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1. 发明申请

WO2011020859A1 BESCHICHTETES WERKZEUG 审中-公开
标题翻译：涂层刀具
公开(公告)号：WO2011020859A1
公开(公告)日：2011-02-24
申请号：PCT/EP2010/062054
申请日：2010-08-18
申请人： CEMECON AG , LEYENDECKER, Antonius , KLING, Manfred , LEMMER, Oliver
发明人： LEYENDECKER, Antonius , KLING, Manfred , LEMMER, Oliver
IPC分类号： B23C5/00 , B23B51/02 , B23C5/10
CPC分类号： B23C5/10 , B23B51/02 , B23B2222/28 , B23B2226/275 , B23B2226/31 , B23B2228/04 , B23B2228/105 , B23B2251/205 , B23C2210/204 , B23C2210/206 , B23C2222/28 , B23C2226/27 , B23C2226/31 , B23C2228/04 , B23C2228/10 , H05K3/0044
摘要： Die Erfindung betrifft betrifft einen Schaftfräser oder Bohrer aus Vollhartmetall zum Zerspanen oder Bohren von faserverstärkten Materialien oder Leiterplatten. Der Schaftfräser ist versehen mit einer CVD-Diamantschicht. Um eine vorteilhafte und kostengünstige Ausgestaltung des Werkzeugs zu erreichen, mit der erhöhte Belastbarkeit und lange Stanzzeit beim Zerspanen der genannten Werkstoffe erzielt werden kann, ohne dass es zu einer reduzierten Oberflächenqualität der bearbeiteten Oberflächen kommt, weist der Fräser oder Bohrer zumindest in einer Ebene senkrecht zu seiner Rotationsachse eine ungerade Anzahl von Hauptschneiden auf.
摘要翻译：本发明涉及涉及一种端铣刀或固体硬质合金钻头的用于切割或纤维增强材料或印刷电路板的钻孔。端铣刀上设置有CVD金刚石层。为了实现所述工具的一个有利的和具有成本效益实施例中，可以与所述材料的加工过程中增加的容量和长切削时间来实现，而不垂直导致加工表面的减小的表面质量，铣刀或钻头，在一个平面上的至少对其上的奇数个主切削刃的旋转轴线。

2. 发明申请

WO2003085152A3 BESCHICHTETER KÖRPER UND EIN VERFAHREN ZUR BESCHICHTUNG EINES KÖRPERS 审中-公开
公开(公告)号：WO2003085152A3
公开(公告)日：2003-10-16
申请号：PCT/EP2003/003737
申请日：2003-04-10
申请人： CEMECON AG , CREMER, Rainer , ERKENS, Georg , LEYENDECKER, Antonius
发明人： CREMER, Rainer , ERKENS, Georg , LEYENDECKER, Antonius
IPC分类号： C23C14/06
摘要： Beschrieben werden ein beschichteter Körper und ein Verfahren zur Beschichtung eines Körpers. Zur Verbesserung der mechanischen Eigenschaften ist es bekannt, die Oberfläche von Körpern zu beschichten, insbesondere für Werkzeuge wie Bohrer, Fräser oder endeschneidplatten. Vorgeschlagen wird eine Schicht mit besonders vorteilhaften Eigenschaften. Die Schicht besteht aus einem Materialsystem mit den Elementen Al, N und einem weiteren Element, wobei das weitere Element die Eigenschaft hat, dass es kubische Nitride in NaCl-Struktur ausbildet. Die Schichten zeichnen sich dadurch aus, dass sie eine geringe elektrische Leitfähigkeit aufweisen. Diese wird beispielsweise für Ti-Al-N bei einem hohen Al-N Anteil von mehr als 65 Mol-% erreicht. Eine solche Schicht kann in einer PVD-Beschichtungsvorrichtung erzeugt werden, in der Elektroden mit Wechselspannung betrieben und zerstäubt werden und die Prozessparameter so eingestellt werden, dass die Schicht eine geringe elektrische Leitfähigkeit aufweist.

3. 发明申请

WO2017089597A1 BESCHICHTUNG EINES KÖRPERS MIT DIAMANTSCHICHT UND HARTSTOFFSCHICHT 审中-公开
标题翻译：涂有金刚石涂层和硬质涂层的车身
公开(公告)号：WO2017089597A1
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：PCT/EP2016/078912
申请日：2016-11-25
申请人： CEMECON AG
发明人： BOLZ, Stephan , LEMMER, Oliver , LEYENDECKER, Antonius
IPC分类号： C23C16/27 , C23C28/04 , C23C14/02 , C23C16/02 , C23C28/00
CPC分类号： C23C16/27 , C23C14/022 , C23C16/0281 , C23C28/324 , C23C28/341 , C23C28/343 , C23C28/347 , C23C28/36 , C23C28/44
摘要： Beschrieben sind ein beschichteter Körper und ein Verfahren zur Beschichtung eines Körpers. Der beschichtete Körper umfasst mindestens ein Substrat (22), eine Diamantschicht (24) einer Dicke von 1 – 40 µm und eine Hartstoffschicht (26), die am Körper (10) weiter außen als die Diamantschicht (24) angeordnet ist. Die Hartstoffschicht (26) umfasst mindestens ein metallisches Element und mindestens ein nichtmetallisches Element. Eine Haftschicht (32) einer Dicke von 2 – 80 nm ist zwischen der Diamantschicht (24) und der Hartstoffschicht (26) vorgesehen. Die Haftschicht (32) enthält Kohlenstoff und mindestens ein metallisches Element. Die Diamantschicht (24) kann mittels eines CVD-Verfahrens aufgebracht werden. Die Hartstoffschicht kann mittels eines PVD-Verfahrens aufgebracht werden. Die Haftschicht (32) zwischen der Diamantschicht (24) und der Hartstoffschicht (26) kann erzeugt werden, indem vor Aufbringen der Hartstoffschicht (26) die Oberfläche der Diamantschicht (24) mittels HIPIMS-Metallionenätzung vorbehandelt wird, wobei durch Metallionenätzung Ionen in die Oberfläche der Diamantschicht (24) implantiert werden oder eindiffundieren.
摘要翻译：描述了涂覆体和涂覆身体的过程。将涂覆的K＆ouml;主体包括至少一个基板（22），厚度为1的金刚石层（24）至40微; m和形成在K＆ouml的硬质材料层（26）;主体（10）还坳道恩比金刚石层（ 24）被安排。硬质材料层（26）包括至少一个金属元件和至少一个非金属元件。在金刚石层（24）和硬质材料层（26）之间设置厚度为2-80nm的粘合剂层（32）。粘合剂层（32）含有碳和至少一种金属元素。金刚石层（24）可以通过CVD方法施加。硬质材料层可以通过PVD工艺施加。金刚石层（24）和所述硬质材料层（26）之间的粘接层（32）可以通过之前，借助于施加硬质材料层（26）的金刚石层（24）的表面BEAR表面HIPIMS金属离子BEAR预处理估计，其中金属离子与AUML来制造离子注入或扩散到金刚石层（24）的表面。

4. 发明授权

EP0975820B1 HARD MATERIAL COATING OF A CEMENTED CARBIDE OR CARBIDE CONTAINING CERMET SUBSTRATE 失效
标题翻译：涂层的KARBIDVERBUNDKÖRPERS或KARBIDENTHALTENDEN金属陶瓷与硬质材料
公开(公告)号：EP0975820B1
公开(公告)日：2004-04-28
申请号：EP98906917.4
申请日：1998-02-05
申请人： CemeCon AG
发明人： LEYENDECKER, Antonius , LEMMER, Oliver , FRANK, Martin
IPC分类号： C23C16/02 , C23C16/26 , C04B41/50 , C04B41/53
CPC分类号： C23C16/0218 , C23C16/46 , Y10T428/24355 , Y10T428/24975 , Y10T428/25 , Y10T428/252 , Y10T428/30
摘要： The present invention relates to a component coated with a hard material, in particular diamond, for example a tool, to a process for its production and to a device for carrying out the process. In case of such a component the adhesion of the hard material layer often, in particular with fine-grained substrate materials, not satisfactory and it is an object of the invention to improve it. This is achieved by a process for the production of a component coated with a hard material, for example a tool, comprising the steps of: a) introducing a fine-grained cemented carbide or carbide-containing cermet substrate into a vacuum system with a heating device and at least one gas feed connection; b) removing carbon from the carbides of a surface layer of the substrate at a substrate temperature in the region of about 900 DEG C to about 1400 DEG C and in an oxygen-containing atmosphere; c) introducing carbon into the surface layer of the substrate at a substrate temperature in the region of about 900 DEG C to about 1400 DEG C and in a carbon-containing atmosphere; and d) coating the substrate with the hard material. The component itself as derived by this process and a device for carrying out the process are also subjects of the invention.

5. 发明授权

EP1198609B1 PROCESS FOR PRODUCING A HARD-MATERIAL-COATED COMPONENT 有权
标题翻译：用于生产硬质金属涂布组件
公开(公告)号：EP1198609B1
公开(公告)日：2003-03-12
申请号：EP00943746.8
申请日：2000-05-29
申请人： CemeCon AG
发明人： LEYENDECKER, Antonius , FUSS, Hans-Gerd , WENKE, Rainer , ERKENS, Georg , ESSER, Stefan , KÜNZEL, Ingo
IPC分类号： C23C14/58 , C23C30/00 , B24C1/10
CPC分类号： C23C14/5886 , B24C1/08 , C23C14/58
摘要： The invention relates to a process for producing a hard-material-coated component, comprising the following steps: application of a layer of hard material to the component in a PVD coating unit; and structural further processing of the outer surface of the layer of hard material, and to a component produced using the process. Particularly in the case of thick coatings or coatings with a columnar structure, such processes have a problem producing a sufficiently smooth surface on the coating. This problem is solved by the fact that for the structural further processing, the surface of the layer is blasted in a blasting device in order to improve this surface, an inorganic blasting agent with a grain size in the range from 1 mu m to 100 mu m and a sharp-edged grain shape being used.

6. 发明公开

EP3380645A1 BESCHICHTUNG EINES KÖRPERS MIT DIAMANTSCHICHT UND HARTSTOFFSCHICHT 有权
公开(公告)号：EP3380645A1
公开(公告)日：2018-10-03
申请号：EP16809300.3
申请日：2016-11-25
申请人： CemeCon AG
发明人： BOLZ, Stephan , LEMMER, Oliver , LEYENDECKER, Antonius
IPC分类号： C23C16/27 , C23C28/04 , C23C14/02 , C23C16/02 , C23C28/00
CPC分类号： C23C16/27 , C23C14/022 , C23C16/0281 , C23C28/324 , C23C28/341 , C23C28/343 , C23C28/347 , C23C28/36 , C23C28/44
摘要： The invention relates to a coated body and to a method for coating a body. The coated body comprises at least a substrate (22), a layer of diamond (24) having a thickness of 1-40 µm, and a layer of hard material (26), which is arranged further outside on the body (10) than the layer of diamond (24). The layer of hard material (26) comprises at least one metal element and at least one non-metal element. An adhesive layer (32) having a thickness of 2-80 nm is provided between the layer of diamond (24) and the layer of hard material (26). The adhesive layer (32) contains carbon and at least one metal element. The layer of diamond (24) can be applied by mans of a CVD method. The layer of hard material can be applied by means of a PVD method. The adhesive layer (32) between the layer of diamond (24) and the layer of hard material (26) can be produced in that, before the layer of hard material (26) is applied, the surface of the layer of diamond (24) is pretreated by means of HIPIMS metal ion etching, wherein ions are implanted into or diffuse into the surface of the layer of diamond (24) by means of metal ion etching.

7. 发明授权

EP1198609B2 PROCESS FOR PRODUCING A HARD-MATERIAL-COATED COMPONENT 有权
标题翻译：用于生产硬质金属涂布组件
公开(公告)号：EP1198609B2
公开(公告)日：2007-10-31
申请号：EP00943746.8
申请日：2000-05-29
申请人： CemeCon AG
发明人： LEYENDECKER, Antonius , FUSS, Hans-Gerd , WENKE, Rainer , ERKENS, Georg , ESSER, Stefan , KÜNZEL, Ingo
IPC分类号： C23C14/58 , C23C30/00 , B24C1/10
CPC分类号： C23C14/5886 , B24C1/08 , C23C14/58
摘要： The invention relates to a process for producing a hard-material-coated component, comprising the following steps: application of a layer of hard material to the component in a PVD coating unit; and structural further processing of the outer surface of the layer of hard material, and to a component produced using the process. Particularly in the case of thick coatings or coatings with a columnar structure, such processes have a problem producing a sufficiently smooth surface on the coating. This problem is solved by the fact that for the structural further processing, the surface of the layer is blasted in a blasting device in order to improve this surface, an inorganic blasting agent with a grain size in the range from 1 mu m to 100 mu m and a sharp-edged grain shape being used.

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