有源区之间的一个衬底台（4）记录体（11）所述一对电极被布置或由电极对的有源表面之间的空间中移动。作为第三方面，其中提供了一种方法，在蚀刻步骤中，负的偏置电压施加到所述主体和所述主体由轰击用金属离子进行蚀刻，然后将偏置电压被连续地降低，使得从溅射靶溅射材料对身体导致形成分层结构。

3. 发明申请

WO2007121954A1 BESCHICHTETER KÖRPER 审中-公开
标题翻译：涂覆体，
公开(公告)号：WO2007121954A1
公开(公告)日：2007-11-01
申请号：PCT/EP2007/003509
申请日：2007-04-20
申请人： CEMECON AG , CREMER, Rainer
发明人： CREMER, Rainer
IPC分类号： C23C14/06 , C23C14/08 , C23C14/10 , C23C14/35 , C23C28/02 , C23C30/00
CPC分类号： C23C14/08 , C23C14/0641 , C23C14/0676 , C23C14/352 , C23C28/042 , C23C28/044 , C23C28/048 , C23C28/42 , C23C30/00 , C23C30/005 , H01J37/3467
摘要： Ein beschichteter Körper und ein Verfahren zur Herstellung einer Hartstoffschicht auf einem Substrat werden beschrieben. Der Körper umfaßt ein Substrat (30) und eine auf dem Substrat (30) aufgebracht Hartstoffschicht (36), die den Körper mindestens teilweise bedeckt. Die Hartstoffschicht enthält die metallischen Elemente Al, Cr und Si sowie nicht-metallische Elemente ausgewählt aus der Gruppe B, C, N, O. Der atomare Anteil von Sauerstoff an den nicht-metallischen Elemente ist größer als 30%. Die Hartstoffschicht wird mittels Magnetronzerstäuben auf dem Substrat abgeschieden.
摘要翻译：一种涂覆体和用于生产在基材上的硬质材料层的方法进行说明。所述主体包括一个基片（30）和所述涂覆的衬底（30）的硬质材料层（36），所述主体至少部分地覆盖。所述硬质材料层含有选自B，C，N，O中的非金属元素的氧的原子分数为大于30％中选择的金属元素的Al，Cr和Si作为以及非金属元素。所述硬质材料层沉积通过磁控管溅射在衬底上。

4. 发明申请

WO2015036557A1 WERKZEUG SOWIE VERFAHREN ZUM ZERSPANEN VON FASERVERSTÄRKTEN MATERIALIEN 审中-公开
标题翻译：工具和方法去除纤维增强材料
公开(公告)号：WO2015036557A1
公开(公告)日：2015-03-19
申请号：PCT/EP2014/069531
申请日：2014-09-12
申请人： CEMECON AG
发明人： LEMMER, Oliver , WEIGAND, Manfred , WODA, Michael , PÜTZ, Werner , MESIC, Biljana
IPC分类号： B23B51/00 , B23B51/02 , B23C5/16 , B23P15/28 , C23C30/00
CPC分类号： B23B51/009 , B23B51/02 , B23B2226/27 , B23B2226/275 , B23B2226/31 , B23B2228/105 , B23B2228/36 , B23B2228/44 , B23C5/16 , B23C2226/27 , B23C2226/31 , B23C2228/10 , C23C16/27 , C23C28/046 , C23C30/005
摘要： Werkzeug zum Zerspanen von faserverstärkten Materialien, mit einem Werkzeugkörper (10) mit bestimmter Schneide (20) mit mindestens einer Hauptfunktionsfläche (6), und einer mindestens auf der Hauptfunktionsfläche (6) aufgebrachten Diamantbeschichtung (16). Um ein Werkzeug und ein Verfahren anzugeben, mit dem die Zerspanung von faserverstärkten Materialien besonders gut möglich ist, ist vorgesehen, dass die Oberfläche (26) der Diamantbeschichtung (16) eine reduzierte Spitzenhöhe Spk von weniger als 0,25 μm aufweist.
摘要翻译：工具用于加工纤维增强材料，包括工具主体（10）与具有至少一个主要的功能表面（6），并且至少在主功能面（6）给定的切削刃（20）沉积的金刚石涂层（16）。要指定的工具，通过该纤维增强材料的机械加工是特别可能的，提供了一种方法，该表面（26），其具有金刚石涂层（16）减小的峰高度SPK小于0.25微米。

5. 发明申请

WO2014154894A1 DENSE, HARD COATINGS ON SUBSTRATES USING HIPIMS 审中-公开
标题翻译： DENSE，使用HIPIMS的基材上的硬涂层
公开(公告)号：WO2014154894A1
公开(公告)日：2014-10-02
申请号：PCT/EP2014/056363
申请日：2014-03-28
申请人： CEMECON AG
发明人： GREENE, Joseph , PETROV, Ivan , GRECZYNSKI, Grzegorz , HULTMAN, Lars , KOELKER, Werner , BOLZ, Stephan
IPC分类号： H01J37/34 , C23C14/06 , C23C14/08 , C23C14/34 , C23C14/35
CPC分类号： H01J37/3429 , C23C14/0641 , C23C14/0676 , C23C14/08 , C23C14/345 , C23C14/3485 , C23C14/352 , H01J37/3444 , H01J37/3464 , H01J37/3467
摘要： A process and a device for coating a substrate (22) are described. In a vacuum chamber (10), a first magnetron cathode (24) is provided with a sputtering target (28) of a first material composition as predominant metal element a processing metal element chosen from Hf, Ta, Zr, W, Nb, Mo. A second magnetron cathode (26) is provided with a sputtering target (30) of a second material composition comprising predominantly carbon or one or more metals with a lower atomic mass than the processing metal element. In order to obtain coatings with improved properties, electrical power is supplied to the cathodes (24, 26) such that the targets (28, 30) are sputtered, where electrical power is supplied to the first cathode (24) as pulsed electrical power according to high power impulse magnetron sputtering with a first peak current density, and to the second cathode (26) as DC electrical power with a constant second current density or as time-variable electrical power with a second peak current density lower than the first peak current density. The substrate (22) is arranged within the vacuum chamber such that particles from the plasma deposit onto the substrate forming a coating. During the deposition process, a bias voltage VB is applied to the substrate comprising bias pulses which are synchronized with pulses applied to the first cathode, and are applied for a shorter duration TB than the pulses at the first cathode. Thus, a coated body may be formed with a substrate (22) and a coating layer (52) which comprises oxides, nitrides, or oxynitrides of carbon or metals selected from the groups 4-6 of the periodic table and at least one processing metal element selected out of Hf, Ta, W, Zr, Nb and Mo, present in an atomic concentration of 1 - 18 at.-%. The coating layer (52) comprises a process gas concentration of 0.3 at.-% or less.
摘要翻译：描述了用于涂覆基底（22）的方法和装置。在真空室（10）中，第一磁控阴极（24）设置有作为主要金属元素的第一材料组合物的溅射靶（28），选自Hf，Ta，Zr，W，Nb，Mo的加工金属元素第二磁控阴极（26）设置有主要包含比加工金属元素低的原子质量的碳或一种或多种金属的第二材料组合物的溅射靶（30）。为了获得具有改进性能的涂层，向阴极（24,26）供电，使得靶（28,30）被溅射，其中以第一阴极（24）供应电力作为脉冲电功率具有第一峰值电流密度的高功率脉冲磁控溅射和作为具有恒定的第二电流密度的DC电力的第二阴极（26），或者具有低于第一峰值电流的第二峰值电流密度的时变电力密度。衬底（22）布置在真空室内，使得来自等离子体的颗粒沉积到形成涂层的基底上。在沉积工艺期间，将偏置电压VB施加到包括与施加到第一阴极的脉冲同步的偏置脉冲的衬底，并施加比第一阴极的脉冲更短的持续时间TB。因此，涂覆体可以形成有基材（22）和包含选自元素周期表第4-6族中的碳或金属的氧化物，氮化物或氮氧化物的涂层（52），以及至少一种加工金属选自Hf，Ta，W，Zr，Nb和Mo的元素，原子浓度为1〜18原子％。涂层（52）包括0.3原子％以下的处理气体浓度。

6. 发明申请

WO2013045454A2 COATING OF SUBSTRATES USING HIPIMS 审中-公开
标题翻译：使用HIPIMS涂覆基材
公开(公告)号：WO2013045454A2
公开(公告)日：2013-04-04
申请号：PCT/EP2012/068887
申请日：2012-09-25
申请人： CEMECON AG
发明人： HULTMAN, Lars , GRECZYNSKI, Grzegorz , LEMMER, Oliver , KÖLKER, Werner , BOLZ, Stephan
IPC分类号： C23C14/00
CPC分类号： C23C14/3414 , C23C14/0641 , C23C14/35 , C23C14/352 , C23C30/005 , Y10T428/265
摘要： A process and a device for coating a substrate (22) are described. In a vacuum chamber (10), a first magnetron cathode (24) is provided with a sputtering target (28) of a first metal composition comprising predominantly aluminium.A second magnetron cathode (26) is provided with a sputtering target (30) of a second metal composition comprising at least 50 at-% of a second metal selected from groups IVA – VIA of the periodic table. In order to obtain coatings with improved properties, electrical power is supplied to the cathodes (24, 26) such that the targets (28, 30) are sputtered, where electrical power is supplied to the first cathode (24) as pulsed electrical power according to high power impulse magnetron sputtering with a first peak current density, and to the second cathode (26) with a second peak current density lower than the first peak current density. The substrate (22) is arranged within the vacuum chamber such that particles from the plasma deposit onto the substrate forming a coating.
摘要翻译：描述了用于涂覆基底（22）的方法和装置。在真空室（10）中，第一磁控阴极（24）设置有主要包含铝的第一金属组合物的溅射靶（28）。第二磁控阴极（26）设置有溅射靶（30）第二金属组合物，其包含至少50at％的选自周期表的IVA-VIA族的第二种金属。为了获得具有改进性能的涂层，向阴极（24,26）供电，使得靶（28,30）被溅射，其中以第一阴极（24）供应电力作为脉冲电功率到具有第一峰值电流密度的高功率脉冲磁控溅射，以及具有低于第一峰值电流密度的第二峰值电流密度的第二阴极（26）。衬底（22）布置在真空室内，使得来自等离子体的颗粒沉积到形成涂层的基底上。

7. 发明申请

WO2003085152A3 BESCHICHTETER KÖRPER UND EIN VERFAHREN ZUR BESCHICHTUNG EINES KÖRPERS 审中-公开
公开(公告)号：WO2003085152A3
公开(公告)日：2003-10-16
申请号：PCT/EP2003/003737
申请日：2003-04-10
申请人： CEMECON AG , CREMER, Rainer , ERKENS, Georg , LEYENDECKER, Antonius
发明人： CREMER, Rainer , ERKENS, Georg , LEYENDECKER, Antonius
IPC分类号： C23C14/06
摘要： Beschrieben werden ein beschichteter Körper und ein Verfahren zur Beschichtung eines Körpers. Zur Verbesserung der mechanischen Eigenschaften ist es bekannt, die Oberfläche von Körpern zu beschichten, insbesondere für Werkzeuge wie Bohrer, Fräser oder endeschneidplatten. Vorgeschlagen wird eine Schicht mit besonders vorteilhaften Eigenschaften. Die Schicht besteht aus einem Materialsystem mit den Elementen Al, N und einem weiteren Element, wobei das weitere Element die Eigenschaft hat, dass es kubische Nitride in NaCl-Struktur ausbildet. Die Schichten zeichnen sich dadurch aus, dass sie eine geringe elektrische Leitfähigkeit aufweisen. Diese wird beispielsweise für Ti-Al-N bei einem hohen Al-N Anteil von mehr als 65 Mol-% erreicht. Eine solche Schicht kann in einer PVD-Beschichtungsvorrichtung erzeugt werden, in der Elektroden mit Wechselspannung betrieben und zerstäubt werden und die Prozessparameter so eingestellt werden, dass die Schicht eine geringe elektrische Leitfähigkeit aufweist.

8. 发明申请

WO2017089597A1 BESCHICHTUNG EINES KÖRPERS MIT DIAMANTSCHICHT UND HARTSTOFFSCHICHT 审中-公开
标题翻译：涂有金刚石涂层和硬质涂层的车身
公开(公告)号：WO2017089597A1
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：PCT/EP2016/078912
申请日：2016-11-25
申请人： CEMECON AG
发明人： BOLZ, Stephan , LEMMER, Oliver , LEYENDECKER, Antonius
IPC分类号： C23C16/27 , C23C28/04 , C23C14/02 , C23C16/02 , C23C28/00
CPC分类号： C23C16/27 , C23C14/022 , C23C16/0281 , C23C28/324 , C23C28/341 , C23C28/343 , C23C28/347 , C23C28/36 , C23C28/44
摘要： Beschrieben sind ein beschichteter Körper und ein Verfahren zur Beschichtung eines Körpers. Der beschichtete Körper umfasst mindestens ein Substrat (22), eine Diamantschicht (24) einer Dicke von 1 – 40 µm und eine Hartstoffschicht (26), die am Körper (10) weiter außen als die Diamantschicht (24) angeordnet ist. Die Hartstoffschicht (26) umfasst mindestens ein metallisches Element und mindestens ein nichtmetallisches Element. Eine Haftschicht (32) einer Dicke von 2 – 80 nm ist zwischen der Diamantschicht (24) und der Hartstoffschicht (26) vorgesehen. Die Haftschicht (32) enthält Kohlenstoff und mindestens ein metallisches Element. Die Diamantschicht (24) kann mittels eines CVD-Verfahrens aufgebracht werden. Die Hartstoffschicht kann mittels eines PVD-Verfahrens aufgebracht werden. Die Haftschicht (32) zwischen der Diamantschicht (24) und der Hartstoffschicht (26) kann erzeugt werden, indem vor Aufbringen der Hartstoffschicht (26) die Oberfläche der Diamantschicht (24) mittels HIPIMS-Metallionenätzung vorbehandelt wird, wobei durch Metallionenätzung Ionen in die Oberfläche der Diamantschicht (24) implantiert werden oder eindiffundieren.
摘要翻译：描述了涂覆体和涂覆身体的过程。将涂覆的K＆ouml;主体包括至少一个基板（22），厚度为1的金刚石层（24）至40微; m和形成在K＆ouml的硬质材料层（26）;主体（10）还坳道恩比金刚石层（ 24）被安排。硬质材料层（26）包括至少一个金属元件和至少一个非金属元件。在金刚石层（24）和硬质材料层（26）之间设置厚度为2-80nm的粘合剂层（32）。粘合剂层（32）含有碳和至少一种金属元素。金刚石层（24）可以通过CVD方法施加。硬质材料层可以通过PVD工艺施加。金刚石层（24）和所述硬质材料层（26）之间的粘接层（32）可以通过之前，借助于施加硬质材料层（26）的金刚石层（24）的表面BEAR表面HIPIMS金属离子BEAR预处理估计，其中金属离子与AUML来制造离子注入或扩散到金刚石层（24）的表面。

9. 发明申请

WO2011135100A1 BESCHICHTETER KÖRPER SOWIE EIN VERFAHREN ZUR BESCHICHTUNG EINES KÖRPERS 审中-公开
标题翻译：涂覆体，AND METHOD FOR涂层体
公开(公告)号：WO2011135100A1
公开(公告)日：2011-11-03
申请号：PCT/EP2011/056968
申请日：2011-05-02
申请人： CEMECON AG , BAREISS, Christian , KÖLKER, Werner , LEMMER, Oliver
发明人： BAREISS, Christian , KÖLKER, Werner , LEMMER, Oliver
IPC分类号： C23C16/02 , C23C16/27
CPC分类号： C23C16/0281 , C23C16/271 , Y10T428/12625 , Y10T428/24355 , Y10T428/264 , Y10T428/31678
摘要： Die Erfindung betrifft einen Körper mit einem Substrat (1) und einer darüber aufgebrachten Zwischenschicht (2) und einer auf der Zwischenschicht aufgebrachten CVD-Diamantschicht (3). Um einen mit CVD-Diamant beschichteten Körper und Verfahren zur Herstellung vorzuschlagen, wobei der Körper eine erhöhte Belastbarkeit bei verschiedenen mechanischen Belastungen aufweist, ist vorgesehen, dass die Zwischenschicht überwiegend metallisch ist, wobei der Metallanteil der Zwischenschicht überwiegend aus Wolfram und/oder Chrom besteht, und die Zwischenschicht eine Rauheit aufweist, definiert durch einen Rz-Wert von 0,5 μm -3,0 μm.
摘要翻译：本发明涉及一种具有衬底（1）和主体的施加在施加到中间层的CVD金刚石层的中间层（2）和力（3）。谈判涂有CVD金刚石体及其制备方法，其中，所述主体具有用于各种机械应力的增加的容量的载体，它提供的是，中间层主要是金属性的，主要由钨和/或铬的中间层中的金属含量，和中间层具有0.5微米-3.0微米的的Rz值定义的粗糙度。

10. 发明申请

WO2011020859A1 BESCHICHTETES WERKZEUG 审中-公开
标题翻译：涂层刀具
公开(公告)号：WO2011020859A1
公开(公告)日：2011-02-24
申请号：PCT/EP2010/062054
申请日：2010-08-18
申请人： CEMECON AG , LEYENDECKER, Antonius , KLING, Manfred , LEMMER, Oliver
发明人： LEYENDECKER, Antonius , KLING, Manfred , LEMMER, Oliver
IPC分类号： B23C5/00 , B23B51/02 , B23C5/10
CPC分类号： B23C5/10 , B23B51/02 , B23B2222/28 , B23B2226/275 , B23B2226/31 , B23B2228/04 , B23B2228/105 , B23B2251/205 , B23C2210/204 , B23C2210/206 , B23C2222/28 , B23C2226/27 , B23C2226/31 , B23C2228/04 , B23C2228/10 , H05K3/0044
摘要： Die Erfindung betrifft betrifft einen Schaftfräser oder Bohrer aus Vollhartmetall zum Zerspanen oder Bohren von faserverstärkten Materialien oder Leiterplatten. Der Schaftfräser ist versehen mit einer CVD-Diamantschicht. Um eine vorteilhafte und kostengünstige Ausgestaltung des Werkzeugs zu erreichen, mit der erhöhte Belastbarkeit und lange Stanzzeit beim Zerspanen der genannten Werkstoffe erzielt werden kann, ohne dass es zu einer reduzierten Oberflächenqualität der bearbeiteten Oberflächen kommt, weist der Fräser oder Bohrer zumindest in einer Ebene senkrecht zu seiner Rotationsachse eine ungerade Anzahl von Hauptschneiden auf.
摘要翻译：本发明涉及涉及一种端铣刀或固体硬质合金钻头的用于切割或纤维增强材料或印刷电路板的钻孔。端铣刀上设置有CVD金刚石层。为了实现所述工具的一个有利的和具有成本效益实施例中，可以与所述材料的加工过程中增加的容量和长切削时间来实现，而不垂直导致加工表面的减小的表面质量，铣刀或钻头，在一个平面上的至少对其上的奇数个主切削刃的旋转轴线。

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